ジャパンクリエイト株式会社

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スクリュー攪拌型粉体スパッタリング装置

省スペースで大容量！各種ご要望に合わせたオーダーメイドも製作可能！

当製品は、当社が得意とするスパッタリング技術を応用し様々な3次元形状の金属、セラミック、樹脂製品に成膜する装置です。化粧品、電子部品、電池部品、高機能材料開発といった用途に使用可能です。 …
アッシング装置

エッチング、アッシング及びイオンクリーニングを可能とする汎用性に優れたコンパクトな装置です！

『アッシング装置』は、最大φ12インチ基板を全自動連続処理することができる量産装置です。ガス種およびプラズマモードの切り替えによりエッチング、アッシング及びイオンクリーニングを可能とす…
『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで高速かつ安定した連続成膜が可能！

『圧電膜形成スパッタリング装置』は、単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで連続成膜することが可能な製品です。プラズマエミッションモニターによるプラズマ分析とフィードバック制御により、高速…
High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで高速かつ安定した連続成膜が可能！

『圧電膜形成スパッタリング装置』は、プラズマエミッションモニター搭載により圧電特性低下に寄与する元素検知可能な製品です。単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで連続成膜することができま…
Epitaxial-EB蒸着装置

最高900℃の高温プロセスが可能！エピタキシャル促進機構により単結晶成膜に適した製品です。

『Epitaxial-EB蒸着装置』は、エピタキシャル促進機構により金属膜や酸化膜の単結晶成膜に適した製品です。基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現させ、またチャンバのメンテナン…
加圧RTA装置

基板加熱温度最高1000℃！基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減！

『加圧RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応することができる製品です。加熱源はハロゲンランプ、昇温レートは最大150℃/secとなっており、優れた基板温…
【開発者目線を徹底】各種装置のオーダーメイド製造承ります

相談だけでも歓迎！設計から製作、組立まで自社で一貫して対応！各種装置製造でお困りの方は是非ご相談ください。※製作事例資料進呈中

弊社では、開発から資材調達・加工・組立・品質保証まで一貫した生産体制を整え、様々な企業様から装置のオーダーメイド製作を承っております。「こんなものを作りたいけど設計が…」「作業効率を上…
立体物用プラズマCVD装置

高い汎用性を備えたシンプルな構造！独自のプラズマ制御方式を採用しています

『立体物用プラズマCVD装置』は、豊富な蓄積データを有し、独自のプラズマ制御方式を採用しています。チャンバー容積は1m3。多段式大量一括処理可能で、高い汎用性を備えたシンプルな構造です…
立体物用スパッタリング装置

立体物成膜での高いカバレッジを実現！最大3台のスパッタカソードを搭載し、金属膜、酸化膜等の積層成膜が可能です！

『立体物用スパッタリング装置』は、当社独自のスパッタカソードを搭載しています。ワークステージに4軸機構（昇降、公転、自転、チルト）を搭載し、立体物成膜での高いカバレッジを実現。加熱機構…
有機EL用蒸着装置

プラズマクリーニング室、有機蒸着室、電極蒸着室、封止室等を自由に選択できます！

『有機EL用蒸着装置』は、デバイス開発や材料開発に好適なマルチチャンバ仕様の装置です。前処理から成膜、封止までの工程を大気に触れずに処理することが可能。目的に応じて、プラズマクリー…
多元スパッタリング装置

基板温度900℃を実現！基板ステージに3軸機構を搭載し、均一な膜厚分布を実現

『多元スパッタリング装置』は、最大4台のスパッタカソードを搭載し、金属膜、酸化膜等の積層成膜が可能です。 CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能。また、基板…
真空加熱乾燥炉

スパッタターゲットの真空乾燥や真空部品の真空乾燥、治具等の真空乾燥に利用可能！

『真空加熱乾燥炉』は、自動乾燥プロセスレシピが30通りあります。使用温度範囲は最高450℃。スパッタターゲットの真空乾燥をはじめ、真空部品の真空乾燥や、治具等の真空乾燥にご利用いただけます…
【オーダーメイド製作実績】蒸着装置

