ゼストロンジャパン株式会社

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【資料】失敗しない！フラックス洗浄剤の選び方

部材適合性は並列評価が基本！フラックス洗浄剤の種類などをご紹介

当資料は、フラックス洗浄剤の選び方を解説しております。フラックス洗浄剤を選ぶ時のポイントについて、具体的な例を挙げどのような観点に着目するべきなのかをご紹介。蒸発損失の制御や水の含…
洗浄テスト【洗浄から清浄度分析まで一貫してサポート】

テスト終了後には、推奨プロセスなどの詳細を記載したテクニカルレポートを提出！

ゼストロンジャパン株式会社にて行う『洗浄テスト』について、ご紹介いたします。テクニカルセンターのインライン・バッチ式のスプレーや噴流、超音波装置の中からお客様のご希望に沿った装置をお選びいただき…
【無洗浄はんだの洗浄】無洗浄はんだをなぜ洗浄する必要性があるのか

無洗浄はんだを洗浄する必要性について！プロジェクト改善事例をご紹介

無洗浄はんだは、電子部品実装の際に使用されるはんだの一種で、洗浄工程が不要な特性を持っています。無洗浄はんだは主に低活性なフラックスをベースとして構成され、製品を組み立てた後にもフラッ…
【改善事例】不良がゼロ＆洗浄時間が半分に

高性能制御基板のフラックス洗浄について！洗浄ノウハウをご紹介

高性能制御基板のフラックス洗浄において、有機溶剤系洗浄剤×噴流方式を採用していました。この方法で基板の露出表面は洗浄できていましたが、スタンドオフが20μmを下回っている部品下部を完全に洗浄で…
引火性がなく、安全面・環境面に配慮した洗浄剤はないのだろうか

安全面・環境面に配慮した洗浄剤について！プロジェクト改善事例をご紹介

様々な分野で使用されている有機溶剤は、現在の化学工業において不可欠な存在であり、使用を完全に止めることは難しいのが現状です。洗浄分野においても、有機溶剤の使用量は減ってきているものの、 …
【共同研究】新型ハロゲンフリーはんだペースト洗浄性検証

はんだ接合後のフラックス残渣における形態変化と洗浄性への影響についてご紹介

はんだペーストは、自動車産業などの高信頼性領域において、ハロゲンフリー、高い濡れ性などの特性が要求されます。しかし、高信頼性分野においては、無洗浄タイプであっても残渣フリーが求められ、洗浄が必…
【共同研究】微細接合向けはんだペースト洗浄性検証

洗浄方法・洗浄剤には抜本的な変革が求められています！洗浄ノウハウをご紹介

スマートフォンをはじめとする5G対応通信機器やEV向けの制御ユニット等にみられる先進電子デバイスは小型化・薄層化が進んでおり、それに伴い微細接合向けはんだペーストの開発がより活況を見せています。 …
【共同研究】Sn-Bi系低融点はんだペースト洗浄性検証

金属塩(Bi塩)の形成における課題解決策などを掲載！洗浄性検証を共同で行いました

様々なメリットがあるSn-Bi系はんだペーストですが、高信頼性分野では洗浄が必要とされる場面があり、洗浄課題として焼結後の金属塩(Bi塩)の形成があります。 Bi塩は、マイグレーション発生の原…
はんだ接合後のフラックス残渣における形態変化と洗浄性への影響

【共同研究】形態変化と洗浄性への影響を共同研究！詳しい解説と画像でご紹介

進化し続ける無洗浄タイプのはんだペーストですが、5GデバイスやEV向けの高出力パワーデバイスなどの分野では発生する熱量が大きく、環境的負荷が増すことで、安定化しているフラックス残渣であっても、長期…
【共同研究】実装部品とイオン残渣の関係性

洗浄用はんだペースト・フラックスを選択することでより確実な洗浄性の確保が可能！

今回のテーマであるイオンは電子デバイスに不可欠ではありますが、意図しないイオンがデバイス表面や電極間・低スタンドオフに残留することで「イオン残渣」となります。また、原料要因だけでなく環境要因も…
【共同研究】イオン残留量の検証～フラックス種による相違～

困難さが増しているイオン残留課題について！洗浄ノウハウをご紹介

エレクトロニクス市場はEV車やロボット・通信技術の研究開発がますます進んでおり、新たな接合技術であるシンターも本格的に量産稼働の動きが見えてくるなど、パワー半導体デバイスの勢いは衰えません。今…
【共同研究】活性剤の洗浄性低スタンドオフ部の残留性検証

