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最終更新日:2018-11-30 11:36:42.0

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【総合カタログ】真空機器・部品

基本情報【総合カタログ】真空機器・部品

研究者と、生きる!「あったらいいな!」をカタチにします!

チャンバーから導入機、各種規格部品まで真空部品のことならお任せ下さい。

【掲載内容】
◆製品案内 真空部品
・ICF規格品
・ISO(KF・LF)規格品(NW)
・JIS規格品
・チューブ継手付ブラシ
・ガス導入バルブ付フランジ
・ガスライン用フレキシブルチューブ
・電流導入端子シリーズ
・低温高圧セル
・アクセサリー
◆製品案内 導入機
・直線導入機(Z軸)
・上下機構(Z軸)
・中空直線導入機(Z軸)
・過移転導入機(φ軸)
・中空回転導入機(φ軸)
・トランスファーロッド(Z-φ軸)
・Xステージ・X/Yステージ(X-Y軸) など

◆製品案内 チャンバー
◆技術資料 など

※ダウンロードボタンより掲載内容一覧をご覧頂けます。 
カタログご希望の方は、お問い合わせ下さい。

真空機器・部品 総合カタログ  無料プレゼント

真空機器・部品 総合カタログ  無料プレゼント 製品画像

最新の真空機器・部品総合カタログ!
真空部品・機器を扱う研究者・技術者必携の一冊です。

★☆今なら、先着100名様に無料プレゼント中☆★
◆カタログご希望の方は、資料請求よりお問い合わせ下さい◆ (詳細を見る

価格帯 お問い合わせください 納期 即日

3次元アトムプローブ装置改善事例

3次元アトムプローブ装置改善事例 製品画像

◆◇◆経緯◆◇◆

3次元アトムプローブ装置(3D-AP)において、Tip(アトムプローブ分析では
試料表面に高電界を加えるために針状の試料を用いる)表面からの電界蒸発を、
従来の高圧印加ではなく、レーザー照射により行う事となった。

その為、Tip先端にレーザーを局所的に照射する必要がある。
しかし、FIM像(原子)を安定させる為に用いている冷凍機の振動により、
Tip先端へのレーザーの照射位置を確定する事が困難となっていた。 (詳細を見る

3次元アトムプローブ装置 (3D-AP) 用 極高真空装置

3次元アトムプローブ装置 (3D-AP) 用 極高真空装置 製品画像

1988年にオックスフォード大学のA. Cerezoらにより開発された位置敏感型アトムプローブ(position sensitive atom probe, PoSAP)は、アトムプローブの検出器に位置敏感型検出器(position sensitive detector)を取り入れたもので、分析に際してアパーチャーを用いずに検出器に到達した原子の飛行時間と位置を同時に測定するこができる装置です。この装置を用いれば試料表面に存在する合金中の全構成元素を原子レベルの空間分解能で2次元マップとして表示する事が出来るばかりでなく、電界蒸発現象を用いて試料表面を一原子層ずつ蒸発させることにより、2次元マップを深さ方向に拡張していくことにより3次元マップとして表示・分析が出来る顕微鏡装置です。 (詳細を見る

電子エネルギー分析システム(CMA)

電子エネルギー分析システム(CMA) 製品画像

分析機器としては、非常にコンパクトな『KCMA2009』。本体と電源及び測定用ソフトウエアを標準装備しております。真空チャンバーの空きポートに簡単に接続され、スペースを全く取らない、電子銃内蔵型の電子エネルギー分析システムとなります。 (詳細を見る

トランスファーロッド・アクセサリー/プロテクター

トランスファーロッド・アクセサリー/プロテクター 製品画像

●特徴
通常トランスファーロッドは装置本体から外側に大きく張り出す場合が多く、装置の操作時や通行時、接触や衝突による装置・機器の破損を招く可能性があります。このプロテクターは、軽微な接触・衝突事故などから装置・機器を守るばかりでなく研究者、作業者の怪我や事故を防止することが可能です。
 (詳細を見る

極・超高真空チャンバー

極・超高真空チャンバー 製品画像

北野精機では、お客様の多岐に渡る研究用途に合わせて、高真空、超高真空、さらには極高真空の領域まで各種真空チャンバーを制作しています。真空チャンバーの形や使用するステンレス鋼の材質は、実験の内容に応じて豊富な種類の中から最適なものを選択。分岐機器や計測機器の取り付け用ポートの設定も、数や角度、位置などきめ細かくご指定いただけます。
さらに、特別な加工が必要となる等どのようなご要望に対しても、設計から加工、表面処理、ペーキング処理、洗浄、組立、リークテスト、真空立ち上げまでの一貫体制で、的確にお応えします。 (詳細を見る

中空型 回転導入機

中空型 回転導入機  製品画像

・中空構造の回転導入機で、クライオスタット、液体窒素シュラウド等を超高真空内に挿入して回転させることが可能です。
・手動式高精度型及びモーター駆動式高精度型の2種類があります。ウォームギアを使用することにより、スムーズに位置決めが可能です。
・補助用ターボ分子ポンプで差動排気(ICF-34接続)を行うことにより、超高真空装置での使用が可能となります。
・有効内径を最大限に広げたことにより、中に取り入れる機構の寸法等を気にすることなく取り付けが可能です。トルクにこだわり、負荷なくスムーズに回転を行なうことが可能です。
・弊社独自の設計により、シール方法を改良し縦置きでも横置きでも取り付け可能な構造です。さらに、薄さにもこだわり、内部の表面積を極力減しました。
・許容リーク量:≦1.33×10-11Pa・m3/sec(ダブルOリング差動排気時)
・真空シール稼動部:ダブルOリング差動排気型
・許容加熱温度:≦120℃ (詳細を見る

1軸型 直線導入機(ベローズ型)

1軸型 直線導入機(ベローズ型) 製品画像

●1軸型 直線導入機(ベローズ型)
・マイクロメーターヘッドを使用していますので、精度の必要な移動と微調に最適です。
・ミニだからコンパクト、狭い場所での有効活用もできます。
・精度の必要な試料の直進方向への移動・微調及び位置決め。
・1回転に対するシャフトの移動距離は0.5mmです。
移動時のシャフトの回転はありません。

●1軸型 直線導入機(ベローズ型)
・移動距離は50mm・100mmの2種類です。
・1回転に対するシャフトの移動距離は2.0mmです。
・移動時のシャフトの回転はありません。
 (詳細を見る

中空型 直線導入機(ベローズ型)

中空型 直線導入機(ベローズ型) 製品画像

ベローズ式の直線導入機。
本体を回転させることにより、フランジ間の距離を正確に調整することが可能です。 (詳細を見る

上下機構

上下機構 製品画像

ベローズ式直線導入機。
本体を回転させることにより、フランジ間の距離を正確に調整することが可能です。 (詳細を見る

アイコン 上下機構 CAD一覧

型番 概要 CADダウンロード
ミニ上下機構(Z軸)KMUD-34(50Z) 2D
EXE : 52KB
ミニ上下機構(Z軸)KMUD-34(100Z) 2D
EXE : 52KB
上下機構(Z軸)KUD-70(50Z) 2D
EXE : 53KB
上下機構(Z軸)KUD-70(100Z) 2D
EXE : 54KB
上下機構(Z軸)KUD-70(150Z) 2D
EXE : 55KB
上下機構(Z軸)KUD-114(50Z) 2D
EXE : 58KB
上下機構(Z軸)KUD-114(100Z) 2D
EXE : 61KB
上下機構(Z軸)KUD-114(150Z) 2D
EXE : 63KB
上下機構(Z軸)KUD-152(50Z) 2D
EXE : 65KB

