【セミナー 11/29】EUVレジストの高感度化、高解像度化とアウトガス制御

最終更新日:2017-10-13 15:00:27.0

株式会社技術情報協会

  • 開催地:東京都

■セミナーのポイント
★ レジスト構成材料の選択! 分子デザインと解像度、感度の関係!
★ アウトガスの評価とその制御技術!


■講師
1.関西大学 化学生命工学部  教授 博士(工学) 工藤 宏人 氏

2.リソテックジャパン(株) ナノサイエンス・グループ長 博士(工学) 関口 淳 氏

3.東京理科大学 理工学部 先端化学科 教授 博士(工学) 有光 晃二 氏


プログラムは「詳細・申し込みページへ」または「関連資料」をご参照ください

開催日時 2017年11月29日(水)
10:30 ~ 16:00
会場 [東京・五反田] 日幸五反田ビル8F 技術情報協会 セミナールーム
参加費 有料
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取扱会社

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