蛍光X線式 膜厚測定器 微小部測定用『 XDV-μ 』
ポリキャピラリX線光学系を採用。微小部の薄膜メタライズ、高機能めっきの膜厚を短時間で高精度に測定可能。【サンプル試測定実施中】 『XDV-μ』は、ポリキャピラリX線光学系を採用した汎用性の高い エネルギー分散型蛍光X線測定装置です。 当製品は、非常に小さい部品や構造部分を非破壊で膜厚測定・ 素材分析に適した測定器です。 【特長】 ●最小10µmの集光レンズを搭載可 従来では測定できなかった微小部の薄膜メッキでも測定が出来ます。 ●検出器には半導体検出器の中でも最高性能のSDDを採用 SDD(シリコンドリフトディテクタ―)を搭載したことにより、 短時間で高精度の測定が可能になりました。 ●基板の微小パッド等も測定可能 Au/Pd/Ni/Cu/基板の様な多層メッキを高精度に測定可能です。 ●厚付けSnメッキの下にあるNiメッキも測定可能 従来では難しかった厚付けスズメッキの下にあるニッケルメッキの 膜厚測定を可能にしました。 ●プリント基板やコネクターの小型化、薄膜化に対応できます。 もちろん従来製品の測定も半分以下程度の時間で可能になります。 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。- メーカー・取扱い企業:
- アンリツ
- 価格帯:
- ¥10,000,000~¥50,000,000
膜厚測定装置『LF-1000』
ウェハ・ガラス基板+鏡面基板上の膜厚測定も可能な膜厚測定装置『LF-1000』は、分光器と光干渉式膜厚解析ソフトを搭載し、各種パラメータの 設定をする事により膜厚測定を可能とした非接触式自動膜厚測定装置です。 本解析ソフトは薄膜の表面及び基盤との界面からの干渉波形を解析することにより、 非接触で、透明もしくは半透明の薄膜の膜厚、屈折率及び吸収係数を簡単に 自動測定及びマッピング処理する事が出来ます。 【特長】 ■ウェハ・ガラス基板だけでなく、その他の鏡面基板上の膜厚測定が可能 ■膜の光学定数を設定する事で、各種の膜厚測定が測定可能 ■薄膜酸化膜、SOI、EG膜、カラーフィルター等の測定に優れる ■標準として3・4・5・6・8・12インチウェハに対応したオートステージ ■ローダ仕様にもオプションで対応可能(カセット・FOUP、ポート数にも応相談) ■測定ヘッド仕様よって、薄膜から厚膜の膜厚測定に対応 ■GEM通信はオプション ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。- メーカー・取扱い企業:
- ラポールシステム
- 価格帯:
- お問い合わせ
2件中1~2件を表示中
- 1