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      • お困りでは?インクジェットインク、潤滑剤、電池材料を扱う方必見! 製品画像

        お困りでは?インクジェットインク、潤滑剤、電池材料を扱う方必見!

        再分散性に優れる白色顔料、新規固体潤滑剤、各種電池材料のTi、P源をお探しの方、開発品『リン酸チタン』をお試しください!

        ユニークな白色板状粒子『リン酸チタン』を合成することに成功しました。屈折率1.79、高白色度、高アスペクト比、制御された粒子径・粒度分布、高純度など数多くの特徴を有します。 0.3~5μmとサブ…

      • リン酸チタン 第10回化粧品産業技術展 掲載ポスター3種 製品画像

        リン酸チタン 第10回化粧品産業技術展 掲載ポスター3種

        高機能性無機パウダー リン酸チタン

        滑らかで、塗り広がりやすく、自然な仕上がりを実現する白色板状粉体(リン酸チタン)を開発しました。 第10回化粧品産業技術展にて掲載したポスター3種がダウンロードいただけます。 ・高機能性無機パ…

      • 高純度イットリア溶射材 製品画像

        高純度イットリア溶射材

        耐プラズマエロ―ジョン性に優れた溶射皮膜が得られる高純度イットリア粉末です。

        造粒焼結粉法で作製された純度99.99%以上の高純度イットリア溶射材料です。 イットリア溶射材は主に半導体、FPD製造装置に使用されるため高い純度が要求されます。 これに応えるためフジミでは厳…

      • アルミナ溶射材『SURPREX AW・AHP』 製品画像

        アルミナ溶射材『SURPREX AW・AHP』

        耐摩耗性、化学的安定性、絶縁性など優れた皮膜特性が得られるアルミナ溶射材料です。

        溶融-粉砕法で作製されたアルミナ溶射材料です。 耐摩耗、絶縁部品に使用されるホワイトアルミナ(AW)と、半導体、FPD製造装置などに使用される高純度アルミナ(AHP)を用意しております。 高純…

      • 高温環境用超硬溶射材『SURPREX CNC25』 製品画像

        高温環境用超硬溶射材『SURPREX CNC25』

        高温環境下での耐食性、耐摩耗性に優れたサーメット溶射材料です。

        造粒焼結法で作製されたCrC/25wt%NiCr溶射材料です。 厳格な粒度、顆粒強度の管理によりスピッティング防止と優れた付着効率を実現しつつ、高温での耐食性、耐摩耗性に優れた溶射皮膜(コーティ…

      • 耐衝撃超硬溶射材『SURPREX W2000Xシリーズ』 製品画像

        耐衝撃超硬溶射材『SURPREX W2000Xシリーズ』

        耐摩耗性と耐衝撃性に優れたサーメット溶射材料です。

        造粒焼結法で作製されたWC/CrC/Ni系サーメット溶射材です。 厳格な粒度、顆粒強度の管理によりスピッティング防止と優れた付着効率を実現しつつ、耐摩耗性、耐衝撃性に優れた溶射皮膜(コーティング…

      • 耐食耐摩耗超硬溶射材『SURPREX W1004』 製品画像

        耐食耐摩耗超硬溶射材『SURPREX W1004』

        耐食性、耐摩耗性、靭性のバランスに優れたサーメット溶射材料です。

        造粒焼結法で作製されたWC/10wt%Co/4wt%Cr溶射材料です。 厳格な粒度、顆粒強度の管理によりスピッティング防止と優れた付着効率を実現しつつ、耐摩耗性、耐食性、靭性のバランスに優れた溶…

      • 耐食超硬溶射材『SURPREX W2007』 製品画像

        耐食超硬溶射材『SURPREX W2007』

        耐食性、耐摩耗性に優れるサーメット溶射材料です。特に耐スラリーエロ―ジョン性に優れます。

        造粒焼結法で作製されたWC/20wt%CrC/7wt%Ni溶射材料です。 厳格な粒度、顆粒強度の管理によりスピッティング防止と優れた付着効率を実現しつつ、腐食に強く耐摩耗性に優れた溶射皮膜(コー…

