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最終更新日:2019/02/22

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プラズマCVD装置『PEGASUS』

基本情報プラズマCVD装置『PEGASUS』

低温(40℃以下)でカバレッジ、埋め込み平坦化の成膜が可能!

『PEGASUS』は、CMOS、メモリ、TSVのデバイス(~φ300mm)基板への
絶縁膜、保護膜の形成プロセスに低温で緻密な安定した成膜が可能な
量産対応型プラズマCVD装置です。

インターロック機構による、高い安全性を持ち合わせており、ウエハ
接触部位に非金属を使用しているため、裏面からの汚染を防止します。

【特長】
■低温成膜
■メンテナンス性
■ウエハ取扱い
■フットプリント
■保守メンテナンス など

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

プラズマCVD装置『PEGASUS』

プラズマCVD装置『PEGASUS』 製品画像

『PEGASUS』は、CMOS、メモリ、TSVのデバイス(~φ300mm)基板への
絶縁膜、保護膜の形成プロセスに低温で緻密な安定した成膜が可能な
量産対応型プラズマCVD装置です。

インターロック機構による、高い安全性を持ち合わせており、ウエハ
接触部位に非金属を使用しているため、裏面からの汚染を防止します。

【特長】
■低温成膜
■メンテナンス性
■ウエハ取扱い
■フットプリント
■保守メンテナンス など

※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 (詳細を見る

取扱会社 プラズマCVD装置『PEGASUS』

株式会社セルバック

■半導体製造装置に関する、製造及び営業販売

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