チェックしたものをまとめて 

XYステージ

XYステージ 製品画像

ベローズ式のXY移動機構と角度調整が可能なXYチルト機構。マイクロメーターによる正確な微調整が可能です。 (詳細を見る

ベロージョイント

ベロージョイント 製品画像

溶接ベローズ、成形ベローズをお客様のご希望の仕様で製作しております。
また、規格品も各種フランジ形式、ベローズ長さにあわせ豊富に取り揃えております。 (詳細を見る

シャッター機構

シャッター機構 製品画像

特徴
・マグネット方式なので、操作は簡単・半永久的。
・サイズは、ICF-70・114・152・203と豊富。
・真空容器内の蒸着物などに対するビューイングポートの保護シャッター。
・RHEED/光/ビームのカット等にも応用。
・各部品には、電界研磨処理を施し、超高真空領域までの使用が可能。
・バタフライ方式のフルオープンタイプなので視界は広範囲です。
・各種ビューイングポートに対応可能。
・ストッパーにより、任意のオープン角度の設定が可能。
・許容リーク量は≦1.33×10-11Pa・m3/sec
・許容加熱温度は≦200℃ (詳細を見る

価格帯 10万円以上 50万円未満 納期 1ヶ月以内

アイコン シャッター機構 CAD一覧

型番 概要 CADダウンロード
シャッター機構 KSV-70 2D
EXE : 56KB
シャッター機構 KSV-114 2D
EXE : 56KB
シャッター機構 KSV-152 2D
EXE : 59KB
シャッター機構 KSV-203 2D
EXE : 61KB
ミニ直線導入機(Z軸)KML-34 2D
EXE : 47KB

チェックしたものをまとめて 

エントリー・ハッチ

エントリー・ハッチ 製品画像

●エントリー・ハッチ
・ICF規格ですので、お手持ちの装置にご利用できます。
・ICF規格のフランジをOリング仕様の簡易ハッチへ変更できます。
・ロードロック室等の試料導入が簡便に行えます。
・覗窓付きとブランク型の2種類を御用意いたしました。

●ロードロックハッチ
ロードロック室の資料交換用の扉。ICF、JISフランジに対応した各サイズのロードロックハッチをご用意しております。窓ガラスの材質も各種取り扱っております。 (詳細を見る

超高精度5軸マニピュレーター

超高精度5軸マニピュレーター 製品画像

特徴
本機構「超高精度5軸マニピュレーター」は、極高真空領域対応型XYZR1R2軸方向移動機構です。高精度な機構を組み合わせることにより、真空中にある試料を精密かつ再現性良く移動・操作させることが可能です。
オプションであるサンプル加熱/冷却機構または、モーター駆動機構などを組み合わせることにより、研究開発目的に適した試料等の処理や移動・操作を御提案いたします。
 (詳細を見る

トランスファーロッド(Z-φ軸 KTMシリーズ)

トランスファーロッド(Z-φ軸 KTMシリーズ) 製品画像

真空中の試料や機器等に、大気側から直線運動と回転運動を伝達する導入機です。本製品は、比較的短い距離(200mm~300mm)での試料等の搬送を行う際に最適です。マグネット方式の為、外部との真空封止は完全で、半永久的に安定した動作を得られます。真空中に取り付けられた直線運動及び回転運度を要する機器への応用が可能です。本体の内部には、電界研磨処理を施し超高真空領域まで使用可能です。駆動部のストッパーを使用することで、任意の距離・角度での位置決めが可能です。オプションとして、回転止め機構を取り付けることが可能です。また、腐食性ガス対応の仕様もございますので、ご相談下さい。
 (詳細を見る

価格帯 10万円以上 50万円未満 納期

2軸トランスファーロッド(マグネット型)

2軸トランスファーロッド(マグネット型) 製品画像

●マグネットタイプのスライド方式なので、直線移動と回転運動が同時に行えます。
●マグネット方式なので、操作は簡単。外部との真空封止は、完全です。
●超高真空領域までの使用が可能。
●ストッパーにより、任意の位置設定が可能です。
●ご希望に応じ、位置出し用ベロージョイント、任意のストローク・先端加工、又モーター駆動型等も可能です。  (詳細を見る

トランスファーロッド・アクセサリー/回転止め Rotary Stopper

トランスファーロッド・アクセサリー/回転止め Rotary Stopper  製品画像

通常トランスファーロッドは、試料の搬送時に使用する導入機で、マグネットタイプのスライド方式によって回転運動と直進移動とを同時に行えるものです。ウエハータイプ等の試料を搬送する時など回転方向への運動を除きたい場合に、この回転止めを取り付けることにより回転運動が固定され、直進運動のみで搬送する事が可能です。

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トランスファーロッド・アクセサリー/延長ハンドル Extend Handle

トランスファーロッド・アクセサリー/延長ハンドル Extend Handle 製品画像

通常トランスファーロッドは移動距離の長い試料を搬送する時など操作上不便を生じる場合があります。この延長ハンドルを取り付けることにより直進・回転運動の操作と合せ無理なく搬送する事が可能です。 (詳細を見る

1軸型 回転導入機

1軸型 回転導入機 製品画像

駆動方式にマグネット駆動方式、ベローズ駆動方式を採用した回転導入機。
低トルクから高トルクまで豊富な機種をご用意しております。 (詳細を見る

2軸型 回転導入機(マグネット型) 2Axial Rotary Drives

2軸型 回転導入機(マグネット型) 2Axial Rotary Drives 製品画像

特長
・接続フランジはICF規格。
・マグネット方式なので、操作は安定・半永久的。
・真空中に取り付けた回転運動を要する機器への応用。
・内部には電解研磨処理を施し、超高真空領域まで対応します。
・マグネット結合により運動を伝達するので外部との真空封止は完全です。
・固定ネジにより、任意の角度設定が可能です。


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2軸型 直進・回転導入機(ベローズ型) 2 Axial Linear and Rotary Drives

2軸型 直進・回転導入機(ベローズ型) 2 Axial Linear and Rotary Drives 製品画像

真空中の試料や機器等に、大気側から回転運動(外軸)と直進運動(内軸)を伝達する2軸回転導入機です。 (詳細を見る

セミ・マニピュレーター KSM-114-50Z/150Z

セミ・マニピュレーター KSM-114-50Z/150Z 製品画像

●KSM-114-50Z
移動距離・Z軸 0〜50mm
X軸 ±12.5mm
Y軸 ±12.5mm
●KSM-114-150Z
移動距離・Z軸 0〜150mm
X軸 ±12.5mm
Y軸 ±12.5mm
●仕様
許容リーク量 ≦1.33×10-11Pa・m3/sec
許容加熱温度 ≦200℃
移動精度 XY軸 0.01mm以下
位置決め目盛 XY軸 0.001mm以下
上部接続フランジ ICF-70FT
下部接続フランジ ICF-114FH
導入用ポート -
真空シール稼働部 溶接ベローズSUS-316
重量 9.0kg(50Z)、9.0kg(150Z) (詳細を見る