      • 耐摩耗超硬溶射材『SURPREX WC12』 製品画像

        耐摩耗超硬溶射材『SURPREX WC12』

        最もスタンダードなサーメット溶射材料です。優れた耐摩耗性と靭性を発揮します。

        造粒焼結法で作製されたWC/12wt%Co組成の溶射材料です。 厳格な粒度、顆粒強度の管理によりスピッティング防止と優れた付着効率を実現しつつ、耐摩耗性に優れた溶射皮膜(コーティング)が得られま…

      • 積層造形用 超硬合金粉末 製品画像

        積層造形用 超硬合金粉末

        アディティブマニュファクチャリング(AM)用途に適した超硬合金粉末を独自開発。粉末の販売を開始しました。

        超硬合金粉末に関して、溶射材製造で培った技術や知見を活かして 積層造形用に適したタングステンカーバイド(WC)とCoの造粒焼結粉を開発、販売開始しました。 提供する粉末は粉末床溶融結合法(PB…

      • SiC超微粒子、SiC球形粒子 製品画像

        SiC超微粒子、SiC球形粒子

        球形SiC粒子などをご紹介します

        当社は長年培ってきたセラミックパウダー技術を応用し、 平均粒子径0.27μmの「GC#40000」を開発しました。 その他、SiC微粒を用いたことによる、内部が緻密な「球状SiC」の 開発に…

      • フジミインコーポレーテッドの取り扱う『溶射材』の製品一覧資料 製品画像

        フジミインコーポレーテッドの取り扱う『溶射材』の製品一覧資料

        サーメット材料・セラミック材料・当社新製品(スラリー溶射材 ・ブラスト材等)等、『溶射材』のご紹介です。

        当社で取り扱っている、各種溶射材のご案内資料です。 各製品の組成や製法、製品名、粒度、材料特性、梱包数量等の詳細は、 ページ下部「PDFダウンロード」より資料をご覧ください。 【掲載内容】 …

      • 【金属、金属酸化物向 研磨スラリー】CLEALITE シリーズ 製品画像

        【金属、金属酸化物向 研磨スラリー】CLEALITE シリーズ

        機械加工痕や成形痕を効率よく除去し、均一な平滑面を得ることができる研磨材

        『CLEALITE シリーズ』は、各種金属、サファイア、Al 陽極酸化膜などの 金属酸化物表面を、平滑化するために設計された研磨材です。 一般工業部品、装飾品、LED支持基板、サファイアカバー…

      • 複合粒子技術|『用途に応じた複合粒子を提案』 製品画像

        複合粒子技術|『用途に応じた複合粒子を提案』

        複合粒子技術を新用途へ展開【熱伝導フィラー等の用途に】

        当社は1950年の創業以来60余年培ってきたパウダー技術にさらに研鑽を加え、 2000年からは表面改質の一種である溶射を通して複合技術を積み重ねてきました。 複合技術では樹脂・金属・セラミックとい…

      • フィラー・滑り性改良剤・塗料用添加剤等に板状粒子『リン酸チタン』 製品画像

        フィラー・滑り性改良剤・塗料用添加剤等に板状粒子『リン酸チタン』

        屈折率1.79・高白色度板状粒子『リン酸チタン』は光触媒活性が無く、有機物を分解しません!(開発品)

        屈折率1.79、高白色度、アスペクト比が制御された、 全く新しい板状粒子『リン酸チタン』を合成することに成功しました。 リン酸チタンは光触媒活性が無いため、有機物を分解しません。 滑り性など…

      • ナノ・サブミクロン粒子の製造技術(研磨材・溶射材・フィラー等) 製品画像

        ナノ・サブミクロン粒子の製造技術(研磨材・溶射材・フィラー等)

        ナノ・サブミクロンの粒子製造技術(研磨材、溶射材、フィラー等)

