掲載開始日:2020-01-10 00:00:00.0
【技術情報】CMPスラリーの希釈
CMPスラリーは、メーカー推奨に従い希釈してから使用する場合があります。
メーカーや製品仕様によって推奨条件や表現は様々ですので、十分に理解した上で使用を開始する必要があります。
■希釈は、重量比か体積比か?
メーカーから希釈倍率の推奨がありますが、重量比か体積比によって比率が変わる場合がありますので注意が必要です。
例)スラリーA(比重1.38)を純水と希釈する場合
1) 重量3倍希釈:10kgのスラリーに対し、20kgの純水で調整
2) 体積3倍希釈:10L(=13.8kg)のスラリーに対し、20Lの純水で調整
■希釈手順
CMPスラリーには特性を最大限にするよう設計が工夫されており、2液や3液といった梱包形態の製品も存在しています。
スラリーの安定性を担保するなどの理由で、メーカーから希釈手順が推奨されていることがあります。
例)2液性スラリー(A液・B液)と純水を希釈する場合
1) A液と純水を希釈する
2) 1)にB液を添加する
メーカーや製品仕様によって様々なケースが考えられますので、詳しくはメーカーにお問い合わせされることをおすすめいたします。
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取扱会社
■精密研磨システムの提供 ・半導体デバイスのCMP用消耗資材(パッド、スラリー、バッキング材)の製造・販売 ・シリコンウェーハ、LCDガラス基板、サファイア基板、ハードディスク等の超精密平面研磨用消耗資材(パッド、スラリー、バッキング材)の製造・販売
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