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最終更新日:2019-01-28 01:17:53.0

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掲載開始日:2019-01-28 00:00:00.0

【SiC3コーティング グラファイト】部品

G5-8",7x2" Susceptor

  • G5-8",7x2" Susceptor

5" receptor, 3" recess

  • 5" receptor, 3" recess

立方晶窒化珪素CVD-cubic coat【SiC3コーティング】カーボン

短納期! 長寿命、密着性・均一性に優れたSiCコート部材
高純度・高耐熱性・熱伝導性等の基本性能に優れたCVD-Cubic SiC(立方晶窒化珪素)コーティングカーボン部品。
MOCVD, Epitaxialプロセス等でのウエハートレー・サセプターなど。
※長寿命、密着性・均一性に優れたウエハートレーを短納期で販売致します。

【特長】
■『短納期!』 最短納期(形状・数量・ご要望仕様協議の上納期回答申し上げます)
■高純度・耐熱性・耐食性・耐摩耗性に優れる
■脱ガス量、発塵量や不純物量を低減
■密着性にすぐれ、クラック・剥離などが起こりにくい
■コーティング厚:最薄20μm〜最厚120μm
■膜厚均一性(*100μmの場合):最小誤差:±5μm 〜 最大誤差:±10μm
■微細形状にもコートが可能:*例)Φ1mm x 深さ5mmブラインドホールへのコートも可能
■粗い表面処理から鏡面処理まで、ご要望により仕上り調整が可能です。

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立方晶窒化珪素CVD-cubic coat【SiC3コーティング】カーボン

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【SiC3コーティング グラファイト】部品詳細

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立方晶窒化珪素CVD-cubic coat【SiC3コーティング】カーボン

短納期! 長寿命、密着性・均一性に優れたSiCコート部材 高純度・高耐熱性・熱伝導性等の基本性能に優れたCVD-Cubic SiC(立方晶窒化珪素)コーティングカーボン部品。 MOCVD, Epitaxialプロセス等でのウエハートレー・サセプターなど。 ※長寿命、密着性・均一性に優れたウエハートレーを短納期で販売致します。 ※ 母材は高純度グラファイトのみとなります。 ※ ご支給材…

BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1600℃詳細

BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1600℃ 製品画像

大学実験室・研究機関のお客様に限定した安価で短納期なヒーター製品を用意致しました。

3種類のサイズ(Φ1, 2, 4inch)4種類のヒーター素線材質(NiCr, Kanthal, Graphite, SiC)に限定して標準化、部品在庫を持つことにより短納期・安価な価格を実現しました。 大学実験室・研究機関に限定した数量限定の製品です。 【特徴】 ● 予備ヒーター素線との交換が容易 ● 取り扱いが簡単(M6スタッドボルト、支柱) 【標準付属品】 ● 熱電対:K…

【セラミック・トップ・ヒーターMax1800℃】1〜12inch詳細

【セラミック・トップ・ヒーターMax1800℃】1〜12inch 製品画像

超高温Max1800℃。 あらゆるプロセス環境に対応可能な基板加熱ヒーター

基板加熱ヒーター (窒化アルミプレート)Max 1800℃ 対応可能サイズ 1〜12inch用、及び最大φ800まで ヒーターエレメント:NiCr線(標準)、トッププレート材質:AlN(窒化アルミ)を採用した超高温・加熱効率に優れた成膜実験・製造装置用超高温基板加熱ヒーター(真空ホットプレート)です。(詳細はカタログダウンロードからお問合せ下さい。) プロセス条件により、多種類のヒーター…

【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃詳細

【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃ 製品画像

超高温基板加熱ステージに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全てが1台で可能! 'All-In-One'コンポーネント

半導体、電子基板、真空薄膜プロセス装置・研究開発用【超高温基板加熱機構】 対応基板サイズ:2〜12inch 真空(UHV対応可能)・不活性ガス・O2・各種プロセス反応性ガス雰囲気等でご仕様いただけます。(詳細別途協議)

【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃詳細

【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃ 製品画像

CVD, PVD(蒸着, スパッタ, PLD, ALD等)均熱性・再現性に優れた高真空 超高温ウエハー加熱用ホットプレート

ヒータープレートにインコネルもしくはBNプレートを採用した、熱放射効率が良く、均熱性に優れた成膜装置・真空薄膜実験用高真空対応ホットプレートです。 【ラインナップ】 ◎ SH-IN(インコネルプレート):φ1.0〜φ6.1inch 真空・O2・活性ガス用 ◎ SH-BN(BNプレート, Moカバー):φ1.0〜φ6.1inch 真空・不活性ガス用 【特徴】 ◎ 最高温度1100℃…

