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最終更新日:2022/11/14

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掲載開始日:2022/11/14

□■□■【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃ □■□■

Mini-BENCH卓上型実験炉の製品画像

  • Mini-BENCH卓上型実験炉の製品画像

Mini-BENCH チャンバー背面

  • Mini-BENCH チャンバー背面

最高使用温度2000℃
卓上サイズ実験炉・省スペース
還元雰囲気用メタル炉も製作致します。

◉ 卓上サイズ 省スペース:328 x 220 x 250mm
◉ るつぼ内サンプル焼成用(るつぼΦ50 x 100), 又はΦ1", Φ2"ウエハー焼成用フラットヒーター
◉ ハイスペック&ハイコストパフォーマンス
◉ 簡単メンテナンス:部品交換が容易
◉ シンプルな構成、優れたメンテナンス性

◆基本仕様◆
・ヒーター:グラファイト(カーボン炉), タングステンメッシュ(メタル炉)
・断熱材:グラファイトフェルト材(カーボン炉), タングステン/モリブデン(メタル炉)
・温度制御:プログラム調節計、C熱電対
・到達真空度:1x10-2Pascal(*但し空炉の場合)
・電源仕様:AC200V 50/60HZ 三相 6KVA
・冷却水:3L/min, 0.4Mpa 25〜30℃
◆オプション◆
・真空排気系:ロータリーポンプ, 高真空ポンプ, バルブ類

関連資料

関連リンク

カーボン炉(真空 不活性ガス)・メタル炉(真空・不活性ガス・還元雰囲気)を、最小構成(ヒータ/チャンバー+コントロールボックス)から、ご予算・目的に応じて最適なシステムをご提案致します。

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半導体・電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装置、薄膜実験装置を紹介。

研究開発分野向け、各種薄膜実験装置・コンポーネントを紹介します。 【nano Benchtopシリーズ】 卓上型・ハイパフォーマンス!nano Benchtopシリーズ薄膜実験装置 コンパクトサイズに、高機能・ハイスペックな薄膜装置を収納 【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置】 多彩な装置構成、必要なコンポーネントを要求仕様に合わせて組み合わせ構成する「フレキシブル実験装置」

実験炉・ヒーター_「PRODUCTS GUIDE_2022」

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電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用 最新の高温基板加熱用ヒーター、実験炉をご紹介します。

◉「Mini-BENCH」超高温卓上型実験炉Max2000℃ ◉「Mini-BENCH-prism」セミオート式 超高温実験炉Max2000℃ ◉「Thermic Edge furnace-TE」セミオート式超高温卓上型実験炉Max2000℃ ◉「MiniLab-CF」超高温実験炉Max2900℃ ◉「Mini-Lab-WCF」超高温ウエハーアニール炉Max2000℃ ◉ SiC3立方晶…

【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃

【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃ 製品画像

卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。

◉ 卓上サイズ 省スペース:328(W) x 220(D) x 250(H)mm(*2inch用チャンバー参考値) ◉ るつぼ内サンプル焼成用(るつぼΦ50 x 100), 又はΦ1"〜Φ4"ウエハー焼成用フラットヒーター ◉ ハイスペック&ハイコストパフォーマンス ◉ シンプルな構成、優れた操作性 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさ…

◆Mini-BENCH-prismセミオート式 超高温実験炉◆

◆Mini-BENCH-prismセミオート式 超高温実験炉◆ 製品画像

最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉

◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御(ガス流量→ニードルバルブにて手動調整) ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース …

卓上型マルチ雰囲気実験炉 『Thermic Edge』

卓上型マルチ雰囲気実験炉 『Thermic Edge』 製品画像

超高温卓上型マルチ雰囲気実験炉:SiC、TiCコーティングヒーターでカーボンフリー環境での超高温2000℃加熱実験が可能

小片試料を超高温で加熱実験ができるR&D用超高温卓上型実験炉。 窒素、酸素(*SiC3のみ)、ヘリウム、アルゴン、水素(*TiC3のみ)など、様々な雰囲気に対応する超高温マルチ雰囲気実験炉です。 (*仕様雰囲気により温度条件は異ります) 真空引き・パージ〜ベントまでの電気炉操作はPLCセミオート式。バルブ主導開閉などの煩雑な操作がなくタッチパネルで一元管理できます。 卓上コンパクト…

TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃

TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃  製品画像

コンパクト・省スペース・省エネルギー! 高性能 R&D用超高温実験炉

Max2900℃(カーボン炉)、Max2400℃(メタル炉) ・有効加熱エリア 70 x 70 x1 00mm 新素材・新材料開発、及び半導体・電子部品・燃料電池・大陽電池などの先端基礎技術開発部門でのさまざまなアプリケーションに対応。