セミ・マニピュレーターKSM-70-50Z

セミ・マニピュレーターKSM-70-50Z 製品画像

●KSM-70-50Z
移動距離・Z軸 0〜50mm
X軸 ±6.0mm
Y軸 ±6.0mm
●仕様
許容リーク量 ≦1.33×10-11Pa・m3/sec
許容加熱温度 ≦200℃
移動精度 XY軸 0.01mm以下 Z軸 0.05mm以下
位置決め目盛 XY軸 0.001mm以下 Z軸 0.05mm以下
上部接続フランジ ICF-34FT
下部接続フランジ ICF-70FH
導入用ポート -
真空シール稼働部 溶接ベローズSUS-316
重量 9.0kg(50Z)  (詳細を見る

価格帯 10万円以上 50万円未満 納期

トランスファーロッド(Z-φ軸 KTSシリーズ)

トランスファーロッド(Z-φ軸 KTSシリーズ) 製品画像

真空中の試料や機器等に、大気側から直線運動と回転運動を伝達する導入機です。本製品は、比較的短い距離(100mm~300mm)での試料等の搬送を行う際に最適です。マグネット方式の為、外部との真空封止は完全で、半永久的に安定した動作を得られます。真空中に取り付けられた直線運動及び回転運度を要する機器への応用が可能です。本体の内部には、電界研磨処理を施し超高真空領域まで使用可能です。駆動部のストッパーを使用することで、任意の距離・角度での位置決めが可能です。オプションとして、回転止め機構や延長ハンドルを取り付けることが可能です。また、腐食性ガス対応の仕様もございますので、ご相談下さい。 (詳細を見る

価格帯 10万円以上 50万円未満 納期

セミ・マニピュレーターKSM-152-50Z/KSM-152-150Z

セミ・マニピュレーターKSM-152-50Z/KSM-152-150Z 製品画像

1958年創業以来、真空装置・低温機器をはじめとして、多くの試作研究開発機器の設計・製造及び販売に従事してきました。
これまで多くのR&D機器の設計・開発に携わり、"極高真空技術""極低温技術""精密加工技術"等の融合技術とノウハウ、そして永年にわたる経験と実績が大学・官公庁及び民間企業の研究開発機関で活躍される多くの研究者から支持されております。
今後も、社員一同、"御客様の成功と発展を願い御客様の為に進化する"ことをモットーとし、社会の発展に貢献すべく、研究者の方々のよきパートナーとして一層の努力を重ね、信頼と実績を着実に積み重ねて22世紀へ歩んで参りたいと願っております。なにとぞ、ご愛顧ご支援を賜りますよう、よろしくお願い申しあげます。 (詳細を見る

価格帯 50万円以上 100万円未満 納期

総合カタログプレゼント!真空機器・部品

総合カタログプレゼント!真空機器・部品 製品画像

先着100名様限定で研究者・技術者必携の
「真空機器・部品 総合カタログ」を無料プレゼント中!

高温ベーキング処理によりH2Oなどのガスを排気した
高品質な真空部品をたっぷり掲載!
用途や条件ごとに、規格品・セミオーダー・特注品からお選び頂けます。

【掲載内容(抜粋)】
■真空部品
 ICF規格品、ISO(KF・LF)規格品(NW)、JIS規格品など
■導入機
 直線導入機(Z軸)、上下機構(Z軸)、中空直線導入機(Z軸)など
■装置
 チャンバーなど
※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。 (詳細を見る

価格帯 お問い合わせください 納期 即日

ファラデーカップ『KFC-1』

ファラデーカップ『KFC-1』 製品画像

『KFC-1』は、BNC端子より、照射ビームの電流計測が可能なファラデーカップです。

取り付けフランジサイズはICF70、測定用コネクタは一般的なBNC端子です。
真空内サイズはφ34×100mm。全方位接続可能です。

取り付けフランジサイズはご指定可能です。
寸法及び形状の変更がございましたら、お気軽にご相談ください。

【特長】
■BNC端子より、照射ビームの電流計測が可能
■コンパクトな構成
■全方位接続可能
■測定部材質は無酸素銅

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 (詳細を見る

サンプル加熱ステージ『KSKS-1』

サンプル加熱ステージ『KSKS-1』 製品画像

『KSKS-1』は、オミクロン社製サンプルホルダーを加熱するステージです。

取り付けフランジがICF70でコンパクト。
角度付きポートからでもステージが水平となる様な傾斜付きステージのため、
全方位から導入が可能なほか、駆動機構を備えており、任意の位置へ移動調節可能です。

加熱温度450℃のヒーターをステージ内部に設置しており、加熱時の赤熱発光が
漏れる事はありません。
また、真空ベーキング(≦200℃)対応可能な構成となっており、超高真空下での使用が可能です。

【特長】
■オミクロン社製サンプルホルダーに対応
■斜めポートより導入可能な、傾斜ステージ
■搬送/退避位置へ移動可能な、駆動機構を装備
■ICF70より導入可能な、コンパクトな構成
■加熱時の赤熱発光が漏れる事がない
■超高真空下での使用が可能

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 (詳細を見る

XYステージ ICF152タイプ『KXY-152』

XYステージ ICF152タイプ『KXY-152』 製品画像

『KXY-152』は、中空構造の2軸(X軸・Y軸)の可動ステージです。

駆動部にはマイクロメーターヘッドを用いることで±2µmでの位置決めが可能です。

内部の駆動方式をベローズ方式にすることで、超高真空領域での使用可能な
ほか、有効内径Φ100mmを設けることが可能となる為、内部のスペースを
有効に使用できます。

また、オプションのモーター駆動ユニットを追加する事で、
更に位置決め精度を高めることや自動での駆動が可能となります。

【特長】
■マイクロメーターの移動量は±12.5mm
■超高真空領域での使用が可能
■本体上部にM8のネジ穴を4箇所ご用意
■アイボルトを取り付けることで吊り具との接続が簡単に
■他の直線導入機と組み合わせる事で搬送ラインを簡単調整

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 (詳細を見る

全閉型シャッター機構『KSVシリーズ』

全閉型シャッター機構『KSVシリーズ』 製品画像

『KSVシリーズ』は、ICF-70用・CF-114用のシャッター機構です。

シャッター閉の時、隙間なく閉じる事が可能な、蒸着物等に対する
ビューポート用の保護シャッターとなります。
RHEEDスクリーン、光、ビーム等の保護や遮断への応用も可能です。