        幅広い分野の製品に対応する研磨材等の製造販売を行っているフジミは、 1950年の創業以来60余年培ってきたコア技術にさらに研鑽を加え、新たな用途に挑戦して参ります。 フジミでは、水熱合成により…

      • 板状結晶の高品質アルミナ質研磨材『PWA』 製品画像

        板状結晶の高品質アルミナ質研磨材『PWA』

        精巧な研磨面が得られ優れた研磨能率を発揮!機能性に富んだ研磨材料

        『PWA』は、Al2O3純度99.0%以上の板状結晶で構成された 高品質なアルミナ質研磨材です。 耐熱性に優れており、化学的にも不活性で、酸やアルカリにも侵されません。 粒度分布が安定してい…

      • 様々な用途に使用可能な高純度アルミナ質研磨材『WA』 製品画像

        様々な用途に使用可能な高純度アルミナ質研磨材『WA』

        精密ラッピングやブラスト加工、超仕上用精密砥石の材料や研磨テープの材料に!高度な表面加工が可能な研磨材

        『WA』は、白色アルミナ質研磨材で、幅広い用途に使用される 代表的な精密加工用微粉です。 製法は溶融アルミナを微粉砕し整粒したもので、成分はαタイプの コランダム結晶で構成されたAl2O3純…

      • 超仕上用精密砥石や研磨布紙の材料に適したアルミナ研磨材『A』 製品画像

        超仕上用精密砥石や研磨布紙の材料に適したアルミナ研磨材『A』

        安定した研磨性能を維持!超仕上用精密砥石や超仕上用研磨布紙の材料などに好適!

        『A』は、通称アランダムとも呼ばれている広く知られた研磨材です。 ボーキサイトを電溶炉にて2000℃の高温で溶融させて得られる Al2O3純度90%以上のコランダム結晶で構成されています。 …

      • ダイヤモンドスラリー研磨材『DIATEC』 製品画像

        ダイヤモンドスラリー研磨材『DIATEC』

        フェライトや超硬質金属、セラミックス等のラッピングに使用可能なダイヤモンドスラリー研磨材

        『DIATEC』は、整粒されたダイヤモンドパウダーと特殊研削液とを 混合したスラリータイプの研磨材です。 つねに安定した研磨力を持続し、高能率、高精度に鏡面仕上げを 行うことができます。 …

      • 黒色炭化けい素研磨材『C』 製品画像

        黒色炭化けい素研磨材『C』

        研磨布紙、超仕上用精密砥石材料、鋳鉄、真鍮等の精密ラッピングに使われるα型炭化けい素研磨材

        『C』は、通称カーボランダムとも呼ばれている黒色炭化けい素研磨材です。 電気抵抗炉で2000℃以上の高温で珪石とコークスを熱反応させて得られる α型の炭化けい素結晶から構成されています。 …

      • ワイヤーソー、ラッピング加工用高純度α型炭化けい素研磨材『GC』 製品画像

        ワイヤーソー、ラッピング加工用高純度α型炭化けい素研磨材『GC』

        薬品等に侵されず、破砕により鋭い研削刃を自生し、優れた研磨力を発揮!

        『GC』は、高いSiC純度を誇る緑色炭化けい素研磨材です。 六方晶のα型の結晶はダイヤモンドに次ぐ硬度を有するほか、化学的にも 常温で非常に安定しています。したがって薬品等に侵されず、破砕によ…

      • 化合物半導体用の研磨材、エッチング材『INSEC』 製品画像

        化合物半導体用の研磨材、エッチング材『INSEC』

        化合物半導体結晶をメカノケミカル加工によって精度よく鏡面に仕上げる!

