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掲載開始:2017-07-31 00:00:00.0

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高機能・コストパフォーマンスに優れたR&D用薄膜実験装置開発に必要な真空薄膜機能の全てをコンパクトな装置に凝縮

卓上型『真空蒸着装置』&『スパッタリング装置』※カタログ進呈

テルモセラ・ジャパン株式会社

『nanoPVDシリーズ』は、材料研究・新素材開発・電子デバイス開発などの基礎実験・研究開発用に多目的にご使用いただける小型・高性能真空薄膜実験装置です。

nanoPVD-S10Aは、Ф2inchマグネトロンカードを最大3基搭載、基板回転・上下昇降・加熱500℃シャッターなどのオプションが充実、RF・DC電源両対応、最大3系統のガス入力(MFC制御)に対応。充実した基本性能と豊富なオプションで高品質の成膜が可能となります。

nanoPVD-T15Aは、抵抗加熱蒸着源を最大2基、有機蒸着源最大4基まで搭載し、金属膜・絶縁膜の多層膜、連続成膜が可能な基本性能に優れた蒸着装置です。

【特長】
■SUS304高真空チャンバー:真空到達度5x10-5Pascal
■PLC自動制御、11"タッチパネルによる直感的操作
■装置寸法:804(W)x530(D)x512(H)mm(*T15A寸法)

※上記2製品、及び【nano BenchTopシリーズダイジェストカタログ】【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置】のカタログを進呈中です!ダウンロードしてご覧ください。

 

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