また、回転導入部はマグネット駆動方式、半永久的に利用可能なほか、
各部品には電解研磨処理を施し、超高真空領域での使用が可能です。

その他のサイズでの製作も可能となりますので、お気軽にご相談ください。

【特長】
■シャッター閉の時、隙間なく閉じる事が可能
■RHEEDスクリーン、光、ビーム等の保護や遮断に応用可能
■超高真空領域での使用が可能
■バタフライ方式のフルオープンタイプなので、広範囲の視界を確保
■回転部のストッパーにより、任意のオープン確度で保持が可能
■各種ビューポートに対応可能

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 (詳細を見る

『真空加熱脱ガス処理』

『真空加熱脱ガス処理』 製品画像

当社では、ロータリーポンプとターボ分子ポンプを用いて、
MAX450℃・48時間の真空加熱脱ガス処理が可能です。

良質な真空実験環境を実現するためには、真空容器の内壁面及び素材内部
から放出されるガス(分子)が大きな障害となります。

このような悪影響を及ぼす放出ガスについては、真空容器本体や使用する
部品等を製造段階において、予め真空中での高温ベーキング処理を
施すことによって解決することができます。

【作業内容】
■開梱・現物確認(図面との照合)
■バッチ数確認
■処理
■冷却
■取り出し・梱包
■出荷

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 (詳細を見る

フリーマウント式金属蒸着源『KFOD-1』

フリーマウント式金属蒸着源『KFOD-1』 製品画像

『KFOD-1』は、るつぼに材料を充填し、フィラメントヒーターにより
加熱をする低温蒸発材料用の簡易蒸着源です。

るつぼ(蒸着)向きの調整が可能なため、取付方向を選びません。
既存装置でも試料に向けて取付でき、ねじ1本で蒸着方向を固定/解除できます。

短時間での加熱、温度安定性にすぐれ、お手持ちの直流安定化電源で
簡単に動作できます。

小型で簡易設計の為、研究開発用途に最適です。

【特長】
■低温蒸発材料用の簡易蒸着源
■小型で単純な形状
■取り扱いが簡単
■短時間での加熱、温度安定性にすぐれる
■直流安定化電源で簡単に動作可能

詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 (詳細を見る

フリーマウント式金属蒸着源『KFMD-1』

フリーマウント式金属蒸着源『KFMD-1』 製品画像

『KFMD-1』は、ボートに材料を充填し、通電加熱により蒸着をする
簡易蒸着源です。

ボート(蒸着)向きの調整が可能なため、取付方向を選ばず、
既存の装置への増設に対応可能です。

熱輻射シールドなどを設置することで、基板や真空槽内部への
ダメージを軽減することができます。

小型で簡易な設計の為、研究開発用途に最適です。

【特長】
■コンパクトな取り付けフランジICF070
■ボートタイプで取扱が容易
■定めた位置への蒸着が可能
■メンテナンスフリー
■真空槽内部の汚染防止が可能

詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 (詳細を見る

上下機構(ICF152タイプ)『KUD-152 Mk-II』

上下機構(ICF152タイプ)『KUD-152 Mk-II』 製品画像

『KUD-152 Mk-II』は、本体内部に電解研磨処理を施し、超高真空領域まで
使用可能な直線導入機です。

有効内径φ108mmを設けることが可能となる為、内部のスペースを
有効に使用できます。
φ125mmのハンドルを設け、ギヤにて回転トルクを落とすことで、
上下操作を軽く行うことができます。

他の回転導入機などと組み合わせる事で、搬送ラインの調整を
行うことも可能です。

【特長】
■側面のメモリスケールを使用し0.1mmでの位置決めが可能
■モーター駆動ユニット追加で更に精密な位置決めが可能
■駆動方式ベローズタイプで、200℃までのベーキングが行える
■背板にリブを設けフランジ間のたわみを軽減

詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 (詳細を見る

真空用分光測定ユニット『KVS-1』

真空用分光測定ユニット『KVS-1』 製品画像

『KVS-1』は、お手持ちの分光器のプローブを取付けることで、
ガラス窓を通して真空内に置いた試料の分光測定を行うことができる装置です。
(プローブ形状に合わせて個別に設計を行います。)

焦点位置の調整はマイクロメータにより、観察位置の移動は移動用ノブにより可能。
先端部にはレンズチルト機構を備え、ビームの入射角を調節できます。
測定に使用する波長に合わせて、窓材質を選択することが可能です。

【特長】
■パイプ内にGBB処理を施し、反射による悪影響を防止
■先端部長さ等の寸法カスタマイズに対応
■既存の真空チャンバーへの取り付けも容易

詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 (詳細を見る

OPV用蒸着装置『KVD-OLED Evo.6』

OPV用蒸着装置『KVD-OLED Evo.6』 製品画像

『KVD-OLED Evo.6』は、有機EL材料の塗布材料を目的とした
OPV(有機薄膜太陽電池)用蒸着装置です。

有機材料の塗布工程は接続されているグローブボックス(MBRAUN)の中で
行い、搬送機構を用いて蒸着室内に基板を搬送し、電極を蒸着させる
一貫した装置となります。

グローブボックス(MBRAUN社製Labmaster)と接続でき、
ロードロック室間は手動の搬送機構で操作可能。

排気操作は前面のタッチパネル(PLC)により操作できます。

【特長】
■排気シーケンスはPLCにて制御可能
■金属の蒸着はボート式とルツボ式を標準搭載
■膜厚計は3センサーを標準搭載
■金属蒸着源はボート式とルツボ式を標準搭載
■蒸着室はメンテナンスが容易な防着板を標準搭載

詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 (詳細を見る

有機EL用成膜装置

有機EL用成膜装置 製品画像

有機EL成膜用の有機蒸着セル(KOD-Cell)が16台、金属材料蒸着の際には、金属蒸着セルが標準装備されます。有機用、金属用と共通して少量サイズのルツボにて構成されており、装置チャンバー内に極力チャンバー汚染をしない事に重点を置いた設計になっております。本システムは、全自動式である為、多種多様な研究が行える多目的研究開発用装置となります。 (詳細を見る

価格帯 1億円以上 納期

有機EL用成膜装置

有機EL用成膜装置 製品画像

有機材料成膜用の有機蒸着セル(KOD-Cell)が8台、金属材料蒸着の際には、金属蒸着セルが同部屋に標準装備されます。有機用、金属用と共通して少量サイズのルツボにて構成されており、装置チャンバー内に極力チャンバー汚染をしない事に重点を置いた設計になっております。また、グローブボックスへ接続可能なシステムです。本システムは、有機材料と金属材料が同じ部屋にて成膜可能なハイブリット型蒸着装置となります。 (詳細を見る

有機EL用成膜装置

有機EL用成膜装置 製品画像

【特徴】
・搬送機構にてマスク及び試料搬送が可能。
・有機材料と金属材料が同じ部屋で成膜可能。
・有機材料と金属材料の共蒸着が可能。
・有機材料共蒸着が可能(最大4元)。
・有機材料と金属材料とのコンタミ防止用水冷ジャケット標準装備。
・蒸着室において、基板とマスクを真空環境下にて各々交換可能。
・基板とマスク間ギャップは最少。
・基板回転機構により面内の膜厚分布平坦性±5%以内。
・有機蒸着セルは指向性に優れており蒸着室内の材料汚染が少ない。
・各処理室は特殊表面処理を施し使用真空環境圧力までの到達が速い。
・グローブボックスと接続可能。
・PLC制御にて自動搬送・自動排気が可能。
・導入室内には基板及びマスクホルダーが標準5枚ストック可能。
 (詳細を見る

