ペガサスソフトウェア株式会社

中性粒子連続体モジュール（NMEM）

圧縮性と粘性を考慮した流れの計算が可能！ガス成分の種類ごとに密度と流量の空間分布が求まります

『中性粒子連続体モジュール（NMEM）』は、複数種の原子・分子 （電荷を持たない粒子）からなる混合気体の流れ場を計算します。 中性粒子種各成分の拡散を考慮した流体の基礎方程式を解くことにより、…

中性粒子DSMCモジュール（DSMCM）

新衝突計算法を指定することにより、平均自由行程以上のセルサイズでの計算が可能です！

『中性粒子DSMCモジュール（DSMCM）』は、多数のサンプル粒子を配置し、 それらの粒子の衝突を物理モデルに従って確率的に引き起こして挙動を 追跡していくといったDSMC法（粒子モデル）を用い、…

3次元希薄気体挙動解析ソフトウェア『RGS3D』

DSMC法を用いて中性粒子の密度、温度、圧力分布等を計算するソフトウェアをご紹介！

『RGS3D』は、DSMC法（粒子モデル）を用い、様々な真空装置内の希薄気体の 流れ場を解析するためのモジュールです。 気体を連続体であると見なして取り扱う、ナビエ・ストークス方程式の 適用…

静磁場解析モジュール（MSSM）

操作が簡単！記憶容量や計算時間が少なくて済むモジュールをご紹介します

『静磁場解析モジュール（MSSM）』は、永久磁石、磁場コイルによる 静磁場解析を行う2次元静磁場解析専用モジュールです。 プラズマ解析モジュールへの磁束密度分布の受け渡しが同一GUIで 行え…

プラズマPICモンテカルロ衝突モジュール（PIC-MCCM）

計算の精度が高い！装置内のプラズマ密度が、比較的低い場合のプラズマ解析を得意とするモジュール

『プラズマPICモンテカルロ衝突モジュール（PIC-MCCM）』は、プラズマ CVD装置、プラズマエッチング装置、スパッタリング装置、機能性薄膜の 製造装置といった装置内の、非平衡低温プラズマの挙…

イオンモンテカルロ・シミュレーション・モジュール（IMCSM）

プラズマ解析領域全体におけるイオンのエネルギー分布、角度分布等を計算！

『イオンモンテカルロ・シミュレーション・モジュール（IMCSM）』は、 プラズマ解析領域全体にわたり、イオンのエネルギー分布、また境界セル での入射エネルギー／角度分布を計算します。 現在の…

動的モンテカルロシミュレーションソフトウェア（SASAMAL）

イオン注入、あるいはスパッタリング現象そのものに関する計算を行うことが可能！

『動的モンテカルロシミュレーションソフトウェア（SASAMAL）』は、 2体衝突近似に基づくモンテカルロ法によるシミュレーションコードです。 アモルファスターゲットに高エネルギーのイオンが入射…

スパッタリング・シミュレーション・モジュール（SPUTSM）

より真実味のある入力データでスパッタリング解析をおこなうことが可能です！

『スパッタリング・シミュレーション・モジュール（SPUTSM）』は、 PIC-MCCMの計算結果（ターゲットへの入射イオンのフラックス、エネルギー、 入射角）を参照し、SASAMALを用いて、スパ…

シース内モンテカルロ・シミュレーション・モジュール（SMCSM）

内蔵のシースモデルを用いて、短時間で計算することが可能です！

『シース内モンテカルロ・シミュレーション・モジュール（SMCSM）』は、 プラズマシース端からシースを通ってシース底部（ターゲット表面）に 達するイオン、電子のエネルギー分布、角度分布等を計算しま…

表面形状・シミュレーション・モジュール（FPSM2D）

PVD、プラズマCVD、そしてエッチングなどどのような反応にも対応可能です！

『表面形状・シミュレーション・モジュール（FPSM2D）』は、 粒子モンテカルロ法により、基板表面での様々な反応を考慮し、 基板、堆積膜の経時変化を計算するモジュールです。 PVD、プラズマ…

表面形状・シミュレーション・モジュール（FPSM3D）

初期形状はトレンチ、ホールで与えることが可能！基板、堆積膜の経時変化を計算するモジュール

『表面形状・シミュレーション・モジュール（FPSM3D）』は、 粒子モンテカルロ法により、基板表面での様々な反応を考慮し、 基板、堆積膜の経時変化を計算するモジュールです。 セル法特有のシャ…

シミュレーションソフトウェア『PEGASUS』

真空技術、プラズマ技術、薄膜技術、微細加工技術を用いる技術者のためのシミュレーションソフトウェア！

『PEGASUS』は、装置メーカ、材料メーカそしてデバイスメーカにおいて真空技術を 利用した開発、製造に携わる技術者のためのシミュレーションソフトウェアです。 機能が異なる複数のモジュールで構…