        『INSEC』は、化合物半導体結晶をメカノケミカル加工によって 精度よく鏡面に仕上げるポリシング材です。 種類も豊富で、GaAsウェーファー用の「FP(一次用ポリシング材)」、 「NIB(フ…

      • 溶射歩留まりを高める『溶射粉末 SURPREX』 製品画像

        溶射歩留まりを高める『溶射粉末 SURPREX』

        希望の粒度に調整した溶射粉末の作製も!スピッティング等のトラブルを回避しながら高い付着効率を発揮 ※溶射粉末の解説資料プレゼント

        溶射粉末『SURPREX』は、原料となる複数の微粉末を真珠状に近い形状へ造粒し、焼結した後に粒度を調整する製法で作られています。 そのため、一般的な[焼結-粉砕法]・[溶融-粉砕法]により製造された…

      • 金属用アルミナ研磨材『FM』 製品画像

        金属用アルミナ研磨材『FM』

        高速度鋼や合金などの微細な組織でも鮮明な研磨が可能!ラシャやフェルト等の使用もOK。加工が簡単に

        『FM』は、高速度鋼から軟質金属まで利用範囲の広い金属用最終研磨材です。 ビッカース硬度200~250でも、研磨布紙の中磨きから直ちに仕上げ磨きに移っても、精巧で美しい研磨面をつくりあげます。 …

      • 純度99.9%のαアルミナ研磨材『FS』 製品画像

        純度99.9%のαアルミナ研磨材『FS』

        純度99.9&以上の超微粒子!コンタクトレンズ・精密機械部品の最終仕上げに

        『FS』は、コンタクトレンズや精密機械部品の最終仕上げで使える高純度なα‐A1₂O₃の粉末のポリシ材です。 フジミの技術に加え、細心の注意をもってコントロールされた粒子径とストックリムービングの…

      • 高純度のアルミナ研磨材『FAL』 製品画像

        高純度のアルミナ研磨材『FAL』

        コンタクトレンズ、軟質金属の研磨に使用可能なアルミナ研磨材

        『FAL』は、高純度のアルミナ研磨材です。 常に安定した粒度分布と高純度を保ち、優れたポリシング性能とスクラッチフリーの面をお約束できます。 【用途】 ■コンタクトレンズ ■半導体結晶 …

      • 一般金属向け鏡面仕上げシリカ研磨材『CLEALITE』 製品画像

        一般金属向け鏡面仕上げシリカ研磨材『CLEALITE』

        銅・アルミニウム・ステンレス・チタニウムなどの一般金属向け!

        鏡面仕上げ材『CLEALITE』は、一般金属向け鏡面仕上げ材です。 “2340”は特殊組成液とともにメカノケミカルポリシング作用にて、10nm(Rmax)の表面粗さとスクラッチフリーの表面に仕上げる…

      • 特殊合金や光学レンズ向け酸化ジルコニウム研磨材『FZ』 製品画像

        特殊合金や光学レンズ向け酸化ジルコニウム研磨材『FZ』

        金属特有の深みのあるスクラッチフリーの光沢面に!

        ポリシング材『FZ』は、酸化ジルコニウム(ZrO2)の超微粒子できており、モリブデン・タングステン・クロミウム・チタニウム・ニッケルなどの特殊合金の研磨に適したポリシング材です。 『FZ』使用時…

      • アルミナベースの精密ラッピング材『FO』 製品画像

        アルミナベースの精密ラッピング材『FO』

        半導体ウエハーやレンズなどの光学材料にも優れた加工性能を発揮!厳選された材料を使用した精密ラッピング材

        『FO』は、厳選された材料を使用し、独自の製造工程によって粒形や硬度に 特長を持たせたアルミナベースの精密ラッピング材です。 厳重な晶質管理のもとで製造されており、つねに安定した研磨能力をもた…

      • 高純度コロイダルシリカスラリー研磨材『COMPOL』 製品画像

        高純度コロイダルシリカスラリー研磨材『COMPOL』

        高能率でダメージフリーの研磨面が得られる!サファイアなどの電子材料基盤、金属材料、セラミックスなど様々な材質の鏡面仕上げが可能

        『COMPOL』は、サファイアなどの電子材料基盤、金属材料およびセラミックスのポリシング専用に開発された高純度コロイダルシリカスラリーです。 粒子の均一性、分散性に優れ、高能率でダメージフリーの研磨…

      • 半導体デバイス用研磨材『PLANERLITE』 製品画像

        半導体デバイス用研磨材『PLANERLITE』

        《高純度・高加工能率・高分散・スクラッチフリー》を求める方に適した研磨材!