有機EL用蒸着セル

有機EL用蒸着セル 製品画像

精密なコントロールが極めて安定して動作可能です。直接加熱方式により、低温領域において優れた温度応答性と温度安定性を備えております。 (詳細を見る

スピンスプレー薄膜作製装置

スピンスプレー薄膜作製装置 製品画像

フェライトめっきとは、室温〜90℃の水溶液中で、直接強磁性フェライト膜を作製できる革新的技術です。・1983年に東京工業大学 阿部正紀研究室で発明されて以来工夫を重ね、各種の薄膜磁性デバイス、バイオ・メディカルデバイスへの応用開発がなされ、一部は実用化されました。Fe2+イオンとNi2+などのイオンを原料として、Fe2+→Feの酸化反応を利用し各種のフェライトの薄膜作を可能にしたのが、フェライトめっき法の独創的なポイントです。最大ポイントは基板表面のOH基と金属イオンが共有結合性の化学結合を行う(単なる物理吸着ではない)ために強固な付着力が得られます。 (詳細を見る

透過型電子顕微鏡用試料ホルダー

透過型電子顕微鏡用試料ホルダー 製品画像

 北野精機では、透過型電子顕微鏡(Transmission Electron Microscopy:TEM)の実験的な機器・部品を幅広く提供しています。
これらの製品は、生物、高分子、セラミックス、半導体、金属など多くの分野における基礎研究をはじめ、新製品の開発やその評価などに幅広く利用されております。

 特にTEMホルダーは、研究者の要求に独自のアイデアを注入し、共同で開発され試料内部の形態・結晶構造・組成・電子状態などの高分解能イメージングを可能にすることができます。

また、その他の要求仕様・研究開発目的に応じた特殊機構もご気軽にお問い合わせください。




【特徴】
○共同で開発され試料内部の形態・結晶構造・組成・電子状態などの高分解能イメージングを実現
○その他の要求仕様・研究開発目的に応じた特殊機構の試作・共同開発




★御客様の仕様に合わせて試作開発を承っております!★
詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。


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真空装置の立ち上げ・運用に役立つ真空装置の虎の巻

真空装置の立ち上げ・運用に役立つ真空装置の虎の巻 製品画像

基礎知らずして、トラブル発生になっていませんか?
設計者は、使用者の目線で真空装置の設置・運転・保守に於ける設計検討項目を良く吟味しましょう。
そのためには、設計・製作・運用者自身が、真空機器と作業対象の材料及びその表面を理解し、さらに、気体分子、励起粒子、荷電粒子に成りきって、気相での振る舞い、材料内・表面上での振る舞いを理解する必要があります。
そして、何が作業結果を制限する要因なのかを判断して、設計・製作・運用の開発・改善を進めましょう。

【特徴】
○全ての組み付け後ベークはしないことを前提にした装置の場合は、
 プリベークは重要な意味を持つ
○放出ガスが多くて使用不適と思われていた機器や部品が、
 部品のプリベークにより目的とする圧力で使用できる場合もある
○ベークが前提でも組み付け前に機器・部品単位で真空炉内で
 プリベークしておくことで、排気時間やエージング時間が短縮される

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。 (詳細を見る

TEMホルダー 「透過型電子顕微鏡用試料ホルダー」

TEMホルダー 「透過型電子顕微鏡用試料ホルダー」 製品画像

北野精機では、透過型電子顕微鏡(Transmission Electron Microscopy:TEM)の実験的な機器・部品を幅広く提供しています。

これらの製品は、生物、高分子、セラミックス、半導体、金属など多くの分野における基礎研究をはじめ、新製品の開発やその評価などに幅広く利用されております。

特にTEMホルダーは、研究者の要求に独自のアイデアを注入し、共同で開発され試料内部の形態・結晶構造・組成・電子状態などの高分解能イメージングを可能にすることができます。

また、その他の要求仕様・研究開発目的に応じた特殊機構もご気軽にお問い合わせください。

【特徴】
○共同で開発され試料内部の形態・結晶構造・組成・電子状態などの
 高分解能イメージングを実現
○その他の要求仕様・研究開発目的に応じた特殊機構の試作・共同開発

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分子線エピタキシー(MBE)装置

分子線エピタキシー(MBE)装置 製品画像

●特徴
本装置は10-8Pa以下の超高真空中に置いた基板を加熱し、基板上に堆積させたい原料を独立に供給して基板上に結晶を成長させる真空蒸着法で、蒸発原料に固体を使用して分子線蒸着源(クヌーセン・セル)により原料の蒸発を行う固体ソースMBE装置と、原料に気体や有機金属を使用するガスソースMBE装置などがございます。 (詳細を見る

スパッタソース 「超高真空対応マグネトロンスパッタソース」

スパッタソース 「超高真空対応マグネトロンスパッタソース」 製品画像

本スパッタソースは超高真空対応の汎用型小型マグネトロンスパッタソースです。
本体がすべてベーカブルであるため、反応性の高いターゲットでも、不純物の少ない成膜が可能です。

【特徴】
○Oリングを使用しない超高真空タイプ
○スパッタソースを超高真空に保持したまま、マグネットの取り外しが可能
○マグネットを取り外すことにより、300℃までのベーキングが可能
○ターゲットの固定はリテイナーで行われ、ターゲットを短時間で交換可能
○ガス導入口が取付フランジと一体となっているので、
 ガス導入用のフランジは不要

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ビームシャッター機構 「KBS-01」

ビームシャッター機構 「KBS-01」 製品画像

ビームシャッター機構は、駆動系に電磁弁制御式のエアシリンダーが装備されており、応答速度の素早い遮断動作・開放動作が可能です。
本製品は、ルビジウム(Rb)やナトリウム(Na)などの原子線ビームを、遮蔽及び開放するシャッター等にて使用されます。

【仕様】
○シャッター動作スピード 30~800mm/s
○シャッター動作ストローク 0~20mm
○取付けフランジ ICF-70(スルーホール)
○ベーキング温度 200℃(エアシリンダー、電磁弁部除く)
○シャッター動作方向 全方位対応

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コンパクトガス導入システム 「KGIS」

コンパクトガス導入システム 「KGIS」 製品画像

KGISはガスボンベの純度を維持したままチャンバーにガスを導入するためのシステムです。
システム内部が均一な温度になるよう、ヒーターが設置されています。
配管内の水分吸着を最小限に抑えることで、ドライなガスをチャンバー内に導入できます。
ベントガスやプロセスガスの導入に最適な製品です。

【特徴】
○温度均一性と断熱に配慮された設計
○排気ポートで内部の真空排気が可能
○露点計(オプション)を設置可能
○付属温調器で容易に温度制御が可能
○付属バンドにより容易にボンベに固定可能

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スパッタソース 「超高真空対応マグネトロンDCスパッタソース」

