全自動ウエハボンダー XBS200
先端MEMS,LED,小型電子部品など,各種用途の多様なプロセスに対応した,量産向け全自動ウエハボンダー。
【特長】 ■金属拡散接合,共晶接合,TLP接合,接着剤接合,フュージョン接合,陽極接合,ガラスフリット接合など,あらゆるウエハ接合プロセスに対応 ■直径100mm~200mmまでのウエハおよび基板…
高荷重ウエハボンダー XB8
200mm対応,最大荷重100kNの高性能高荷重ウエハボンダー
ズース・マイクロテックの高荷重ウエハボンダー XB8は,最大荷重100kNの最新ウエハボンダーで,200mmまでの各種サイズ,材質のウエハおよび基板の処理に対応します。 金属拡散接合,共晶接合/TL…
汎用ウエハ接合装置 SB6/8 Gen2
先端MEMS,LED,小型電子部品など,各種用途の多様なプロセスに対応した,研究開発から試作・小量産向けウエハ接合装置。
【特長】 ■金属拡散接合,共晶接合,TLP接合,接着剤接合,フュージョン接合,陽極接合,ガラスフリット接合など,あらゆるウエハ接合プロセスに対応 ■直径200mmまでのウエハおよび基板,6mmまで…
ウエハ剥離装置 DB12T
3”~300mmまでのウエハサイズに対応可能な,室温・機械式ウエハ剥離装置。
■ 薄ウエハ搬送/プロセスに必要なウエハ剥離装置です。 ■ 3”~300mmまでの各種ウエハサイズに対応可能な,室温・機械式ウエハ剥離。
エキシマレーザー剥離装置 LD12
300mmまでのウエハサイズに対応可能な,室温・レーザー式ウエハ剥離装置
■ 薄ウエハ搬送/プロセスに必要なウエハ剥離装置です。 ■ 300mmまでの各種ウエハサイズに対応可能な,室温・レーザー式ウエハ剥離。
露光装置 MA/BA8 Gen4 Pro
R&D小ロット生産に最適
自社開発の回折光減小光学系、WECシステム採用
露光装置 MJB4
研究用途に最適
露光装置 MA300 Gen2
再配線の加工に最適な300mmウエハ用両面マスクアライナ
塗布・現像装置 ACS200
全自動最大200mm対応
全面一括露光方式の当社製マスクアライナ・モジュールをドッキングさせることにより、リングラフィ・クラスタLithoFab200として使用可能
塗布・現像装置 ACS300 Gen2
最大300mmまでタイプ スピンコーティング/現像クラスタ
量産用ウエハレベルパッケージング及び3次元集積向け
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