ユニテンプジャパン株式会社

ギ酸還元リフロー装置【課題解決事例：基板内の温度ばらつき】

ユニテンプのリフロー装置で解決！高速昇温を実現！予期しない温度によるダメージへの心配が無くなります！

最近の基板には、極めて小さなチップ部品や大型の部品、またモジュール基板や BGAパッケージなど、多岐にわたる部品が実装されています。 それぞれ熱容量が違うので、大きい部品の温度が上がるころには…

ギ酸還元リフロー装置【課題解決事例：リフローしたはんだの特性】

ユニテンプのリフロー装置で解決！大幅な高速降温！はんだ溶融から固まるまでの冷却についても毎秒3℃近い冷却速度！

溶融しているはんだが冷えて固まるときに時間がかかってしまうと、はんだの 接合強度や電気特性に悪影響が出てしまいます。 冷却速度の問題で特性が悪くなってしまうのは問題です。 当社のリフロー…

ギ酸還元リフロー装置【課題解決事例：フラックス残渣】

ユニテンプのリフロー装置で解決！還元ガスは金属表面の酸素と反応することで、酸化膜のない元の状態に戻す働きをします！

今までは、酸化膜を除去するためにフラックスを使っていましたが、これが 基板に残った状態（フラックス残渣）だと、やがて腐食して電気的な導通が 取れなくなる、はんだづけした部品が外れるなど故障の原因に…

ギ酸還元リフロー 【課題解決事例：はんだ内に取り残されるボイド】

ユニテンプのリフロー装置で解決！融点温度到達後のチャンバーが高温になっているタイミングでも真空引き（減圧）が可能！

はんだが固まった後の状態をX線で撮影すると、はんだの中に気泡のような ものが写っている場合があって、これを"ボイド"と呼んでいます。 このボイドが残った状態ではんだが固まっ…

はんだリフロー装置『RSS-160』

ギ酸ガス・水素ガス還元両対応！タッチパネル搭載多機能のはんだリフロー装置！

『RSS-160』は、カートリッジヒーターによる100K/minの昇温が可能な はんだリフロー装置です。 Φ6inch、150mm角対応で、鉛フリー・ボイドレス・フラックスレスを実現。 …

はんだリフロー装置『RSS-110』

100V電源対応！Φ4inch、100mm角対応で業界最小クラスのコンパクトモデル！

『RSS-110』は、鉛フリー、ボイドレス、フラックスレスを実現した はんだリフロー装置です。 タッチパネル搭載多機能で、大気・窒素・真空・ギ酸・水素などの 各リフローに1台で対応。 …

はんだリフロー装置『RSS-3X210-S』

タッチパネル搭載多機能！大気、窒素、真空、ギ酸、水素などの各リフローに1台で対応！

『RSS-3X210-S』は、ギ酸ガス・水素ガス還元両対応で、安全面への機能も 充実しているはんだリフロー装置です。 直径100mmまでのウエハーを一度に12枚処理できる他、プリンターヘッドや…

はんだリフロー装置『RSO-300/200』

ギ酸ガス・水素ガス還元両対応！鉛フリー、ボイドレス、フラックスレスを実現！

『RSO-300/200』は、大気・窒素・真空・ギ酸・水素などの各リフローに1台で 対応し、タッチパネルを搭載した多機能なはんだリフロー装置です。 ホットプレート下部に、縦12本・横12本の高…

ホットプレート『HPP-155/HP-220』

温度制御ソフト標準添付！必要な機能だけを気軽に使えるエントリーモデル！

『HPP-155/HP-220』は、小規模の実験や試作などで、高い精度で 温度制御をしつつ、手軽にリフローしたい方の為に開発された 高精度プログラマブルホットプレートです。 窒素パージや16…

10X光学ズーム マイクロスコープ『AZ9T/AZ9C』

オプション新登場！簡単取り付け、簡単操作、リアルタイムで記録できます！

『AZ9T/AZ9C』は、チャンバー内のリアルタイム観察・記録が可能な 10X光学ズーム マイクロスコープです。 作動距離（WD）90mm、光学10倍ズーム、分解能3μmを実現。リフロー本体の…

真空・プロセスガス高速アニール装置『RTP/VPOシリーズ』

最大到達温度1,000℃！試作開発用途のほか、インラインシステムにも組み込み可能な高速アニール加熱装置です

『RTP/VPOシリーズ』は、卓上型タイプの 真空・プロセスガス高速アニール装置です。 SiCの熱酸化プロセス及びGaNの結晶成長など高い純度や安定性を 要求される研究開発に適している「RT…

ギ酸還元対応　卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』

課題解決事例を進呈中！ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼性実装を実現。高速昇温・降温で量産にも！

『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×3…

真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

ギ酸・水素還元両対応！最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上型タイプ

ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気（ギ酸または水素）、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高…

リフロー装置　製品カタログ

ギ酸還元・水素還元両対応！フラックスレス・ボイドレスを実現するコンパクトな卓上型リフロー装置を多数掲載

当カタログは、ユニテンプジャパン株式会社が取り扱う真空はんだリフロー装置を ご紹介しています。 温度プロファイル設定が簡単に出来て少量多品種生産や量産対応も可能な「VSS-450-300」をは…