スパッタソース 「超高真空対応マグネトロンDCスパッタソース」 製品画像

本スパッタソースは超高真空対応の汎用型小型マグネトロンスパッタソースです。
本体がすべてベーカブルであるため、反応性の高いターゲットでも、不純物の少ない成膜が可能です。

【特徴】
○Oリングを使用しない超高真空タイプ
○スパッタソースを超高真空に保持したまま、マグネットの取り外しが可能
○マグネットを取り外すことにより、300℃までのベーキングが可能
○ターゲットの固定はリテイナーで行われ、ターゲットを短時間で交換可能
○ガス導入口が取付フランジと一体となっているので、
 ガス導入用のフランジは不要

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北野精機株式会社 豊富な実績で研究開発を一貫サポート

北野精機株式会社 豊富な実績で研究開発を一貫サポート 製品画像

自由度と完成度の高い北野精機の研究開発用真空機器類。
高品質の製品と良質な研究開発の実験環境を支えているのは、豊富な経験と実績で培った技術力とノウハウ。
我々は、「競争しない。競創する人間。」を目指し、第一にお客様とのコミュニケーションをベースに、「難題、だからやる。」という行動基準を定め、部品一つに至るまで、ご要望を的確に反映するという基本姿勢です。

【サポート内容】
○設計
○機械加工
○溶接加工

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北野精機株式会社 真空・実験装置の技術的サービス

北野精機株式会社 真空・実験装置の技術的サービス 製品画像

お客さまに安心して製品をご使用いただくためには信頼できるサポート体制も不可欠です。
北野精機ではお客さまにご使用いただいている装置の状態を最良に保つため、充実したサポート体制を整えています。
お客さまの製品使用環境や、さまざまなニーズに合ったサービスを適正なコストで提供いたします。

【各種装置・ユニット類】
○蒸着装置(MBE・CVD・EB・スパッタなど)
○分析装置(STM・FIM・TEM・AESなど)
○各種マニピュレーター
○各種試料搬送機構

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北野精機株式会社 真空部品

北野精機株式会社 真空部品 製品画像

ICFフランジは国際標準規格に準じた品質及び寸法であり、主に超高真空以上の領域の真空容器や継ぎ手等に使用されております。
ICFフランジには、ブランク・タップ・回転の3種類があり、用途や各部品の接続環境等によって使い分けます。
特に、装置全体のボリュームが大きい時などは、配管等も複雑になりますのでタップや回転フランジの働きが重要になります。
許容温度範囲は、-190℃から+450℃までの使用が可能です。
通常のICFフランジの他に、ボルト穴数やフランジの厚み等の違う特殊タイプの製作も可能ですのでご相談下さい。
また、超高真空領域にて用いられる場合は、ベーキング処理(真空炉450℃にて48時間ベーキング)も承ります。

【ラインナップ】
○ステンレス鋼
○各種アルミニウム
○モリブデン
○タンタル
○インコネル

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超高真空対応小型電子ビーム蒸着源 「KME-70」

超高真空対応小型電子ビーム蒸着源 「KME-70」 製品画像

KME-70は単原子層薄膜作成用に設計された、小型の簡易型蒸着源です。
ロッド状材料もしくはルツボに導入した材料を電子ビームで加熱するため、高融点材料の蒸着が可能です。
シンプルな設計となっており、研究開発用途に最適な製品です。

【特徴】
○シンプルな設計で簡便性を重視
○フラックスレートモニタリング用電極付
○手動式シャッター機構を標準装備
○ロッド状材料とルツボのどちらも設置可能
○材料は移動機構機構により位置調整が可能

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スパッタソース 「超高真空対応マグネトロンRFスパッタソース」

スパッタソース 「超高真空対応マグネトロンRFスパッタソース」 製品画像

「超高真空対応マグネトロンRFスパッタソース」は超高真空対応の汎用型小型マグネトロンスパッタソースです。
本体がすべてベーカブルであるため、反応性の高いターゲットでも、不純物の少ない成膜が可能です。

【特徴】
○Oリングを使用しない超高真空タイプ
○スパッタソースを超高真空に保持したまま、マグネットの取り外しが可能
○マグネットを取り外すことにより、300℃までのベーキングが可能
○ターゲットの固定はリテイナーで行われ、ターゲットを短時間で交換可能
○ガス導入口が取付フランジと一体となっているので、
 ガス導入用のフランジは不要

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ビームフラックスモニター 「KFM-70」

ビームフラックスモニター 「KFM-70」 製品画像

ビームフラックスモニターは小型B・Aゲージをセンサーとして分子線のビーム強度を測定するものです。MBE装置等にて使用されます。
回転導入期を使用したコンパクトな設計でICF-70サイズの取付けフランジを実現。お客様の仕様に合わせてストローク等変更可能です。

【仕様】
○センサー:ミニチュアB-Aゲージ
○回転角度:±180℃
○取付けフランジ:ICF-70(タップ付)
○ベーキング温度:200℃(コネクタ部除く)
○オプション:上下機構

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有機EL用簡易蒸着装置

有機EL用簡易蒸着装置 製品画像

●特徴
・小スペース、コンパクト設計
・蒸着セル最大5本取付可能
・基盤サイズ1〜3インチと幅広く選択可能
・コンタミを防ぐ2重シールド構造
・基盤加熱ヒターコントロール機構標準装備
・メンテナンス・クリーニングの簡単設計
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有機EL用成膜装置

有機EL用成膜装置 製品画像

有機材料(有機EL)成膜用の有機蒸着セル(KOD-Cell)が8台、金属材料蒸着の際には、金属蒸着セルが標準装備されます。有機用、金属用と共通して少量サイズのルツボにて構成されており、装置チャンバー内に極力チャンバー汚染をしない事に重点を置いた設計になっております。本システムは、全自動式である為、多種多様な研究が行える多目的研究開発用装置となります。 (詳細を見る

価格帯 5000万円以上 1億円未満 納期

太陽電池作製装置(Si系、CIGS系太陽電池作製用のCVD装置)

太陽電池作製装置(Si系、CIGS系太陽電池作製用のCVD装置) 製品画像

本装置は高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC太陽電池を作製することが可能な装置です。太陽電池における光吸収層であるi層、およびpn層の各層が分離形成できるように、3つの薄膜堆積チャンバー、試料搬送用ロボットチャンバー、試料ストックチャンバーの合計5室で構成しております。 (詳細を見る

金属蒸着セル(クヌーセン・セル:K-セル)

金属蒸着セル(クヌーセン・セル:K-セル) 製品画像

【特長】
ICF-70によるコンパクト/省スペース設計
シャッター機構標準装備
±0.1℃による温度設定が可能

●応用材料
・Si (Silicon)
・As (Arsenic)
・Ga (Gallium)
・Al (Aluminum)
・In (Indium)
・P (Phosphorus) etc

※仕様に合わせて任意のストローク、形状等承ります。  (詳細を見る

『PVD装置カタログ』無料プレゼント!

『PVD装置カタログ』無料プレゼント! 製品画像

真空装置・低温機器をはじめとし、試作研究開発機器の設計・製造及び販売を行う北野精機では
PVD装置を多数掲載した『PVD装置カタログ』を無料進呈中です!