◉MiniLab-CF超高温マルチ雰囲気実験炉 Max2900℃

◉MiniLab-CF超高温マルチ雰囲気実験炉 Max2900℃ 製品画像

3種類のヒーター材料でさまざまな使用環境に対応する超高温マルチ雰囲気実験炉。

Max2900℃(C/Cコンポジット:C熱電対+2色放射温度計) Max1600℃(SiC3コーティングヒーター) Max2900℃(TiC3コーティングヒーター) ・有効加熱エリアΦ100 新素材・新材料開発、及び半導体・電子部品・燃料電池・大陽電池などの先端基礎技術開発部門でのさまざまなアプリケーションに対応。

MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃

MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃  製品画像

SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応 小規模生産も可能なマルチ雰囲気ウエハーアニール装置

■Max2000℃(真空中1x10-5Torr, N2, Ar) ■3種類のヒーター材質: ・高純度グラファイト:Φ6〜Φ8inch ・SiC3(炭化珪素)コーティング:Φ4〜Φ8inch ・TiC3(チタン・カーバイド)コーティング:Φ4〜Φ8inch ■使用雰囲気: ・真空・不活性ガス(グラファイト) ・還元雰囲気(TiC3コーティング) ■試料台サイズφ4inch〜φ8inc…

◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆

◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆ 製品画像

ローコスト 必要最小構成(手動制御)管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用可能

小片試料〜3inch waferまでの小基板用 サセプタ手動昇降式縦型実験炉 大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型炉 【用途】 ◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理 ◉ 基礎実験:縦型管状炉・酸化拡散炉・LPCVD等の簡易熱処理実験

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テルモセラ・ジャパン研究開発用実験炉を紹介。燃料電池・セラミックス等の材料開発・黒鉛・等の超高温実験に活用頂けます。

研究開発分野向け、各種実験装置を紹介します。 ◉ Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉 Max2000℃ ◉ Mini-BENCH-prism セミオート式 超高温実験炉 Max2000℃ ◉ TE-Thermic Edge furnace セミオート式 超高温卓上型実験炉 Max2000℃ ◉ MiniLab-CF セミオート式 超高温実験炉 Max2900℃ ◉ MiniLab-…

【nanoPVD-S10A】卓上型マグネトロンスパッタリング装置

【nanoPVD-S10A】卓上型マグネトロンスパッタリング装置 製品画像

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式卓上サイズスパッタリング装置

高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa(*1x10-4Paまで最速30分!) ● スパッタ源 x 3:連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション:上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統(MFC制御)、RF/DC PSUの増設(最大2電源まで)…

◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置

◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置 製品画像

限られたラボスペースを有効活用できる小型卓上ベンチトップサイズ装置に、最新の真空蒸着技術の全てを収納しました。

OLED, OPV, OTFT等の有機薄膜蒸着用途に好適。温度応答性/安定性に優れた低温有機蒸着源、金属膜用高温蒸着源を採用。 卓上小型サイズにも関わらず、基本性能・膜質・均一性・操作性の全てを犠牲にせず、スタンドアローン大型機と同様の性能を実現しました。 更に簡単タッチパネル操作でPLC全自動制御。 難しい操作手順を必要とせずどなたでも直感的に操作ができる分かりやすいHMI。 USB…

【nanoCVD】卓上型グラフェン/CNT合成装置

【nanoCVD】卓上型グラフェン/CNT合成装置 製品画像

◉ 大型製造装置設備を使わず、簡単にグラフェン・CNT(SWNT)合成実験が可能 ◉ 1バッチわずか30分!

◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温:RT→1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機

【Nanofurnace】BWS-NANO 卓上型熱CVD装置

【Nanofurnace】BWS-NANO 卓上型熱CVD装置 製品画像

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能CVD装置

◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応

◆ANNEAL◆ 卓上型ウエハーアニール装置

◆ANNEAL◆ 卓上型ウエハーアニール装置 製品画像

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"〜最大6"基板対応、 高真空アニール装置(<5 × 10-7 mbar)

高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設…

【マグネトロンスパッタリングカソード】

【マグネトロンスパッタリングカソード】 製品画像

不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率マグネトロンスパッタカソード。メンテナンス性にも優れます。

【特徴】 ・高真空対応 ・Φ2inch、Φ3inch、Φ4inchサイズ ・クランプリング式を採用、ボンディングが不要 ・メンテナンス性に優れ、容易にターゲットの交換が可能 ・シャッター、チムニーポート、ガスインジェクション、磁性材用高強度マグネット、などのオプションが豊富 ・各種フランジサイズ接続に対応