【Mini-BENCH 】超高温小型卓上実験炉 Max2200℃詳細

【Mini-BENCH 】超高温小型卓上実験炉 Max2200℃ 製品画像

卓上サイズカーボン実験炉・省スペース 最高使用温度2200℃(短時間)2000℃(連続) 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。

◉ 卓上サイズ 省スペース:328(W) x 220(D) x 250(H)mm ◉ るつぼ内サンプル焼成用(るつぼΦ50 x 100), 又はΦ1", Φ2"ウエハー焼成用フラットヒーター ◉ ハイスペック&ハイコストパフォーマンス ◉ 簡単メンテナンス:炉内部品交換が容易 ◉ シンプルな構成、メンテナンス性に優れる超高温小型実験炉 実験室での小片試料の…

◆ANNEAL◆ 卓上型ウエハーアニール装置詳細

◆ANNEAL◆ 卓上型ウエハーアニール装置 製品画像

[ANNEAL]は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱処理が可能な研究開発用卓上型アニール装置です。

高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設…

【nanoCVD】卓上型グラフェン/CNT合成装置詳細

【nanoCVD】卓上型グラフェン/CNT合成装置 製品画像

◉ 大型製造装置設備を使わず、簡単にグラフェン・CNT(SWNT)合成実験が可能 ◉ 1バッチわずか30分!

◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温:RT→1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機

MiniLab-CF/MF 超高温小型実験炉Max2900℃詳細

MiniLab-CF/MF 超高温小型実験炉Max2900℃  製品画像

簡単操作コンパクトラックに全てを収納 短時間でMax2900℃まで昇温可能!

Max2900℃(カーボン炉)、Max2600℃(メタル炉) ・有効加熱エリアΦ60(MiniLab-CF/MF-M) ・有効加熱エリアΦ150(MiniLab-CF/MF-L) 新素材・新材料開発、及び半導体・電子部品・燃料電池・大陽電池などの先端基礎技術開発部門でのさまざまなアプリケーションに対応。

◉MiniLab-WCF/WMF超高温ウエハー焼成炉2200℃詳細

◉MiniLab-WCF/WMF超高温ウエハー焼成炉2200℃  製品画像

2inch〜8inchウエハー高温焼成専用機 コンパクトサイズ・簡単操作 2200℃まで急速昇温!

◉Max2200℃(真空中1x10-5Torr, N2, Ar) ◉WCF使用雰囲気:真空・不活性ガス(カーボン炉) ◉WMF使用雰囲気:真空・不活性・還元ガス(メタル炉) ◉試料台サイズφ2inch〜φ8inch ◉特注ウエハーホルダ(ウエハートレー)製作可能 ◉SiC・GaNデバイス基礎研究、新素材・新材料開発、及びその他先端基礎技術開発部門で活用いただけます。

【Nanofurnace】BWS-NANO 卓上型熱CVD装置詳細

【Nanofurnace】BWS-NANO 卓上型熱CVD装置 製品画像

多目的に使える、高精度プロセスコントロール【ホットウオール式熱CVD装置】

◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応

◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆詳細

◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆ 製品画像

ローコスト 必要最小構成(手動制御)管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用可能

小片試料〜3inch waferまでの小基板用 サセプタ手動昇降式縦型実験炉 大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型炉 【用途】 ◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理 ◉ 基礎実験:縦型管状炉・酸化拡散炉・LPCVD等の簡易熱処理実験

【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置詳細

【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置 製品画像

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。

MiniLab R&D用実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材質に応じて都度最適なコンポーネント(成膜源、ステージなど)、制御モジュールを組み込むことにより、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で搭載することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロセス実験への応用…

【MiniLab-M307】ローコストベルジャー式真空蒸着装置詳細

【MiniLab-M307】ローコストベルジャー式真空蒸着装置 製品画像

ローコスト・ハイスペック。高品質蒸着膜を低価格装置で実現

低コスト版ベルジャー式真空蒸着装置 下記蒸着源から組合せが可能 ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大3 ・カーボン蒸着源 x 1(オプション) ・2inchマグネトロンスパッタ x 1(オプション)

