真空加圧リフロー炉『VPF300』

『VPF300』は、プロセス全体の時間短縮を実現する真空加圧リフロー炉です。

シングルチャンバーでありながら急速冷却機能を備えております。
真空チャンバーは0.4Mpaまでの加圧にも対応。

圧力を幅広く変化させることができ、はんだ接合部にトラップされた
ボイドを脱泡および圧縮、はんだ内部のボイド率を大幅に低減、
高品質なボイドレスはんだ付けが可能です。

【特長】
■300×300mmの加熱エリア
■優れた冷却システムによるプロセス時間の短縮
■ヒーター毎に出力設定が可能な上下加熱機構
■最大450℃までの加熱に対応
■窒素ガスとギ酸を混合する保温機能付バブラーを装備可

※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）

『VPF300』は、チャンバー内を真空（減圧）状態にできるだけでなく、気圧を0.4MPaまで加圧できるため、はんだ内部のボイド率を大幅に低減、高品質なはんだ付けを実現する真空・加圧リフロー炉です。

チャンバー内の圧力や加熱温度など、ワーク毎にプロセス条件を設定でき、独自の急速冷却機能により、効率的な加熱・冷却が可能。

また、ギ酸還元リフロー、フォーミングガスリフローに対応しており、
フラックスレスのはんだ付けプロセスを構築することもできます。
2023年モデルは冷却機構を改良し、メンテナンス性を向上しました。

【特長】
■300×300mmとワイドな有効加熱エリア
■最大加熱温度は450℃
■真空チャンバーは観察用窓を装備
■直感的に操作できるタッチパネルGUIを採用

※「PDFダウンロード」より製品資料をご覧いただけます。
　テストをご希望の方はお気軽にお問い合わせください。
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標準で250x330mmまでの実装基板や平板状ワークの加熱が行える卓上型加熱炉です。加熱温度プロファイルは8ゾーンまで設定可能。リフローはんだ付けとしての使用はもちろん、一定温度での長時間運転も可能なため、基板の乾燥、アンダーフィル材やダイボンディングペーストの熱硬化等の用途にもご利用いただけます。 （詳細を見る）

赤外線ヒーターを用いた省スペース卓上型リフロー炉（加熱炉）です。
リフローはんだ付けとしての使用はもちろん、一定温度での低速運転も可能なため、基板の乾燥やボンディング剤の熱硬化等の用途にもご利用いただけます。 （詳細を見る）

昇温速度と温度均一性の更なる向上を目的に、SVO-1の上位機種として
新たにラインナップに追加した卓上型リフロー炉 SVO-1 Plusです。

炉内の上下にヒーターを配置し、各ヒーター出力も個別に設定できます。
対象ワークに適した加熱温度設定やヒーター出力の最適化により、
サイクルタイムの短縮およびワーク温度の均一性の向上を図ることができます。

リフローはんだ付けとしての使用はもちろん、一定温度での長時間運転も可能なため、
基板の乾燥や、熱硬化等の用途にもご利用いただけます。

【特長】
■基板の上下加熱に対応
■ 各ヒーター出力の設定が可能
■ 最大400℃までの加熱に対応
■ 最大8ゾーンまでの温度プロファイル設定
■ 一定温度で最長10時間までの継続運転

※詳しくはPDFダウンロード、またはお問い合わせください。 （詳細を見る）