「2段階複合Pt成膜装置」などの実績を保有！ご用命の際はお問い合わせください

ジャパンクリエイト株式会社が行なった、『蒸着装置』のオーダーメイド製作実績をご紹介します。「2段階複合Pt成膜装置」や「HDDメディア研究開発用ルブ蒸着装置」、「ロードロック式高真空超…
酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置

広範な膜特性の制御可能！大幅なパーティクル低減および生産性を向上します

『酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置』は、2周波独立印可方式により、低応力、高硬度、高絶縁性を実現します。ラジカルプラズマクリーニングシステムによる大幅なパーティクル低減および生産性を向…
【オーダーメイド製作実績】各種真空装置

デモ機にてサンプル処理を実施！「研究開発用アニール装置」などの実績を保有

ジャパンクリエイト株式会社が行なった、『各種真空装置』のオーダーメイド製作実績をご紹介します。「研究開発用アニール装置」をはじめ、「バッチ式プラズマ処理装置」や「極低温成膜実験装置」「…
ロードロック式スパッタリング装置

CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能です！

『ロードロック式スパッタリング装置』は、ムービングマグネットにも対応し全面エロージョンが可能です。当社独自のスパッタカソードや急速昇降温基板加熱機構を搭載し基板温度900℃を実現。 …
ロードロック式EB蒸着装置

好適な表面処理によるパーティクル低減！ロードロック式による高真空プロセスに対応

『ロードロック式EB蒸着装置』は、基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現しています。ロードロック式による高真空プロセスをはじめ、リフトオフプロセスや、トレイ搬送にも対応。 …
【オーダーメイド製作実績】ドライエッチング装置

「XeF2エッチング装置」「バッチ式アッシング装置」などの実績を保有しています

ジャパンクリエイト株式会社が行なった、『ドライエッチング装置』のオーダーメイド製作実績をご紹介します。「研究開発用ICPエッチング装置」や「ICPプラズマエッチング装置」「XeF2エッ…
ドライエッチング装置

RIEモードとDPモードの切り替えが可能！特殊表面処理によるメタルコンタミ低減

『ドライエッチング装置』は、最大φ12インチ基板を全自動で連続処理することができる量産装置です。 2周波独立印加方式で、特殊表面処理によるメタルコンタミ低減。マルチチャンバ仕様や各種オー…
【オーダーメイド製作実績】スパッタリング装置

「有機EL用GB付きスパッタリング装置」や「研究開発用IBS装置」などの実績を保有！

ジャパンクリエイト株式会社が行なった、『スパッタリング装置』のオーダーメイド製作実績をご紹介します。「薄膜MEMS用超高温スパッタリング装置」をはじめ、「有機EL用GB付きスパッタリン…
カーボンナノチューブ合成装置

優れた膜厚分布および再現性を実現！基板プラズマクリーニングシステム搭載

『カーボンナノチューブ合成装置』は、優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。全自動でCNT合成が可能。基板プラズマクリーニングシステム搭載しています。マルチチャンバ…
RTA装置

トレイ搬送にも対応可能！優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現

『RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応できる製品です。基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能。優れた基板温度分布およびガスフロー方式を…
PETボトル用プラズマCVD装置

3L容器までコーティング可能！容器軽量化による物流コストの低減などに貢献します

当製品は、当社が得意としているプラズマCVDプロセス技術を応用し、樹脂容器材質として一般的に普及している「PETボトル」への DLCコーティングに特化した成膜装置です。 PETボトル内面へ…
DLCコーティング装置

広範な膜特性の制御可能！基板加熱源は水冷型と加熱型から選択いただけます

『DLCコーティング装置』は、豊富な蓄積データを有し、優れた膜厚分布および再現性を実現します。成膜源はRFプラズマCVD法とイオン化蒸着法から選択可能。半導体をはじめ、電子部品や光学部…
【オーダーメイド製作実績】CVD装置