□■□【MiniLab-026】R&D用小型真空蒸着装置□■□詳細

□■□【MiniLab-026】R&D用小型真空蒸着装置□■□ 製品画像

小型、省スペース! 研究開発に最適 基礎研究開発専用、抵抗加熱蒸着装置 グローブボックス連結仕様へのアップグレード可能

モジュラー組立式「Plug&Play」感覚で、必要なモジュール、コントローラ、コンポーネントを組合せて接続することにより構成される装置です。「MiniLabシリーズ」は、製作範囲が広く、抵抗加熱式蒸着(標準)、EB蒸着、スパッタなどご要望に対してフレキシブルにシステム構成することができるフルカスタムメイド装置です。 MiniLab-026は、シリーズ最小構成の抵抗加熱蒸着専用機です。オプ…

「PRODUCTS GUIDE 2018 Autumn」製品案内詳細

「PRODUCTS GUIDE 2018 Autumn」製品案内 製品画像

電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装置、高温基板加熱用ヒーター、実験炉、温度計測機器などを紹介。

研究開発分野向け、各種薄膜実験装置・加熱装置・コンポーネントを紹介します。 ◉ 新製品「Mini-BENCH」シリーズ超高温小型卓上実験炉Max2200℃ ◉ SiC3立方晶窒化珪素コーティンググラファイト部品 ◉ 大気/高真空中/ガス雰囲気中あらゆるプロセス雰囲気に対応する基板均一加熱ヒーター。Max1800℃、φ1inchウエハ用から角型いずれも製作できます。ヒーターエレメントはNICr…

【クリーン・テント】詳細

【クリーン・テント】 製品画像

ISO 5/ Class100 収縮式簡易クリーンルーム 【仮設式クリーンルーム】として、様々な現場でご利用いただけます。

収縮式簡易クリーンルーム「Clean Tent」 (開発元Moorfield Nanotechnology社) 短時間(最短30分!)で容易に施工が可能。 テント本体は畳んで専用バッグに収納、撤収持ち運びが簡単。

収縮式簡易クリーンブース『クリーン・テント』詳細

収縮式簡易クリーンブース『クリーン・テント』 製品画像

最短30分でスピード設置。撤収もスムーズ。クラス100の清浄度に対応可能

『クリーン・テント』は、クラス100の清浄度に対応可能な 空気で膨らませる収縮式の簡易クリーンブースです。 30分ほどで設置でき、撤収作業もラクラク。 必要なときに必要な場所でクリーン環境を実現できます。 テント本体はコンパクトに畳め、専用バッグに収納可能。 製造工場や研究開発の現場で幅広く使用できます。 【特長】 ■欧州EN規格H14対応のHEPAフィルタを採用 ■長…

【nanoPVD-S10A】卓上型マグネトロンスパッタリング装置詳細

【nanoPVD-S10A】卓上型マグネトロンスパッタリング装置 製品画像

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式卓上サイズスパッタリング装置

高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa(*1x10-4Paまで最速30分!) ● スパッタ源 x 3:連続自動成膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション:上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ● Windows PCにUSB接続 ログ保存、プログラムアップロード ◉ nanoPVDは、最大スパッ…

◆nanoPVD-T15A◆ 卓上型高性能真空蒸着装置詳細

◆nanoPVD-T15A◆ 卓上型高性能真空蒸着装置 製品画像

限られたラボスペースを有効活用できる小型卓上ベンチトップサイズ装置に、最新の真空蒸着技術の全てを収納しました。

卓上小型サイズにも関わらず、基本性能・膜質・均一性・操作性の全てを犠牲にせず、スタンドアローン大型機と同様の性能を実現しました。 更に簡単タッチパネル操作でPLC全自動制御。 難しい操作手順を必要とせずどなたでも直感的に操作ができる分かりやすいHMI。 USBケーブルでWindows PCに接続し、ログを保存、自動成膜レシピを作成保存。 限られた開発現場・ラボスペースを最大限有効活用ができ…

関連カタログ

取扱会社

テルモセラ・ジャパン株式会社

【営業品目】 1. CVD・PVD薄膜実験用超高温基板加熱ヒーター(1〜12inch) 2. R&D用真空薄膜実験装置 3. 超高温実験炉 4. 赤外線放射温度計 5. 真空用熱電対 6. 真空コンポーネント

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