小型スパッタ装置『SS-DC・RF301』
小型設計ながら性能はキープ!高温での基板加熱が可能なスパッタ装置
『SS-DC・RF301』は、2"マグネトロンカソードと基板加熱機構をそれぞれ 1基搭載した小型スパッタ装置です。 シンプルな設計により、事務机の約半分のスペースに設置可能。 基板…
分析・計測製品 ラングミュアプローブ測定ユニット
シングルラングミュアプローブはOリング軸シール方式により、真空容器内で直線移動可能な形状になっています。
プロセス用に限定し手動操作とすることにより簡素化しました。屈曲型は関節により先端を任意に曲げられる構造とし、フランジの直進方向以外の測定を可能にしています。 関節部は真空外から操作できませんが探針部…
プラズマ関連製品 RFプラズマ源 ERFS-501
ICPタイプのRF高密度プラズマにより各種原料ガスを処理し、成膜実験、エッチング実験等にご使用頂けます。
プラズマ室は石英製になっており、また無電極放電により金属コンタミの少ないプロセスが可能です。活性ガス導入時でも長時間安定動作が行え、かつクリーンな原子・ラジカルビーム等を得ることができます。
プラズマ関連製品 RFラジカルビーム源 IRFS-504
ICPタイプのRF放電により化学的に活性なラジカルを形成し、差圧によりフラックスを引き出しています。
放電部、引き出し部は高純度PBNで製作しており、活性ガス導入時でも長時間安定動作が行え、かつクリーンな原子・ラジカルビームを得ることができます。特に窒素ラジカル源として、多くの実績を有しています。
MBE関連製品 RHEEDシステム
MBE装置及び部品類を開発・製造してきたノウハウをベースに電子銃・制御電源からスクリーンまで全て自社で開発・製造しています。
標準品以外でも豊富な経験とCADを駆使することによりお客様の要求仕様に応じて設計、製造いたします。現在までに標準品を初め、特殊仕様セル、各社MBE装置向けの代替など研究開発から大型生産装置用まで数多く…
MBE関連製品 分子線セル
分子線セルの製造に30年以上の実績を有し、豊富な経験と知識をベースに、お客様の使用環境・使用目的に最適な製品をご提供しています。
MBE関連製品 MBE装置
基板サイズ1”~6”、Ⅲ-Ⅴ族、Ⅱ-Ⅵ族対応等お客様の使用環境・使用目的に最適な製品をご提供しています。
分子線セル、RHEED、BFM、基板加熱機構等の主要部品からチャンバー、シュラウド、プロセスコントローラ、シャッターコントローラ等の制御ユニットまで、一貫して自社にて製造致します。
Zステージ LMTシリーズ
各種コンポーネントを取り付け 大気側から直接移動調整が可能な中空Zステージ 【特徴】 ○オールメタルシールによりベーキング可能 ○コンフラットフランジ仕様により MBE装置等、各種超…
超小型回転導入機 RFTシリーズ
強力な希土類磁石を用いた磁気結合構造により 連続高速回転に使用できる、超小型回転導入機 【特徴】 ○ベアリングを交換するだけで半永久的に使用可能 ○小型化設計にて取り付け場所を選ばない …
ビューポートシャッター SFシリーズ
蒸着、スパッタ、MBE、CVDなどの成膜プロセス 有機ガスを含むプロセス中で問題となるビューポートへの成膜やダメージを防止 【特徴】 ○コンフラットフランジ仕様により、MBE装置等 各…
ロードロックハッチ EDシリーズ
真空システムにサンプル等を 導入するために使用するロードロックドア 【特徴】 ○小型軽量化した設計により取り付け場所を選ばない ○フッ素ゴムシールにより高真空に対応 ○150℃までのベー…
XYZステージ XYZシリーズ
3軸の移動機構により、加熱機構や各種導入機 その他コンポーネントの位置調整用に最適な中空XYZステージ 【特徴】 ○オールメタルシールによりベーキング可能 ○コンフラットフランジ仕様により…