選定に役立つPVD装置コンポーネントガイドや、蒸着構成、機能構成など
蒸着装置をご検討中の研究者にぴったりな一冊です。

【掲載内容(一部)】
■PVD装置コンポーネントガイド
■チャンバータイプ別仕様
■蒸着構成/各蒸着源仕様
■機能構成 マニピュレーター など

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。 (詳細を見る

価格帯 お問い合わせください 納期 即日

試料搬送装置

試料搬送装置 製品画像

本製品、試料搬送装置(Sample Carrying System:KSC-1000)は試料導入室を兼ね備えた搬送装置です。
複数の真空システム間において超高真空領域を保ったまま試料搬送が行え、将来的に真空システムの増設・拡張が容易です。
また標準で6連の試料搬送キャリアを備え試料ストッカーとしても最適で付属の過熱機構にて試料表面のクリーニングが可能です。 (詳細を見る

SEM用 極高真空装置

SEM用 極高真空装置 製品画像

●特徴
本装置は細く絞った電子プローブで試料上を走査し、試料内部から発生する二次電子で結像させることにより表面形状観察をCRTで観察を行う電子検出形表面分析装置です。半導体の側長、検査装置、マスク描画装置などに応用されます。 (詳細を見る

電界イオン顕微鏡装置(FIM)

電界イオン顕微鏡装置(FIM) 製品画像

●特徴
電解イオン顧微鏡(FIM:Field Ion Microscope)は鋭く尖った金属針先端の表面原子像を容易に観察できる投影型の顕微鏡で1951年にペンシルバニア州立大学のErwin E. Mueller教授により発明されました。本装置は、超高真空の環境の中で、試料としてセットした金属tip(探針)の電圧を除々に大きくしていくことで、スクリ−ンにFIM像を出現させ、針状の試料表面原子の凹凸を100万倍程度に拡大した像を肉眼で観察できるイオン検出形表面分析装置です。
同時にtipに電圧が印加されることで先端部分の表面に付着している不純物を取り除くクリーニング効果が得られます。
さらにtipに印加する電圧を大きくすることで電界蒸発を行わせ、原子を個々にはぎ取り、先端原子の数を調整できるなど高度な実験が可能です。こうした本装置の優れた特性は、金属の原子レベルでの観察はもとより、先端の鋭い金属tipが不可欠な走査型トンネル顕微境のtip評価用として使われるなど幅広い用途に生かされ、多くの研究所、大学の研究室などで採用されています。 (詳細を見る

LEED分析用 極高真空装置

LEED分析用 極高真空装置 製品画像

●特徴
本装置は電子線の回析現象を利用し、表面の結晶構造などを観察する電子検出形表面分析装置です。
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HR-EELS装置用 極高真空装置

HR-EELS装置用 極高真空装置 製品画像

●特徴
本装置は非弾性散乱現象を利用し、試料中での電子エネルギー損失を計ることにより表面プラズモン(surface plasmon)電子の表面状態などを検出する電子検出形表面分析装置です。
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走査プローブ顕微鏡装置(SPM)用 極高真空装置

走査プローブ顕微鏡装置(SPM)用 極高真空装置 製品画像

●特徴
本装置はプローブ(探針)を物質表面上で走査させ、実空間で表面の形状を原子レベルで得ることが出来る表面分析顕微鏡装置です。プローブに負電圧を印加し、観察する試料表面に近接させ、プローブと試料表面の間の空間に流れるトンネル電流を測定することにより試料表面の形態を原子レベルで観察することができる走査型トンネル顕微鏡(STM:Scanning Tunneling Microscope:)と、プローブ先端の原子と試料表面の原子の間に働く力を検出することによって試料表面の形態を調べることができる原子間力顕微鏡(AFM:Atomic Force Microscope)などがございます。(7.1.14.10)
主な装置構成は、分析室、準備室、試料作成室、試料導入室等の超高真空〜極高真空領域の3室〜4室から構成されます。
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カーボンナノチューブ成長装置(KCNT)

カーボンナノチューブ成長装置(KCNT) 製品画像

●特徴
カーボンナノチューブは、その外径と構造の違いから多くの種類が有り、いずれも炭素原子6個が強固に結合した炭素鋼から出来ています。その特殊な構造から下記のような性質を持っています。

・導電性に優れている。
・熱伝導性に優れている。
・機械的特性に優れている。

本装置は、電気炉を用いて石英管中の基板を900℃まで加熱し、エタノールガスを導入しカーボンナノチューブを成長する為の装置です。
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CVD装置

CVD装置 製品画像

●特徴
本装置はCVD法を用いた薄膜作製装置であり、原料ガス状物質(気体、液体、固体)としてCVD反応室に供給し、気相または基板材料表面において化学反応を起こさせ、所望の薄膜材料を基板上に堆積させる気相反応、表面反応を利用した薄膜作製装置です。原料ガス状物質を化学的に活性させる(励起状態にする)手法として、熱、プラズマ、光(レーザー、紫外線など)があり、各々熱CVD、プラズマCVD、光CVD装置などがございます。
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改善成功事例 事例2 金属蒸着セル KMDW-Cell

改善成功事例 事例2 金属蒸着セル KMDW-Cell 製品画像

◆◇◆経緯◆◇◆

従来使用している金属蒸着方法は、ボート式であり、金属膜を蒸着する際に、
100A以上もの大電流を印加している。ボート式は、初心者でも容易に蒸着可能であるが、
大電流を使用することで、膜質に悪影響をもたらす要因と考えられる。
また、蒸着の際の飛散量が激しく、チャンバー内のメンテナンスが頻繁に必要となり、
綺麗な環境での使用は困難となっている。 (詳細を見る

スパッタリング装置

スパッタリング装置 製品画像

固体表面にイオン化して加速した原子あるいは分子を衝突させることにより、固体表面から固体材料が飛び出してくる現象(スパッタリング)を利用した成膜装置です。高融点金属や合金材料、誘電体、絶縁材料にも適用できる為に、工業的利用価値が高い。 (詳細を見る

トランスファーロッド(Z-φ軸 KTLシリーズ)

トランスファーロッド(Z-φ軸 KTLシリーズ) 製品画像

真空中の試料や機器等に、大気側から直線運動と回転運動を伝達する導入機です。本製品は、長い距離(500mm~1000mm)での試料等の搬送を行う際に最適です。マグネット方式の為、外部との真空封止は完全で、半永久的に安定した動作を得られます。真空中に取り付けられた直線運動及び回転運度を要する機器への応用が可能です。本体の内部には、電界研磨処理を施し超高真空領域まで使用可能です。駆動部のストッパーを使用することで、任意の距離・角度での位置決めが可能です。オプションとして、回転止め機構や延長ハンドルを取り付けることが可能です。また、腐食性ガス対応の仕様もございますので、ご相談下さい。 (詳細を見る

価格帯 10万円以上 50万円未満 納期

トランスファーロッド(Z-φ軸 KTXシリーズ)

