神港精機株式会社 ロゴ神港精機株式会社東京支店

最終更新日:2023-07-31 17:30:38.0

  •  
  • カタログ発行日:22021/11/22

ALNコーティング装置(アーク放電型マグネトロンスパッタリング装置)

基本情報ALNコーティング装置(アーク放電型マグネトロンスパッタリング装置)

独自方式高密度プラズマスパッタで結晶性AlN薄膜を形成 立体形状基板へ量産装置で成膜。半導体製造装置部品から治工具・金型まで対応

硬質膜用アーク放電型マグネトロンスパッタリング装置に新型登場。結晶性AlN薄膜をメタルターゲットから高反応性リアクティブスパッタで立体形状に形成。
実績豊富な装置本体に最新の成膜技術を搭載。
新分野を切り開く最新セラミックコーティング装置

イットリアコーティング装置(AF-IP装置)

イットリアコーティング装置(AF-IP装置) 製品画像

新開発アークフィラメント型イオンプレーティング法により緻密な酸化膜の厚膜(10μm)を低温で形成
半導体製造装置部品に対応した優れた耐プラズマ性をもつイットリア膜の成膜に対応。
イオンプレーティング法によるシンプルなプロセスで緻密な膜質を実現。
イットリア膜だけでなくSiCやTiC、CrNなどの各種反応膜を固体金属材料より形成可能。
独自開発イオンプレーティング法により表面処理の新たな用途を開拓 (詳細を見る

SiCコーティング装置(AF-IP装置)

SiCコーティング装置(AF-IP装置) 製品画像

新開発アークフィラメント型イオンプレーティング法により従来に無かったPVD法による」SiC成膜を実現。
400℃以下の低温で緻密で耐摩耗性・耐酸化性に優れたSiC膜を形成可能とした新成膜技術を採用。
個体シリコンを出発材料としたイオンプレーティング法のためシンプルで環境負荷の少ないクリーンなプロセスを実現。
膜厚や膜質の制御性も高くCVDに比べ、排ガス処理・メンテナンス性・設置面積・ランニングコストの全てに優れた新成膜装置
 (詳細を見る

ハイブリッド硬質膜コーティング装置(DLCーCVD+PVD装置)

ハイブリッド硬質膜コーティング装置(DLCーCVD+PVD装置) 製品画像

自動車用のDLC膜に実績豊富なPIG式DLC膜コーティング装置に高密度スパッタカソードADMS機構(アーク放電型マグネトロンスパッタリングカソード)を多元追加。トライボロジー特性に優れたDLC膜に硬質合金膜を積層。スムースな表面を持つ新硬質コーティングを実現。
従来のDLC膜も新カソードの機能を追加し性能UP。
密着力。耐面圧の向上を容易に実現
もちろん従来のPIG式DLC膜コーティング装置は機能追加でシステムアップOK
CVD/PVD単体性能も充分発揮できる最新型新機能硬質膜コーティング装置 (詳細を見る

【関西ものづくり新撰2023選定!】緻密&平滑膜形成装置

【関西ものづくり新撰2023選定!】緻密&平滑膜形成装置 製品画像

当社で取り扱う、『アーク放電型マグネトロンスパッタ装置』をご紹介します。

マグネストロンスパッタ機構の前面に低電圧大電流のアーク放電機構を付加
したことで、基板に入射するイオン量が一般的な装置に比べて10倍多くなり、
緻密で硬い、平滑な反応膜を工業レベルで形成できるようになりました。

また、コーティング面の仕上げ研磨が不要になったことで、耐久性も向上し、
省エネルギーに貢献しています。

【特長】
■マグネストロンスパッタ機構の前面に低電圧大電流のアーク放電機構を付加
■基板に入射するイオン量が一般的な装置に比べて10倍多い
■緻密で硬い、平滑な反応膜を工業レベルで形成
■コーティング面の仕上げ研磨が不要
■耐久性も向上し、省エネルギーに貢献