トランスファーロッド TRシリーズ
強力な磁気回路により回転、直線運動を 高トルクで真空内に導入できる、トランスファーロッド 【特徴】 ○オールメタルシールによりベーキング可能 ○CF仕様により、MBE 装置等、各種超高真空…
マイクロ波ラジカル源 EMRS-211Q
石英放電管タイプでチャンバー外付型の 有磁場型マイクロ波励起ラジカル源 【特徴】 ○プラズマ室は石英ガラス製で放電を目視確認可能 ○完全金属シール構造により、MBE装置など 各種超高…
大気圧プラズマ実験装置 ATMP-1000
電源及び、プラズマ化するガスを接続するだけで 大気圧プラズマの実験が可能な、大気圧プラズマ実験装置 【特徴】 ○強力な点火装置と、電子発生源を装備することにより 確実な点火が実現 ○…
マイクロ波イオン・ラジカル源 IMIS-211Q
石英放電管タイプでチャンバー内突き出し型の 有磁場型マイクロ波励起イオン・ラジカル源 【特徴】 ○プラズマ室は石英製で、金属汚染の少ないイオン・ラジカルが得られる ○特殊なアンテナ構造、磁…
マイクロ波イオン源 EMIS-221C
ラミック放電管タイプで チャンバー外付型の有磁場型マイクロ波励起イオン源 【特徴】 ○超高真空仕様により、金属汚染の少ないイオンが得られる ○プラズマ室は高純度アルミナ製で 金属汚染…
マイクロ波プラズマ実験装置 MiPC-500
アリオス社が取り扱う、マイクロ波を用いたプラズマ実験装置のご紹介です プラズマ源やマイクロ波電源などを、全て自社設計する アリオス社だからこそできる、柔軟設計。 お客様の要求仕様に応じた設計、製…
RFプラズマ源 ERFS-500
無電極放電により 金属コンタミの少ないプロセスが可能なRFプラズマ源 【特徴】 ○光学窓付きにより放電が目視確認できる ○石英製窓により高精度のプラズマ分光等が可能 ○自動マッチング機構…
超小型マイクロ波プラズマ源 SMPS-201
ガスラインや排気ラインの途中に取り付けて 使うことを想定して開発された、超小型のマイクロ波励起プラズマ源 【特徴】 ○プラズマ室は、高純度アルミナ製で、放電を目視観測可能 ○無電極放電。新…
単結晶高純度ダイヤモンド合成用CVD装置 DCVD-51A
コンパクトで省電力!デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験用プラズマCVD装置
ダイヤモンドの単結晶成長(ホモエピタキシャル)が可能な 高純度のダイヤモンド合成実験を行うためのプラズマCVD装置 【特徴】 ○コンパクトで省電力 ○超高真空技術を駆使しており、プラズマが…
RF プラズマ実験装置 RFPC-550
アリオス社が取り扱う、RF13.56MHz励起プラズマ源を用いた プラズマ実験装置のご案内です プラズマ源を自社設計する、アリオス社だからこそできる柔軟設計。 お客様の要求仕様に応じた設計、…
RFラジカルビーム源 IRFS-503
放電部、引き出し部は高純度PBNで製作され 活性ガス導入時でも長時間安定動作が行え かつクリーンな原子・ラジカルビームを得ることが可能な、ラジカルビーム源 【特徴】 ○ICPタイプのRF放…
簡易型XY機構 SXYシリーズ
トランスファーロッドの位置調整用に最適な チルト調整機構を組み合わせた、簡易型XY機構 【特徴】 ○オールメタルシールによりベーキング可能 ○コンフラットフランジ仕様により MBE装…
チャッキングトランスファー 2TRW
2軸構造のマグネットカップリングにより チャッキング操作が行えるトランスファーロッド 【特徴】 ○強力な磁気回路により回転、直線運動を 高トルクで真空内に導入できる ○オールメタルシ…
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