「金属容器用プラズマCVD装置」「ICP型MOCVD装置」などの実績を保有しています！

ジャパンクリエイト株式会社が行なった、『CVD装置』のオーダーメイド製作実績をご紹介します。「太陽電池用プラズマCVD装置」をはじめ、「立体物用プラズマCVD装置」や「金属容器用プラズ…
CO2スプレー洗浄装置

基板サイズは最大φ12インチ！当社独自ノズルのCO2ラバージェットノズル使用

『CO2スプレー洗浄装置』は、真空環境での洗浄のため低露点環境で CO2洗浄ができます。当社独自ノズルのCO2ラバージェットノズルを使用。個体CO2粒子速度と粒子密度の可変ができ、好適な…
MH-1000　マルチワイヤーソー

●高性能電着ダイヤモンドワイヤーによるダウンカット方式 ●固定砥粒のためスラリーが不要

本装置は、精密加工技術を生かして素材を薄く高精度に切断する装置です。ワイヤー駆動２軸、トラバース２軸、ワーク上下１軸の計5軸ACサーボモーターを使用しており、水晶、セラミック等さまざまな素材を切断でき…
MH-500　自動シングルダイヤモンドワイヤーソー

ダイヤモンドワイヤーを用い脆性材料の端面出し、シリコンウエハ、ガラス、水晶等の切り出しに好適。

・研究試作に適した価格設定・高精度５相マイクロステッピングモータークローズドループ方式を使用したXYテーブルでの自動切断が可能。X軸は回転機構付。・一定の応力での切断高精度位置セン…
卓上ダイヤモンドワイヤーソー『MH-100』

研究開発用途に最適！小型で省スペースのラボ用卓上ダイヤモンドワイヤーソー

『MH-100』は、小型で省スペースのラボ用卓上ダイヤモンドワイヤーソーです。取扱いが容易なシングルワイヤータイプで、研究開発用途に最適です。また、精密加工技術を生かして素材を薄く高精度に…
枚葉式の自動洗浄装置『RCAウエハ洗浄装置』

カスタマイズOK！素早い対応と、メーカーならではのアフターフォローが可能です

『RCAウエハ洗浄装置』は、信頼性の高い洗浄方法として広く採用される RCA洗浄を主体とした枚葉式の自動洗浄装置。ウエハ搬送用の「3軸多関節クリーンロボット」と、ローダー・アンローダーに …
枚葉式の自動洗浄装置『RCAウエハ洗浄装置』

カスタマイズOK！素早い対応と、メーカーならではのアフターフォローが可能です。

『RCAウエハ洗浄装置』は、信頼性の高い洗浄方法として広く採用される RCA洗浄を主体とした枚葉式の自動洗浄装置。ウエハ搬送用の「3軸多関節クリーンロボット」と、ローダー・アンローダーに …
枚葉式ウエハ処理装置『自動レジスト塗布現像装置』

高性能のポンプを使用し高精度の塗布を行うウエハレジスト塗布装置

『自動レジスト塗布現像装置』は、枚葉式の自動レジスト塗布現像装置です。装置内にレジスト塗布チヤンバーと現像チヤンバーを設けています。レジスト塗布は粘度に応じた高性能のポンプを使用し、高精度の塗…
枚葉式ウエハ処理装置『自動ウエハレジスト塗布装置』

高性能のポンプを使用し高精度の塗布を行うウエハレジスト塗布装置

『自動ウエハレジスト塗布装置』は、枚葉式の自動レジスト塗布装置です。レジスト塗布は粘度に応じた高性能のポンプを使用し、高精度の塗布を行います。また、レジストの他、接着剤の塗布、保護膜の塗布等に…
枚葉式ウエハ処理装置『自動基板用現像装置』

装置のセンターに3軸多関節クリーンロボットを設置し基盤搬送！

『自動基板用現像装置』は、枚葉式の基板自動現像装置です。現像液は電子冷熱器により常に一定温度に保たれウエハにスプレーし高精度の現像処理を行います。また現像方式はスプレー式とパドル式の選択が出来…
枚葉式ウエハ処理装置『自動エッチング装置』

