株式会社フジミインコーポレーテッド

超仕上用精密砥石や研磨布紙の材料に適したアルミナ研磨材『A』

安定した研磨性能を維持！超仕上用精密砥石や超仕上用研磨布紙の材料などに好適！

『A』は、通称アランダムとも呼ばれている広く知られた研磨材です。 ボーキサイトを電溶炉にて2000℃の高温で溶融させて得られる Al2O3純度90％以上のコランダム結晶で構成されています。 …

様々な用途に使用可能な高純度アルミナ質研磨材『WA』

精密ラッピングやブラスト加工、超仕上用精密砥石の材料や研磨テープの材料に！高度な表面加工が可能な研磨材

『WA』は、白色アルミナ質研磨材で、幅広い用途に使用される 代表的な精密加工用微粉です。 製法は溶融アルミナを微粉砕し整粒したもので、成分はαタイプの コランダム結晶で構成されたAl2O3純…

金属用アルミナ研磨材『FM』

高速度鋼や合金などの微細な組織でも鮮明な研磨が可能！ラシャやフェルト等の使用もOK。加工が簡単に

『FM』は、高速度鋼から軟質金属まで利用範囲の広い金属用最終研磨材です。 ビッカース硬度200～250でも、研磨布紙の中磨きから直ちに仕上げ磨きに移っても、精巧で美しい研磨面をつくりあげます。 …

高純度のアルミナ研磨材『FAL』

コンタクトレンズ、軟質金属の研磨に使用可能なアルミナ研磨材

『FAL』は、高純度のアルミナ研磨材です。 常に安定した粒度分布と高純度を保ち、優れたポリシング性能とスクラッチフリーの面をお約束できます。 【用途】 ■コンタクトレンズ ■半導体結晶 …

純度99.9％のαアルミナ研磨材『FS』

純度９９．９＆以上の超微粒子！コンタクトレンズ・精密機械部品の最終仕上げに

『FS』は、コンタクトレンズや精密機械部品の最終仕上げで使える高純度なα‐A1₂O₃の粉末のポリシ材です。 フジミの技術に加え、細心の注意をもってコントロールされた粒子径とストックリムービングの…

アルミナベースの精密ラッピング材『FO』

半導体ウエハーやレンズなどの光学材料にも優れた加工性能を発揮！厳選された材料を使用した精密ラッピング材

『FO』は、厳選された材料を使用し、独自の製造工程によって粒形や硬度に 特長を持たせたアルミナベースの精密ラッピング材です。 厳重な晶質管理のもとで製造されており、つねに安定した研磨能力をもた…

プラスチックレンズ用研磨材『POLIPLA』

豊富な種類を取り揃え！高いポリシングレートと良好な仕上げ面が得られます

『POLIPLA』は、プラスチックレンズ用に開発したコンパウンドタイプの ポリシング材です。 均一に分散した高純度アルミナとpH値約3.0～4.0の特殊組成液から作られ、 高いポリシングレー…

【金属、金属酸化物向　研磨スラリー】CLEALITE シリーズ

機械加工痕や成形痕を効率よく除去し、均一な平滑面を得ることができる研磨材

『CLEALITE シリーズ』は、各種金属、サファイア、Al 陽極酸化膜などの 金属酸化物表面を、平滑化するために設計された研磨材です。 一般工業部品、装飾品、LED支持基板、サファイアカバー…

一般金属向け鏡面仕上げシリカ研磨材『CLEALITE』

銅・アルミニウム・ステンレス・チタニウムなどの一般金属向け！

鏡面仕上げ材『CLEALITE』は、一般金属向け鏡面仕上げ材です。 “2340”は特殊組成液とともにメカノケミカルポリシング作用にて、10nm（Rmax）の表面粗さとスクラッチフリーの表面に仕上げる…

黒色炭化けい素研磨材『C』

研磨布紙、超仕上用精密砥石材料、鋳鉄、真鍮等の精密ラッピングに使われるα型炭化けい素研磨材

『C』は、通称カーボランダムとも呼ばれている黒色炭化けい素研磨材です。 電気抵抗炉で2000℃以上の高温で珪石とコークスを熱反応させて得られる α型の炭化けい素結晶から構成されています。 …

ワイヤーソー、ラッピング加工用高純度α型炭化けい素研磨材『GC』

薬品等に侵されず、破砕により鋭い研削刃を自生し、優れた研磨力を発揮！

『GC』は、高いSiC純度を誇る緑色炭化けい素研磨材です。 六方晶のα型の結晶はダイヤモンドに次ぐ硬度を有するほか、化学的にも 常温で非常に安定しています。したがって薬品等に侵されず、破砕によ…

特殊合金や光学レンズ向け酸化ジルコニウム研磨材『FZ』

金属特有の深みのあるスクラッチフリーの光沢面に！

ポリシング材『FZ』は、酸化ジルコニウム(ZrO2)の超微粒子できており、モリブデン・タングステン・クロミウム・チタニウム・ニッケルなどの特殊合金の研磨に適したポリシング材です。 『FZ』使用時…

半導体デバイス用研磨材『PLANERLITE』

《高純度・高加工能率・高分散・スクラッチフリー》を求める方に適した研磨材！

『PLANERLITE』シリーズは、高密度化するULSIデバイスの平坦工程に取り入れられたCMP(Chemical Mechanical Planarization)技術に使用されるポリシング材で、高…

シリコンウエハー用コロイダルシリカ研磨材『GLANZOX』

より高い平坦性、ダメージフリー、重金属汚染フリーなど完全鏡面の要求にお応え！

『GLANZOX』は、コロイダルシリカを特殊組成液に分散させ優れた研磨面の実現を可能にしました。 近年、デバイス特性に影響する金属不純物についても厳しい低減要求がなされています。これに対し超高純度コ…

高純度コロイダルシリカスラリー研磨材『COMPOL』

高能率でダメージフリーの研磨面が得られる！サファイアなどの電子材料基盤、金属材料、セラミックスなど様々な材質の鏡面仕上げが可能

『COMPOL』は、サファイアなどの電子材料基盤、金属材料およびセラミックスのポリシング専用に開発された高純度コロイダルシリカスラリーです。 粒子の均一性、分散性に優れ、高能率でダメージフリーの研磨…

化合物半導体用の研磨材、エッチング材『INSEC』

化合物半導体結晶をメカノケミカル加工によって精度よく鏡面に仕上げる！

『INSEC』は、化合物半導体結晶をメカノケミカル加工によって 精度よく鏡面に仕上げるポリシング材です。 種類も豊富で、GaAsウェーファー用の「FP(一次用ポリシング材)」、 「NIB(フ…

ダイヤモンドスラリー研磨材『DIATEC』

フェライトや超硬質金属、セラミックス等のラッピングに使用可能なダイヤモンドスラリー研磨材

『DIATEC』は、整粒されたダイヤモンドパウダーと特殊研削液とを 混合したスラリータイプの研磨材です。 つねに安定した研磨力を持続し、高能率、高精度に鏡面仕上げを 行うことができます。 …