株式会社イー・スクエア

大気圧プラズマ装置を開発後、表示デバイス及びその関連市場に1300台（2023年）以上の販売実績で培った装置信頼性と種々のノウハウを用い、その優位性をプロセスアプリケーションと共に他市場（蓄電池市場・粒子その他）へも新たなアプローチを展開しております。

弊社ダウンストリーム型はプラズマソース（電極）処理部分がワークと隔離されいるため、ワークへの電気的・物理的ダメージの発生が無く、プラズマ生成時の紫外光がもたらす影響もなく、大気圧プラズマ装置で唯一のクリーン処理（パーティクルレス）が可能です。

添加ガスの変更により、選択的に分子機能性付与をプロセス技術として各種表面材質に応じた界面制御が可能で、ダイレクト接着や異種材接着、より強固な塗膜との密着性に有効な手段です。処理幅（プラズマ幅は100mm～3000mmに均一な処理が可能。
炭素繊維束や繊維束状の対応も可能で、束内部まで均一処理が可能。また、粒子への同処理も対応しております。
　ダウンストリーム型の卓上式の実験装置の製造、スポット型装置（250万円～）、立ち合い実験サンプルワークも実施しております。

■大気圧プラズマ装置の開発・製造・販売
■同装置のプロセスアプリケーションの開発
■各種小型実験装置製造販売（ダウンストリーム型・プラナー型・スポット型）
■国内外表示デバイス市場（TFT・OLED）、タッチパネル等とその関連市場・半導体コンバーティング市場
■各種委託処理