リーク電流の発生や絶縁抵抗性の悪化に直接的に起因！洗浄ノウハウをご紹介

はんだを使用した接合工程において優れた無洗浄技術が確立している日本市場ではありますが、様々な課題が生じるケースが増加しており、年々洗浄の需要は高まっています。増加し続ける洗浄需要の背景の一つ…
【共同研究】ギ酸リフローデバイスの洗浄効果検証

ギ酸リフローについて詳しく解説！洗浄ノウハウをご紹介します

ギ酸リフローとは、対応する専用はんだを使用しフラックスレスではんだ接合ができる画期的な接合プロセスです。フラックスの作用の1つである還元作用をギ酸で代替することで大幅にフラックス成分を低減化で…
【5Gにおける洗浄の必要性】なぜフラックス洗浄は必要か？

フラックス残渣をなぜ洗浄しなくてはいけないのかについて詳しく解説！

前回は、5Gにまつわる技術課題の解決策をご紹介させていただきました。スプレー方式と水系洗浄剤を用いた洗浄を推奨しましたが、コーティングを行えば洗浄する必要はないのではないか？という疑問が出…
【解決編】5Gにまつわる技術課題例

実際に5Gにまつわる技術課題をどう解決するのか、解決策の一例をご紹介します！

本ページでは、5Gにまつわる技術課題をどう解決するのか、解決策の一例をお伝えいたします。前回は、5G関連のワークの中には洗浄しないと、不具合を起こすケースがあることが分かりました。 …
5Gにまつわる技術課題例

5Gの開発担当企業に開発の裏側について！洗浄ノウハウをご紹介

新型コロナにより、さらに注目されている「5G」。日本では2020年春から商用サービスがスタートしており、携帯電話だけでなく自動車、産業機器、医療などの様々な分野において、インパクトを与える…
【メタルマスク洗浄の確認ポイント】洗浄剤・洗浄方法を選択する方法

環境面にも配慮した洗浄の実施が可能！洗浄ノウハウについてご紹介

当ページでは、メタルマスク洗浄においての確認ポイントについて解説しております。適切な洗浄剤・洗浄方法を選択することで洗浄性や作業効率の向上はもちろん、ランニングコストの削減や作業者の安…
【シンター接合における洗浄課題】なぜシンター接合に洗浄が必要？

なぜシンター接合に洗浄が必要なのかについて解説！洗浄ノウハウをご紹介

銀焼結(銀シンター)の接合技術は近年注目を集めています。電気容量の増大や新素材の活用などで、より高熱・高電圧・大電流に耐えられる「新たな接合技術」が必要となっています。銀焼結のプロ…
【イオン残渣分析】見えない残渣から不良へ？

見えないイオン残渣の有無の調べ方について！洗浄ノウハウをご紹介

フラックス洗浄を行っていて、洗浄後に残渣は見当たらないが、信頼性評価を行うと局部的なマイグレーションや金属部分の腐食がみられる。その不良の原因、見えない残渣(イオン残渣)の可能性が高いです…
【フラックス洗浄後の分析サポート】ゼストロンの高解像度分析

一目ではわからない残渣が当社保有のマイクロスコープなら、はっきり見える！

当社が保有しているマイクロスコープを使った高解像度分析では、残渣を見ることができる幅が広がりました。一目ではわからない残渣が当社保有のマイクロスコープなら、はっきり見えます。ま…
【スプレー(シャワー)洗浄とは？】スプレー洗浄の重要性とメリット

スプレー洗浄の原理と特徴について解説！洗浄ノウハウをご紹介

スプレー洗浄とは、特定の物体や表面に液体を細かい噴霧として吹き付ける洗浄方式の一つです。この洗浄方式では、ノズルから高速で噴射される液体の流れによって、一定の物理的な力が生み出され、対…
溶剤系洗浄剤によるフラックス洗浄の落とし穴

イオン残渣見逃していませんか。フラックス洗浄の落とし穴について解説

様々な分野で使用されている有機溶剤は、現在の化学工業において不可欠な存在であり、使用を完全に止めることは難しいのが現状です。近年では各業界における技術躍進と企業努力により、有機溶剤の使用量…
【フラックス洗浄剤の種類と選定方法】水系・準水系・溶剤系の違い

