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      • 全自動ウエハボンダー XBS200 製品画像

        全自動ウエハボンダー XBS200

        先端MEMS,LED,小型電子部品など,各種用途の多様なプロセスに対応した,量産向け全自動ウエハボンダー。

        【特長】 ■金属拡散接合,共晶接合,TLP接合,接着剤接合,フュージョン接合,陽極接合,ガラスフリット接合など,あらゆるウエハ接合プロセスに対応 ■直径100mm~200mmまでのウエハおよび基板…

      • 高荷重ウエハボンダー XB8 製品画像

        高荷重ウエハボンダー XB8

        200mm対応,最大荷重100kNの高性能高荷重ウエハボンダー

        ズース・マイクロテックの高荷重ウエハボンダー XB8は,最大荷重100kNの最新ウエハボンダーで,200mmまでの各種サイズ,材質のウエハおよび基板の処理に対応します。 金属拡散接合,共晶接合/TL…

      • 汎用ウエハ接合装置 SB6/8 Gen2 製品画像

        汎用ウエハ接合装置 SB6/8 Gen2

        先端MEMS,LED,小型電子部品など,各種用途の多様なプロセスに対応した,研究開発から試作・小量産向けウエハ接合装置。

        【特長】 ■金属拡散接合,共晶接合,TLP接合,接着剤接合,フュージョン接合,陽極接合,ガラスフリット接合など,あらゆるウエハ接合プロセスに対応 ■直径200mmまでのウエハおよび基板,6mmまで…

      • ウエハ剥離装置 DB12T 製品画像

        ウエハ剥離装置 DB12T

        3”~300mmまでのウエハサイズに対応可能な,室温・機械式ウエハ剥離装置。

        ■ 薄ウエハ搬送/プロセスに必要なウエハ剥離装置です。 ■ 3”~300mmまでの各種ウエハサイズに対応可能な,室温・機械式ウエハ剥離。

      • エキシマレーザー剥離装置 LD12 製品画像

        エキシマレーザー剥離装置 LD12

        300mmまでのウエハサイズに対応可能な,室温・レーザー式ウエハ剥離装置

        ■ 薄ウエハ搬送/プロセスに必要なウエハ剥離装置です。 ■ 300mmまでの各種ウエハサイズに対応可能な,室温・レーザー式ウエハ剥離。

      • 露光装置 MA/BA8 Gen4 Pro 製品画像

        露光装置 MA/BA8 Gen4 Pro

        R&D小ロット生産に最適

        自社開発の回折光減小光学系、WECシステム採用

      • 露光装置 MJB4 製品画像

        露光装置 MJB4

        研究用途に最適

        自社開発の回折光減小光学系、WECシステム採用

      • 露光装置 MA300 Gen2 製品画像

        露光装置 MA300 Gen2

        再配線の加工に最適な300mmウエハ用両面マスクアライナ

        自社開発の回折光減小光学系、WECシステム採用

      • 塗布・現像装置 ACS200 製品画像

        塗布・現像装置 ACS200

        全自動最大200mm対応

        全面一括露光方式の当社製マスクアライナ・モジュールをドッキングさせることにより、リングラフィ・クラスタLithoFab200として使用可能

      • 塗布・現像装置 ACS300 Gen2 製品画像

        塗布・現像装置 ACS300 Gen2

        最大300mmまでタイプ スピンコーティング/現像クラスタ

        量産用ウエハレベルパッケージング及び3次元集積向け

      1〜10 件 / 全 10 件
      表示件数
      45件
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