IonGard Aqua Purifier (MGA)

半導体製造プロセスには様々なガス、薬液が使用されますが、これらはサプライチェーンでの輸送や製造中に使用される供給システムや容器への接触によって、常に原料や部材からの金属汚染のリスクにさらされ、半導体製造プロセスの工程の不安定化や歩留まり低減を引き起こします。

Cobetterでは、新規機能膜の開発やフィルタ構造の最適化により、困難とされてきた強アルカリ水溶液や酸性溶液からの金属除去が高効率で達成可能になるIonGardシリーズやリソグラフィ工程に使用される薬液に適したNylonpolarやMGS2Mシリーズ、またガス向けに開発されたGasPuriadv等のラインナップがあり、高効率で高寿命の金属除去を行えます。

【金属除去ラインナップ】
■IonGardシリーズ
■Nylonpolar/MGS2Mシリーズ
■GasPuriadv

また、これら機能膜をベースに組み合わせることにより、さらに様々なニーズに対応可能です。

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）

イオン交換型Purifierにおける薬液精製では酸の発生によるリスクが懸念として残っていました。これらは化学増幅型レジストの品質を劣化させるリスクのある問題点です。

第1弾として液-液交換による金属除去メカニズムを持つNylon基膜に官能基を修飾したNylonpolarを発表しましたが、第二弾としてキレート構造による金属除去とイオン交換による発生した酸を即座に除去する機構を持つ金属除去Purifierを開発、上梓しました。

Cobetterでは、メタル除去に関する幅広いソリューションをユーザー様に提供すべく、新たな視点での金属除去機構を兼ね備えたPurifierを引き続き開発していきます。

メタル低減がうまく達成できない、イオン交換による酸発生の悪影響で薬液安定性に対する懸念が払拭できないなど、薬液精製に新しいソリューションを適用されたい方は必見です。

全ての金属に万能な金属除去性能を発揮するPurifierを探すことは至難の業ですが、ソリューションの引き出しを多く持っておくことを強く推奨いたします。

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