トランスファーロッド(Z-φ軸 KTXシリーズ) 製品画像

真空中の試料や機器等に、大気側から直線運動と回転運動を伝達する導入機です。本製品は、長い距離(500mm~1000mm)での試料等の搬送を行う際に最適です。マグネット方式の為、外部との真空封止は完全で、半永久的に安定した動作を得られます。真空中に取り付けられた直線運動及び回転運度を要する機器への応用が可能です。本体の内部には、電界研磨処理を施し超高真空領域まで使用可能です。駆動部のストッパーを使用することで、任意の距離・角度での位置決めが可能です。オプションとして、回転止め機構や延長ハンドルを取り付けることが可能です。また、腐食性ガス対応の仕様もございますので、ご相談下さい。 (詳細を見る

価格帯 50万円以上 100万円未満 納期

改善成功事例 事例1 有機蒸着セル KOD−cell

改善成功事例 事例1 有機蒸着セル KOD−cell 製品画像

◆◇◆経緯◆◇◆

これまで、他社製の大型有機蒸着セルを使用していた。しかしながら、
大型ならではのルツボ容量が大きいと言うこともあり、温度安定性と材料効率が
非常に悪く悩んでいた。有機材料においては、1g当たり数万円もコストが掛かる
材料を使用しているケースがある為、材料効率が悪い大型蒸着源を使用すると、
1回の蒸着において10gもの材料充填の必要がある。そこで、弊社の有機蒸着セルを
用いることで、その点を解消したい。 (詳細を見る

有機デバイス関連機器総合カタログ

有機デバイス関連機器総合カタログ 製品画像

真空装置・真空部品をはじめとした研究開発機器の設計・製造を行う
北野精機社が取扱う、有機デバイス関連機器総合カタログのご紹介です (詳細を見る

改善成功事例3 有機材料開発用蒸着装置 

改善成功事例3 有機材料開発用蒸着装置  製品画像

◆◇◆経緯◆◇◆

これまで、他社製の大型のクラスター型蒸着装置を使用していた。
しかしながら、大型の為、巨大なスペースを使用してしまい、
問題が多々発生している。(搬送トラブル・蒸着セルの材料枯渇スピードが
早い・蒸着レートコントロールが困難など)そこで、コンパクトであるが、
最低限、既存装置の仕様を盛り込み、スペックを更にアップした装置が欲しい。 (詳細を見る

改善成功事例 事例4 有機EL成膜装置改造

改善成功事例 事例4 有機EL成膜装置改造 製品画像

◆◇◆経緯◆◇◆

これまで、他社製の有機EL成膜装置を使用していた。
しかし、使用上、下記の不具合点や要望が挙がっていた。

◆マスクの交換機構が搭載されていない為、マスクを交換する際は、
その都度、大気開放する必要がある。その為、試料にダメージが生じてしまう。
また、一貫した真空環境ではない為、無駄な時間を費やしてしまう。
◆有機蒸着室において、現状が最大6源の蒸着セルが付いているが、
現状の真空槽を活用して、拡張性を増やし、色々な実験を行いたい。
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有機OED作製・評価装置

有機OED作製・評価装置 製品画像

特徴
・小スペース、コンパクト設計
・蒸着セル最大5本取付可能
・基盤サイズ1〜3インチと幅広く選択可能
・コンタミを防ぐ2重シールド構造
・基盤加熱ヒターコントロール機構標準装備
メンテナンス・クリーニングの簡単設計
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有機デバイス作製・評価装置

有機デバイス作製・評価装置 製品画像

●有機デバイス作製・評価装置
・小スペース、コンパクト設計
・蒸着セル最大5本取付可能
・基盤サイズ1〜3インチと幅広く選択可能
・コンタミを防ぐ2重シールド構造
・基盤加熱ヒターコントロール機構標準装備
・メンテナンス・クリーニングの簡単設計
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製品案内 真空部品

製品案内 真空部品 製品画像

北野精機株式会社では、国際標準規格に準じた品質及び寸法のICF規格品や、
JIS規格品などの真空部品を取り扱っています。

「ICFフランジ」をはじめ、「ビューイングポート」や、「ガスケット」など
幅広いラインアップをご用意しています。

【特長】
≪ICF フランジ≫
■取り扱いフランジの材質は通常SUS304L
■サイズは、ICF-34 からICF-306 までは標準在庫
■最大ICF-406 までの対応が可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 (詳細を見る

価格帯 お問い合わせください 納期 即日

製品案内 装置

製品案内 装置 製品画像

北野精機株式会社では、表面分析用チャンバー(極・超高真空)もしくは
蒸着用チャンバー(超・高真空)を製作しております。

材質は、ステンレス鋼もしくはアルミが標準となるほか、非磁性等の材料も選定可能。
フランジには、ICF規格・ISO規格・JIS規格を基本的に使用しております。
また、特型の指定フランジも接続可能な設計製作を承ります。

使用真空度に合わせて、表面処理はGBB処理・バフ研磨処理・電解研磨処理より
選択して加工を行います。

【ラインアップ】
■超高真空(UHV)チャンバー
■多種チャンバー
■カスタムメイドチャンバー
■冷却機能付きチャンバー

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 (詳細を見る

価格帯 お問い合わせください 納期 即日

『真空機用導入機シリーズ 総合カタログ』※無料進呈中

『真空機用導入機シリーズ 総合カタログ』※無料進呈中 製品画像

ただいま、高精度・高再現性を実現する、多種多様な“真空機用導入機”を
収録した『総合カタログ』を進呈中です。

真空装置内にX,Y,Z,θ軸の動作を与える各種導入機や
シャッター機構付きにもかかわらず、ICF-70接続を実現し
高分解能で膜厚制御可能な有機蒸着セルなど、多数ラインアップしています。

【主な掲載内容】
■1軸・直線運動(Z軸)  ■1軸・回転運動(φ軸)
■多軸・複合運動     ■蒸着セル
■シャッター機構     ■エントリーハッチ
■ベロージョイント    ■オプション

※詳しくは資料をご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。 (詳細を見る

取扱会社 【総合カタログ】真空機器・部品

北野精機株式会社

最先端技術の研究開発用精密機器の設計、開発、製造、販売。 ◆真空装置の機器・部品 ◆低温機器類の装置・部品 ◆科学機器 ◆精密部品 これらの設計開発、製作、販売及び引渡し後の保守、修理、改造、移設 【 製品一例 】 ◆真空チャンバー ◆真空部品(フランジ・継手類、他)   《PVD/CVD装置》 ◆有機EL材料開発用蒸着装置・機器 ◆有機TFT開発用蒸着装置・機器 ◆有機薄膜太陽電池用蒸着装置・機器 ◆有機・金属蒸着セル ◆分子線エピタキシー装置(MBE)  (化合物半導体・窒化物・酸化物) ◆有機金属気相成長装置(CVD) 《表面分析・評価装置》 ◆電界イオン顕微鏡装置(FIM) ◆電子エネルギー分析システム(CMA) ◆TEMホルダー(加熱/低温) ◆UHVレーザー顕微鏡装置 ◆3次元アトムプローブ装置(3DAP)

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