【SiC3コーティング グラファイト】部品

【SiC3コーティング グラファイト】部品 製品画像

立方晶炭化珪素CVD-cubic coat【SiC3コーティング】カーボン

短納期! 長寿命、密着性・均一性に優れたSiCコート部材 高純度・高耐熱性・熱伝導性等の基本性能に優れたCVD-Cubic SiC(立方晶炭化珪素)コーティングカーボン部品。 MOCVD, Epitaxialプロセス等でのウエハートレー・サセプターなど。 ※長寿命、密着性・均一性に優れたウエハートレーを短納期で販売致します。 ※ 母材は高純度グラファイトのみとなります。 ※ ご支給材…

真空試料加熱プレート【NANO Heater(ナノ・ヒーター)】

真空試料加熱プレート【NANO Heater(ナノ・ヒーター)】 製品画像

高真空中での小基板・チップ状試料の高温加熱実験に好適。 高速昇温(400℃/min) 高真空対応

『ナノ・ヒーター』は、真空装置・分析装置などでの高温試料加熱実験に好適な、取扱の容易なヒータープレートです。 ・最高温度 1200℃(プレート面) ・高速昇温 400℃/min ・小型:50 x 25(NH-50の場合) ・熱電対、リード線各500mm標準付属

BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃

BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃ 製品画像

【UHV対応 真空薄膜実験用 面状加熱ヒーター】 大学・研究機関のお客様に限定した安価で短納期なヒーター製品を用意致しました。

3種類のサイズ(Φ1, 2, 4inch)、豊富なヒーター素線バリエーション(Kanthal, Graphite, C/C Composite, SiC coating, W)、部品在庫を持つことにより短納期・安価な価格を実現しました。 【特徴】 ● 予備ヒーター素線との交換が容易 ● 取り扱いが簡単(M6スタッドボルト、支柱) 【標準付属品】 ● 熱電対:K素線タイプ アルミナ…

【HTシリーズ基板加熱ヒーターMax1900℃】Φ1〜8inch

【HTシリーズ基板加熱ヒーターMax1900℃】Φ1〜8inch 製品画像

プレート最高温度Max1900℃。HV, UHVほか過酷なプロセス環境に対応可能な真空薄膜・成膜装置用基板加熱ヒーター

*旧製品名「セラミック・トップ・ヒーター」 窒化アルミプレート表面温度Max 1600℃ 対応可能サイズ Φ1〜8inch用、及び最大150mm角まで 超高温・超高真空対応フルカスタムメイド基板加熱ステージ ◉ヒーターエレメント: ・C/Cコンポジット Max1700℃ ・SiC3(炭化珪素)コーティンググラファイト Max1300℃ ・TiC3(チタン・カーバイド)コーティング…

【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃

【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃ 製品画像

超高温基板加熱ステージに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全てが1台で可能! 'All-In-One'コンポーネント

半導体、電子基板、真空薄膜プロセス装置・研究開発用【超高温基板加熱機構】 対応基板サイズ:Φ2〜6inch 真空(UHV対応可能)・不活性ガス・O2・各種プロセス反応性ガス雰囲気等でご仕様いただけます。(詳細別途協議)

【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃

【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃ 製品画像

CVD, PVD(蒸着, スパッタ, PLD, ALD等)均熱性・再現性に優れた高真空 超高温ウエハー加熱用ホットプレート

ヒータープレートにインコネルもしくはBNプレートを採用した、熱放射効率が良く、均熱性に優れた成膜装置・真空薄膜実験用高真空対応ホットプレートです。 【ラインナップ】 ◎ SH-IN(インコネルプレート):φ1.0〜φ6.1inch 真空・O2・活性ガス用 ◎ SH-BN(BNプレート, Moカバー):φ1.0〜φ6.1inch 真空・不活性ガス用 【特徴】 ◎ 最高温度1100℃…

【円筒状ヒーター】グラファイト, C/Cコンポジットヒーター

【円筒状ヒーター】グラファイト, C/Cコンポジットヒーター 製品画像

超高温 Max1800℃円筒状ヒーター

ご指定の仕様にて都度製作致します。 * 従来の金属ヒーターでは不可能だった高温領域が必要なアプリケーションに応用検討下さい。

【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置 製品画像

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。

MiniLab R&D用実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材質に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント(成膜源、ステージなど)、制御モジュールを組み込むことにより、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で搭載することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロセス実…

【MiniLab-125】 多元マルチスパッタ装置(Φ8"対応)