洗浄剤の種類(水系洗浄剤/溶剤系洗浄剤)・選定方法についてご紹介！

洗浄剤は大きく分類すると「水系」「準水系」「溶剤系」に分別されます。水系洗浄剤は、作業環境に配慮した圧倒的な安全性を持っています。溶剤系洗浄剤は、洗浄剤として使用する際は、単一成分とし…
【水系洗浄剤とは？】洗浄剤の種類や水系洗浄剤の特徴を解説

水系洗浄剤について水分量が何％を占めた洗浄剤であるのかに着目して解説！

洗浄剤は大きく分類すると「溶剤系」「準水系」「水系」に分別され、ゼストロンでは「水系洗浄剤」を水が第一成分系(水の含有率が50％以上)を満たしているものと定義しています。国内では水系洗…
【フラックス洗浄とは？】フラックス洗浄はなぜ必要か？

フラックス洗浄を検討する上でのポイントについてご紹介します！

フラックス洗浄とはそもそも「洗浄」とは、ワーク(洗う物)表面に存在している物質のうち、除去したい物質を選択的に取り除く事を目的とした行為のことです。つまりフラックス洗浄とは、プリント基…
【洗浄剤自動濃度測定】ZESTRON EYE MOBILE

直感的なソフトウェアメニュー！USBインタフェース経由で測定値をエクスポート保存可能

『ZESTRON EYE MOBILE』は、1台のデバイスで複数の基板洗浄機およびメタルマスク洗浄機の洗浄剤濃度を監視する理想的なツールです。直感的なソフトウェアメニューを使用して、それぞ…
【全自動洗浄液濃度測定管理システム】ZESTRON EYE

管理プロセスパラメータのトレーサビリティを継続的にデータ集積！

『ZESTRON EYE』は、フラックス洗浄工程においてリアルタイムで、かつフラックスの混入には影響されずに洗浄液濃度の測定と管理を行うことができるデジタルモニタリングシステムです。一…
【半導体向けフラックス洗浄剤】HYDRON SE 230A

表面張力が低いことが特長！狭い場所にも良好な洗浄結果をもたらします

『HYDRON SE 230A』は、浸漬工程用一相タイプ水系洗浄剤です。リードフレームやディスクリート部品、パワーモジュール、パワーLED、フリップチップやCMOSといった各種半導体から …
【メタルマスク向け水系洗浄剤】HYDRON SC 300

引火点を持たない水系洗浄剤のため、洗浄装置に防爆仕様が不要！

『HYDRON SC 300』は、メタルマスク洗浄用として開発された水系洗浄剤です。クリーム半田やSMT ボンドを常温にて確実に除去し、メタルマスク表面上に残渣を残しません。また、…
【コーティング剥離剤／水系】ATRON DC

部分的な剥離やフレーム/パレットの全体浸漬剥離！どちらでも使用可能

『ATRON DC』は、作業者への安全性を配慮し、剥離力を最大限発揮できるように特別開発された水系洗浄剤です。コーティングされたフレーム、パレットおよび治具からアクリル系、ポリウレタン…
【水系フラックス洗浄剤】ATRON AC 207

インラインまたはバッチ式洗浄装置にて高中水圧で使用可能！

『ATRON AC 207』は、FASTテクノロジーを基に特に低濃度で処理するため開発された洗浄剤です。一般的な界面活性剤系洗浄剤の洗浄性と液寿命を向上させ、特に感作性が高い金属に対応…
【水系フラックス洗浄剤】ATRON AC 205

粘着性フラックスを除去することで、ボイドのないアンダーフィルに！画像解像度も改善

『ATRON AC 205』は、基板からフラックス残渣を除去するため設計されたFASTテクノロジー系の洗浄剤です。当製品はより短い処理時間かつ長寿命。特に短い処理時間が要求される高圧イ…
【メタルマスク向け洗浄剤】ZESTRON SD 301

高いコンタミ保持能力のため、長寿命で洗浄コストを削減！

『ZESTRON SD 301』は、メタルマスクやスクリーンから防爆仕様のスプレー洗浄機によるクリーム半田・SMT 接着剤・厚膜ペースト除去用の溶剤系洗浄剤です。速乾性があり、洗浄工程…
【メタルマスク向け洗浄剤】ZESTRON SD 100

低臭気で、室温下で使用可能！メタルマスク、スクリーン向けクリーム半田洗浄剤

『ZESTRON SD 100』は、防爆仕様スプレー式洗浄機にてメタルマスクからクリーム半田除去用に専用設計された溶剤系洗浄剤です。フラックスの種類によって、印刷ミス基板にも使用することが…
【レジン系残渣可視化】ZESTRON Resin Test