        『PLANERLITE』シリーズは、高密度化するULSIデバイスの平坦工程に取り入れられたCMP(Chemical Mechanical Planerlization)技術に使用されるポリシング材で、…

      • 資料進呈|研磨向け『ポリシング製品』の選定に! 製品画像

        資料進呈|研磨向け『ポリシング製品』の選定に!

        多彩なラインアップ&高コストパフォーマンスを多数取り扱い!加工物に合ったポリシング製品を選ぶための選定資料として

        フジミは高純度テクノロジーの結晶であるポリシング製品を取り揃えています。いまなお市場を圧倒的に独占するロングセラー&ベストセラーも。 本資料は、加工物に合ったポリシング製品を選ぶための選定資料と…

      • 資料進呈|被加工物の素材に適した研磨材選びできていますか? 製品画像

        資料進呈|被加工物の素材に適した研磨材選びできていますか?

        ワイヤーソー用材料~ファインセラミック材料などの“加工方法×被加工物”に合った研磨材、関連製品の選定に役立つ資料を進呈!

        加工方法・被加工物によって選択すべき研磨方法は異なります。 本資料は、“どんな材料を、どう研磨するか”、多彩なニーズに最適なセレクションでお応えするための資料です。 「どんな研磨方法が良いのか…

      • プラスチックレンズ用研磨材『POLIPLA』 製品画像

        プラスチックレンズ用研磨材『POLIPLA』

        豊富な種類を取り揃え!高いポリシングレートと良好な仕上げ面が得られます

        『POLIPLA』は、プラスチックレンズ用に開発したコンパウンドタイプの ポリシング材です。 均一に分散した高純度アルミナとpH値約3.0~4.0の特殊組成液から作られ、 高いポリシングレー…

      • シリコンウエハー用コロイダルシリカ研磨材『GLANZOX』 製品画像

        シリコンウエハー用コロイダルシリカ研磨材『GLANZOX』

        より高い平坦性、ダメージフリー、重金属汚染フリーなど完全鏡面の要求にお応え!

        『GLANZOX』は、コロイダルシリカを特殊組成液に分散させ優れた研磨面の実現を可能にしました。 近年、デバイス特性に影響する金属不純物についても厳しい低減要求がなされています。これに対し超高純度コ…

      • ナノ・サブミクロン粒子の製造技術 製品画像

        ナノ・サブミクロン粒子の製造技術

        コア技術にさらに研鑽を加え、ナノ・サブミクロンの様々な粒子創れます!

        幅広い分野の製品に対応する研磨材等の製造販売を行っているフジミは、1950年の創業以来60余年培ってきたコア技術にさらに研鑽を加え、新たな用途に挑戦して参ります。 水熱合成により粗大粒子、微小粒…

      • フジミパウダー技術『α型SiC微粒子』 製品画像

        フジミパウダー技術『α型SiC微粒子』

        粒度#240-10000から#40000のα型SiC微粒子をご紹介!

        当資料では、α型SiC微粒子についてご紹介しています。 また、新たに製造に成功した♯40000(粒子径D50%=0.27um)と従来品の 残存不純物量の比較や粒子分布を表したグラフも掲載しています…

      • フジミパウダー技術『角状ナノアルミナ』 製品画像

        フジミパウダー技術『角状ナノアルミナ』

        非常にシャープな粒度分布!粒子径状が揃ったパウダー技術をご紹介

        新規開発の『角状ナノアルミナ』は、従来のアルミナと異なり 粒子径状が揃っており、粒度分布も非常にシャープです。 一次粒子径は100~700nmで任意にコントロール可能で、 結晶系も用途によっ…

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