『スクリーンマスク』

当社の『スクリーンマスク』は、解像性に優れ、50umの微細パターンの再現が可能な「T5マスク」をはじめ、「T4マスク」や、「T3マスク」をラインアップしています。

【耐水・耐溶剤加工について】
ペーストや洗浄剤に含まれる溶剤に対し、乳剤の膨潤を抑制します。
連続印刷時の膜厚変動防止に対して有効です。

※その他オプション詳細はPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）

当社の半導体関連マスク部門は、CAD設計からマスク製造までを行う一貫生産体制を構築しております。

スクリーンマスクにおいては、工程ごとの厳しい品質管理を徹底し、万全の検査・機密保持管理体制を整え、新鋭機器を駆使した高品質、大量生産、低コストでの生産が可能です。
対応スピードと幅広い品ぞろえの両面での充実を実現いたします！

【T5マスクについて】
■用途…配線パターン印刷
■特徴
・優れた解像性
・50umの微細パターンの再現が可能
・耐摩耗性、耐溶剤性
・繰り返しの使用にも対応

※乳剤タイプの比較資料はPDFをダウンロード、もしくはお気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）

当社の半導体関連マスク部門は、CAD設計からマスク製造までを行う一貫生産体制を構築しております。

スクリーンマスクにおいては、工程ごとの厳しい品質管理を徹底し、万全の検査・機密保持管理体制を整え、新鋭機器を駆使した高品質、大量生産、低コストでの生産が可能です。
対応スピードと幅広い品ぞろえの両面での充実を実現いたします！

【T4マスクについて】
■用途…配線パターン印刷、ベタパターン印刷
■特徴
・100μmの配線パターンに対応可能
・ベタパターン印刷にも対応できるマルチな性能

※乳剤タイプの比較資料はPDFをダウンロード、もしくはお気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）

当社の『スクリーンマスク』は、解像性に優れ、50umの微細パターンの再現が可能な「T5マスク」をはじめ、「T4マスク」や、「T3マスク」をラインアップしています。

【撥水・撥油加工について】
ペーストの吐出性をコントロールし、印刷ニジミ防止に有効です。
連続印刷性の向上が期待できます。

※その他オプション詳細はPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）

当社の半導体関連マスク部門は、CAD設計からマスク製造までを一貫生産体制で行います。

スクリーンマスクにおいては、工程ごとの厳しい品質管理を徹底し、万全の検査・機密保持管理体制を整え、新鋭機器を駆使して高品質、大量生産、低コスト生産が可能です。
対応スピードと幅広い品ぞろえの両面の充実を実現いたします。

当社の『スクリーンマスク』は、解像性に優れ、50umの微細パターンの再現が可能な「T5マスク」をはじめ、「T4マスク」や、「T3マスク」をラインアップしています。

【仕様】
■枠サイズ
　・最大サイズ：□1,000mm
■メッシュ種
　・ポリエステル/ステンレス
■標準メッシュカウント　
　・ポリエステル：120～305（本/インチ）
　・ステンレス：165～500（本/インチ）

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）