株式会社KISO WAVE 企業イメージ
私たちは独自のものづくり技術と、卓越した技術屋精神に基づき電子と光の世界を構築し、情報コミュニケーションの未来に貢献します。
1983年、株式会社ミクロ技術研究所の薄膜金属パターニング工場として設立されＬＣＤ基板・ＰＤＰ基板を中心にフォトリソグラフィーとエッチング技術で先端製品を生み出してまいりました。
2007年、きそミクロ株式会社として分社化する事により、これまで以上に創作的な商品へチャレンジする意思を高め、未来に創造できる会社としてお客様から信頼される企業を目指してまいります。
開発から量産まで当社をお役立て下さい。
◇各種金属膜の微細パターン加工
◇各種ガラスのケミカル研磨（ガラスエッチング）加工
◇ＳｉＯ２膜のパターン微細加工
上記加工を開発から量産まで幅広く手がけています。
【使用例】
１、タッチパネル 抵抗膜方式／静電容量方式
２、表示ディスプレイ ＬＣＤ／ＰＤＰ／有機ＥＬ／電子ペーパー
３、照明・エネルギー ＬＥＤ／有機太陽電池
４、バイオ・光学・ＭＥＭＳ マイクロチップ／回析格子／センサー
５、モバイルデコレーション 加飾（ガラス・フィルム・プラスチック）
基板材料はガラス・フィルム・プラスチックを対応させて頂きます。
またメッキ技術・印刷技術の複合面でもご相談下さい。
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