一時的な呈色反応によってレジン系残渣の分布を識別！特別な試験設備は不要

『ZESTRON Resin Test』は、プリント基板上のレジン系残渣可視化テストキットです。当製品を使用することにより、生産工程で残渣を検知し、洗浄工程で除去することが可能。そのた…
【ディスペンサーノズル洗浄剤】ZESTRON HC

SMTボンド除去用、着脱可能なディスペンサーノズルであれば、簡単に洗浄することが可能！

『ZESTRON HC』は、ディスペンサーノズルなどの治具からSMT ボンド除去用として開発された改良アルコール系洗浄剤です。マウンターノズルのはんだ粒子やダスト除去にも使用可能。 …
【コーティング欠陥検出】Coating Layer Test

呈色反応により可視化！コーティング欠陥検出テストのご紹介

『ZESTRON Coating Layer Test』は、ミクロンコーティングの場合でも、コーティングの欠陥を黒色反応で視覚的に示すテストです。クローズドまたは高密度コーティングの欠陥を…
濃度測定キット／ZESTRON Bath Analyzer 20

新液でもコンタミ成分含有の液でも正確に使用可能！正確な濃度測定

『ZESTRON Bath Analyzer 20』は、pH 中性洗浄液向け濃度測定キットです。どこでも使える持ち運び可能な携帯ケース入りで、最小限の器具とわずかなスペースで使用可能。 …
濃度測定キット／ZESTRON Bath Analyzer 10

コンタミ成分が増加しても正確に測定！シンプルかつ迅速な使用手順

『ZESTRON Bath Analyzer 10』は、アルカリ系洗浄液向け濃度測定キットです。シンプルで使いやすく、コンタミ成分含有の薬液に対しても同様に、正確に濃度を測定することが…
【コ・ソルベント工程向け洗浄剤】ZESTRON CO 150

HFE系洗浄剤と組み合わせ、水を使わない工程となる！残渣のない素早い乾燥を実現

『ZESTRON CO 150』は、超音波浸漬工程用に専用設計された溶剤系洗浄剤です。希釈せずに、HFE系洗浄剤との組み合わせでプレ洗浄、もしくはコ・ソルベント用として使用可能。特…
【メタルマスク向け水系洗浄剤】VIGON TC 150

導電性ペースト用水系洗浄剤、メタルマスクやスクリーン版からの銀シンターペーストの除去にも使用可能！

当社で取り扱う、導電性ペースト用水系洗浄剤『VIGON TC 150』をご紹介します。メタルマスクやスクリーン版から、シリコン系やシリコンフリー、銀・アルミニウムの導電性ペーストを除去…
【メタルマスク向け水系洗浄剤】VIGON SC 210

VOC値が20％を大幅に下回る！引火点がないため防爆設備なしでご利用可能

『VIGON SC 210』は、メタルマスクやSMT ボンドの洗浄用途として専用設計された水系洗浄剤です。 MPCテクノロジーに基づき、18℃という低温度であってもクリーム半田・SMT …
【パワー半導体向けフラックス洗浄剤】VIGON PE 215N

効果的なリンスにより、銅基板の再酸化を防ぐ！活性化された銅基板を長期間保護

『VIGON PE 215N』は、スプレー洗浄装置用として専用設計された中性の水系洗浄剤です。 MPCテクノロジーにより、パワーエレクトロニクス部品からフラックス残渣を確実に除去すること…
パワー半導体・プリント基板向け洗浄剤／VIGON PE 194A

弱アルカリ性フラックス洗浄剤、リンス性に優れ泡立ちせず、スプレーや浸漬装置用に好適！

『VIGON PE 194A』は、スプレー・浸漬装置用に専用設計された水系弱アルカリ性洗浄剤です。感作性が高い金属、特にダイとの材料適合性に非常に優れており、さらに短時間での銅の酸化膜…
【パワー半導体・プリント基板洗浄剤】VIGON PE 190A

引火点を持たないため防爆設備を必要としない！様々なタイプのスプレー装置でご使用可能

『VIGON PE 190A』は、スプレー装置用に専用設計された水系アルカリ性洗浄剤です。 MPCテクノロジーを基にリードフレームやディスクリート部品、パワーモジュール、パワーLED、プリン…