リソテックジャパン株式会社

リソグラフィシミュレータ　PROLITH

Virtual Lithography Simulator

リソグラフィ・シミュレータは、数値計算により、露光光学系による結像およびフォトレジストの感光・現像の過程をコンピュータ上に表現し、現像後のフォトレジストの形状を算出します。リソグラフィの研究、開発、そ…

露光解析ツール　位相シフト･フォーカス･モニタ

±25nm3σ以内の高精度。フォーカス･マトリクスが不要です。

露光解析ツール　位相シフト･フォーカス･モニタは±25nm3σ以内の高精度。フォーカス･マトリクスが不要です。既存のオーバーレイ計測器でフォーカス測定ができます。 詳しくはお問い合わせ、またはカタロ…

ナノインプリント装置　LTNIP-7000

ロールtoロール実験用装置構造の連続製作実験などに威力を発揮します。

ナノインプリント装置　LTNIP-7000はLTNIP-5000をロールtoロールに改造した装置。モスアイ構造の連続製作実験などに威力を発揮します。低圧で精密なプレスを実現するため、 プレス機構にはサ…

ナノインプリント装置　LTNIP-5000

LTNIP-2000の上位機種。プレス圧最大20MPa。

ナノインプリント装置　LTNIP-5000はLTNIP-2000の上位機種。プレス圧最大20MPa。サーボモータおよびボールネジ駆動で精密な加圧制御が可能です。加熱温度最大200℃。詳しくはお問い合わ…

脱保護反応解析装置　PAGAシリーズ

フォトレジストの高度な評価を行う、さまざまな装置を提供します。

脱保護反応解析装置　PAGAシリーズはPEB及び248mm露光によるin-situ反応解析、脱保護反応パラメータ算出機能。FT-IR室内にベークプレートを配置し、加熱し ながら官能基の変化を観察で来…

レジスト現像アナライザ　RDA-Qz3

現像速度測定・評価装置。現像中のレジストの膨潤挙動も評価できます。

レジスト現像アナライザ　RDA-Qz3はQCM（クォーツマイクロバランス）法を用いた現像速度測定・評価装置。現像中のレジストの膨潤挙動も評価できます。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧くだ…

レジスト現像アナライザ RDAリシーズ

フォトレジスト現像速度解析評価装置

レジスト現像アナライザRDAシリーズは、フォトレジストの現像速度測定、コントラストカーブ、感度の算出などの現像特性解析が迅速に行えます。また、リソグラフィシミュレータに必要なレジストモデリングパラメー…

レジスト解析用EUV露光装置 EUVES-7000

EQ-10 EUV光源を搭載、極端紫外光対応解析露光装置

レジスト解析用EUV露光装置EUVES-7000は、米国Energetiq Technology社製EQ-10 EUV光源を搭載し、波長13.5nmの極端紫外光露光に対応したオープンフレーム露光が行え…

フォトプロセス解析露光装置　ES-3500LP

ウシオ電機社製エキシマランプを搭載。193nm対応解析露光装置。

フォトプロセス解析露光装置　ES-3500LPはVUVES-4500で用いているレーザー光源の代わりに、ウシオ電機社製エキシマランプを搭載した装置。レーザー光源のような、 大がかりなガス供給システムを…

フォトプロセス解析露光装置　UVESシリーズ

最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能。

フォトプロセス解析露光装置　UVESシリーズはフォトレジストの研究開発用露光ツールです。ステップ露光することで最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能です。露光されたサンプルをレジス…

自動膜厚測定装置 KV-300 / KF-10

500μm厚までの厚膜レジストやポリイミドを非接触で高精度測定。

自動レジスト膜厚測定装置 KV-300/KF-10は従来安定した膜厚測定が困難とされていた超厚膜レジストを非接触で高精度な測定ができます。標準搭載の自動マッピング機能は、高精度自動ステージにより基板の…

マニュアル・ベーク・クーリングLWBシリーズ

高精度ベークプレート、高精度クーリングプレートを採用。ベーククーリング

マニュアル・ベーク・クーリングLWBシリーズは自動レジスト塗布・現像ベーク装置、LITHOTRACシリーズに搭載されている高精度ベークプレート、高精度クーリングプレートを採用したマニュアルのベーク・ク…

マニュアル塗布装置/現像装置 Litho Spin Cup

研究開発用途から生産まで幅広いニーズに応える マニュアルスピンコータ、マニュアルスピンデベロッパ

リソスピンカップシリーズは、マニュアルでありながら自動塗布/現像装置と同等のスピンユニットを採用しているため、オートディスペンサ、各種リンス、廃液自動回収、カップ排気等に標準で対応しています。簡単かつ…

自動レジスト塗布・現像・ベーク装置LITHOTRACシリーズ

塗布ユニット/現象ユニット搭載。2''～8''ウェーハの簡易切換え可。

自動レジスト塗布・現像・ベーク装置LITHOTRACシリーズは弊社独自に、研究開発用途から量産用途まで、ウエーハ製造プロセスのあらゆる部門に適応可能な装置開発を進めてきたレジスト塗布・現像・ベーク装置…

マニュアル・レジスト／塗布現像装置

ウエーハ製造プロセスのあらゆる部門に適応可能。

ウエーハ製造プロセスのあらゆる部門に適応可能な簡易型のレジスト塗布、現像装置。 マニュアル装置でありながら、ケミカルフィルタ、レジスト温調、現像液温調、塗布室の雰囲気温調・湿度制御などの各種オプ…

フォトレジストの研究開発用露光ツール　

フォトプロセス解析用露光装置シリーズ

フォトレジストの研究開発用露光ツール！ フォトプロセス解析用露光装置シリーズ ■□■ラインナップ■□■ ■UVES-2000（g/h/i/248nmおよびブロード光対応解析露光装置） …

ナノインプリント用一括露光装置、アライメント装置

ナノインプリント用ツール

ナノインプリント装置とともに開発した周辺装置です。 ■WEX-200（ウェーハ全面一括露光装置） ■WMA-600（ナノインプリント用アライメント装置）