装置のセンターに3軸多関節クリーンロボットを設置しウエハ搬送！

ジャパンクリエイト株式会社は、半導体製造装置を主とし、その他液晶製造装置なども取り扱っているメーカーです。全ての商品を自社にて製造いたしておりますので、安価にて御提供することが出来ます。『自動…
枚葉式ウエハ処理装置『自動ウエハ洗浄装置』

3軸多関節クリーンロボットと単軸ロボットの組み合わせで構成！

ジャパンクリエイト株式会社は、半導体製造装置を主とし、その他液晶製造装置なども取り扱っているメーカーです。全ての商品を自社にて製造いたしておりますので、安価にて御提供することが出来ます。『自動…
処理装置の総合カタログ「枚葉式ウエハ処理装置総合カタログ」

【無料配布中】自動エッチング装置や自動基盤用現像装置の総合カタログ

2インチから18インチのウエハ及び300mm口基板をローダーより多関節ロボットを使用し各工程を経てアンローダーカセットまで自動で処理する「枚葉式ウエハ処理装置」の総合カタログを無料配布中です！デモ…
枚葉式スピンスプレー洗浄装置　SRC-15001

2流体ノズルより高圧純水をスプレー、メガソニックによる仕上げ洗浄！

SRC-15001は、枚葉式のスプレー洗浄装置です。被洗浄物を試料台に置き、スタートSWをONにより、試料台は回転を始めると同時にノズルアームが洗浄物の半径をスイングし、2流体ノズルより高圧純水をスプ…
【デモ機貸出中！】卓上型スピンコーター

省スペースなスピンコーター　排気装置もこの一台に内包　インナーカップ方式

『卓上型スピンコーター』は、平滑な基材を高速回転させることで遠心力によって塗膜を生成する装置。主に半導体製造工程で活躍します。塗布サイズはMAXφ150～MAXφ450（卓上型／インナーカップ…
スピン洗浄装置　スプレー現像装置 SD-8004型

自動および手動運転により、現像、リンス、水洗、スピン乾燥を行います！

SD-8004型は、4"～8"ウエハーのスピン式スプレー現像装置です。自動および手動運転により、現像、リンス、水洗、スピン乾燥を行います。条件設定は操作パネル上のタッチパネルで行い…
スピン洗浄装置　自動フォトリゾ装置 JASC-1200AD型

対象ワークは200mm□基板又はφ300mm基板に適用します！

自動フォトリゾ装置はカセットからカセットでレジストスピンコート、真空ベーク、アライナー、スプレー現像を自動で行う装置です。勿論工程の選択も出来ます。ローダー、アンローダーも同一側でオペレーター1人で作…
スピン洗浄装置　高性能型減圧式スピンコーター HMSC-300A

均一な高精度のコートができる様、技術が盛り込まれています！

高性能型減圧式スピンコーターは、各種基板にレジスト液を自動でスピンコートする装置です。チャンバー内の雰囲気をコントロールして均一な高精度のコートができる様技術が盛り込まれています。即ちN2置換、溶剤ガ…
スピン洗浄装置　自動レジストスピンコーター JASC-200型

対象ワーク：2"□～5"□基板又はφ２"～φ５"基板に適用！

JASC-200型は、カセットtoカセットの自動スピンコーターで、レジストをコートし次にベーク工程も自動で行います。処理工程はU字型に配置されローダー、アンローダーも同一側でオペレーター1人で作業が出…
スピン洗浄装置　フルオートスピンナー JASC-150型

現像液温度精度±1℃。φ4"φ5"φ6"を治具交換にて対応！

JASC-150型は、現像液温度精度±1℃のフルオートスピンナーです。φ4"φ5"φ6"を治具交換にて対応します。高精度のロボット採用により、高スループット化を実現しまし…
スピン洗浄装置　卓上型マニュアルスピンコーター MSC-500型

300mm□ガラス基板対応の卓上型マニュアル式！

MSC-500型は、300mm□ガラス基板対応の卓上型マニュアル式スピンコーターです。条件設定は操作パネル上のタッチパネルで行います。各処理モード中はタッチパネル上に各モードが表示されます。詳しく…