高純度イットリア溶射材

耐プラズマエロ―ジョン性に優れた溶射皮膜が得られる高純度イットリア粉末です。

造粒焼結粉法で作製された純度99.99%以上の高純度イットリア溶射材料です。

イットリア溶射材は主に半導体、FPD製造装置に使用されるため高い純度が要求されます。これに応えるためフジミでは厳密な品質管理のもと高純度イットリア溶射材を製造しています。

イットリア粉末を用いた溶射皮膜はアルミナ粉末を用いた溶射皮膜よりも
優れた耐プラズマエロ―ジョン性を有しています。

【用途例】
高純度イットリアではその化学的安定性、耐プラズマエロ―ジョン特性を活かし、
半導体、FPD(OLED、LCD)製造装置などに使用されています。
アプリケーション例
・プラズマエッチング装置　・CVD装置　・静電チャック　・焼成トレイ　など

【メッセージ】
フジミではお客様のご要望に応じた純度、粒度に調整した粉末の試作も可能です。セラミックス溶射材料に関してご質問やご要望等ございましたらお気軽にご連絡ください。

　※製品の詳細はカタログをご覧ください