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 (詳細を見る

導電性カーボン薄膜形成装置(アーク放電スパッタリング装置)

導電性カーボン薄膜形成装置(アーク放電スパッタリング装置) 製品画像

独自高密度スパッタ法 アーク放電型マグネトロンスパッタリング法(ADMS法)によりメタル成膜と同等のプロセスで導電性カーボン薄膜を形成。
従来のスパッタカーボン薄膜に比べて格段に緻密で高い密着性が特徴。
導電特性と膜の安定性よりエネルギー・バイオセンサーなどの新分野に対応
導電性カーボン薄膜は硬度や表面の平滑性に優れており、金属への高い密着性より機械部品の表面処理(トライボロジー用途)への応用も可能です。 (詳細を見る

AlNテンプレート作成装置(配向性AlN膜用スパッタリング装置)

AlNテンプレート作成装置(配向性AlN膜用スパッタリング装置) 製品画像

UV-LEDの製造の低コスト化に必要なサファイア基板へのAlNテンプレートをスパッタで作成。100arc/sec以下のC軸配向性を持つAlN膜を低温(700℃以下)でスパッタリングで形成。
シンプルかつ安定したプロセスとハイスループット性でUV-LEDの低コスト化に貢献。
サンプルテストに対応中、高周波デバイスへの展開も開発中。

 (詳細を見る

水素フリーDLCコーティング装置(高密度スパッタADMS装置)

水素フリーDLCコーティング装置(高密度スパッタADMS装置) 製品画像

従来に無い水素フリーDLC膜(膜中水素含有量1%以下)を量産装置で実現
成膜プロセスに水素を使用しない高密度プラズマスパッタ技術を採用、新方式PVD装置(ADMS=アーク放電式マグネトロンスパッタリング装置)
水素フリーの緻密なDLC膜は従来の水素含有DLC膜に比べMo添加の潤滑油中の摺動特性を1/15以下に低減(1⇒0.06)
最新成膜プロセスで導電性カーボン薄膜の形成にも対応。バイオ用途から新エネルギーまで幅広い分野で用途を開拓しています。
新開発アーク放電式マグネトロンカソードによる低電圧・低圧力プラズマは成膜だけでなく基板表面のイオン窒化やエッチングにも応用されており、成膜前処理、下地硬化からコーティングまで高品質一貫処理。
本装置(アーク放電式マグネトロンスパッタリング装置)の水素フリーDLC膜(ADMSーCN膜)は今までのDLC(硬質膜形成)にとどまらない新たなドライプロセスとしてプラズマ表面処理技術新たな可能性を大きく拡げています。 (詳細を見る

取扱会社 ALNコーティング装置(アーク放電型マグネトロンスパッタリング装置)

神港精機株式会社 東京支店

●装置事業部 (成膜装置) ・スパッタリング装置 ・真空蒸着装置 ・硬質膜形成装置 ・プラズマCVD装置 (プラズマ装置) ・エッチング装置 ・アッシング装置 ・クリーニング装置 (熱処理装置) ・真空リフロー装置 ・プラズマリフロー装置 ・真空熱処理装置 ・アニール装置 ●規格品事業部 ・ドライポンプ ・油回転真空ポンプ ・水封式真空ポンプ ・メカニカルブースタ ・真空排気装置 ・真空計、真空弁、真空部品 ・精密投影機 ・特殊光学機器

ALNコーティング装置(アーク放電型マグネトロンスパッタリング装置)へのお問い合わせ

お問い合わせ内容をご記入ください。

至急度必須

ご要望必須


  • あと文字入力できます。

目的必須

添付資料

お問い合わせ内容

あと文字入力できます。

【ご利用上の注意】
お問い合わせフォームを利用した広告宣伝等の行為は利用規約により禁止しております。
はじめてイプロスをご利用の方 はじめてイプロスをご利用の方 すでに会員の方はこちら
イプロス会員(無料)になると、情報掲載の企業に直接お問い合わせすることができます。
メールアドレス

※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。

神港精機株式会社 東京支店


成功事例