The 13th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes(第13回スパッタリング&プラズマプロセス国際会議)

最終更新日:2015-06-26 14:55:56.0

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株式会社昭和真空

  • 開催地:京都府

The 13th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes(第13回スパッタリング&プラズマプロセス国際会議)の併設のパネル展示コーナーにて、ALD装置とGCIB装置を紹介します。

開催日時 2015年07月08日(水) ~ 2015年07月10日(金)
会場 京都リサーチパーク
参加費 有料

取扱会社

株式会社昭和真空

【営業種目】 ○水晶デバイス用、光学薄膜用、電子デバイス用などの  総合的な真空関連装置並びに真空機器等 ○真空蒸着装置、スパッタリング装置、イオンプレーティング装置、  ドライエッチング・アッシング装置、真空冶金(溶解、熱処理、燒結、  脱ガス)装置、光学薄膜用モニター(多色式、単色式)、  IAD冷陰極イオンソース、液晶注入装置、有機EL用蒸着装置、その他

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