【MiniLab-125】 多元マルチスパッタ装置(Φ8"対応) 製品画像

1000℃ヒーターステージ(SiCコーティング )搭載!コンパクトサイズ! 高機能マルチスパッタリング装置

3源同時スパッタ(RF, DCを自在に配置切替) 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'Plasma Switching relay module'で3源カソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ(二重ジャケット水冷式) -1) Max600℃(ランプ加熱) -2) Max1000℃(C/Cコンポジット) -3…

□■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□

□■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 製品画像

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成

必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着(金属源 最大4、有機材料x4)に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、RFエッチングも…

□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 製品画像

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み立てることができるセミカスタムメイド薄膜実験装置

コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置 下記蒸着源から組合せが可能 ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着 ・2inchマグネトロンスパッタリングカソード x 4

□■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□

□■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 製品画像

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与

80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着(金属/絶縁物/有機材),EB蒸着, RF/DC兼用マグネトロン式スパッタ, ドラ…

□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 製品画像

グローブボックス収納可能 PVD, CVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与

80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 …

【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置

【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置 製品画像

小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適 蒸着・スパッタ・アニール等全ての作業をグローブボックス内でシームレスに行う事ができます。

OLED(有機EL), OPV(有機薄膜太陽電池), OTFT(有機薄膜太陽電池), 又, グラフェン・2D材料(遷移金属ダイカルコゲナイドなどの二次元層状無機ナノ材料)などの成膜プロセスでは、酸素・水分から隔離された不活性ガス雰囲気で試料を取扱う必要があります。 MiniLab-026/090-GBでは、PVD/CVDチャンバーをGB内に収納することにより有機膜用途の「酸素・水分フリー」実験環…

【PyroMini USB】USB接続式小型赤外線温度センサー

【PyroMini USB】USB接続式小型赤外線温度センサー 製品画像

USB接続式小型赤外線温度センサー 電源不要 PCからUSBバスパワーで給電 付属の専用ソフトでパラメータ設定・データ管理

【概要】 標準付属の「Calexsoft」をインストール、あとはUSBケーブルでWindowsPCに接続するだけ。Plug&Play感覚で簡単にPC上でセンサの測定パラメータ設定、測定、測定結果の解析・CSV出力ができます。 USB出力 PCに接続しUSBバスパワーのみで動作。電源を必要としません。 さまざまな工業分野・研究機関実験ラボでの活用など、応用範囲が広がります。 【特…

【PyroUSB】USB接続式 高精度赤外線温度センサー

【PyroUSB】USB接続式 高精度赤外線温度センサー 製品画像

USB接続式、付属の専用ソフトでパラメータ設定・データ管理 幅広い波長領域オプションを用意。目的により3機種が選べます。

【概要】 標準付属の「CalexConfig」とUSBケーブル(1.8m付属)でWindowsPCに接続、PC上でセンサの測定パラメータ設定、測定結果の解析・CSV出力ができます。 1) 4-20mA出力 2) USB出力(USBバスパワーで動作) 3) 4-20mA/USB出力の同時使用 の3通りの使い方が可能です。 【特徴】 ◎ USBデータロギング/4-20mAアナログ出力…

【PyroMini】小型高性能赤外線温度センサー

【PyroMini】小型高性能赤外線温度センサー 製品画像

高機能タッチパネル変換器で簡単設定・データロギング・microSDカードにデータ保存 PM2.2は光沢金属表面の測定も可能

【概要】 視認性の良い高輝度タッチパネルディスプレーで、温度レンジ・放射率・サンプリングレート等のパラメータを直感的に操作・設定。 microSDカードで長期間のデータ保存・管理が可能です。 (*オプションでディスプレー無しの変換器もあります) φ18mm x 45mmの小型センサヘッドで、狭い場所での温度測定も可能、耐ノイズ性に優れたセンサ・ケーブルを採用しておりますので、ロボットアーム…

【ExTemp】本質安全防爆型赤外線放射温度センサー

【ExTemp】本質安全防爆型赤外線放射温度センサー 製品画像

TIIS(産業安全技術協会)検定取得 本質安全防爆型放射温度センサー 危険場所(Zone0, 1, & 2)で使用可能

ExTempは、石油化学プラント・医薬品工場・薬品工場などの危険物取扱設備や工場で使用することができる本質安全防爆構造の放射温度センサーです。 (TIIS型式検定合格番号:第21097号)

【PyroNFC】スマートホン設定式赤外線放射温度センサー

【PyroNFC】スマートホン設定式赤外線放射温度センサー 製品画像

温度範囲・放射率・アラーム等のパラメータをスマートホン、タブレットで設定 表示計器、計器用電源を必要とせず簡単に設定できます。

● スマホ・タブレットを使い設定を行う事ができます。 ● 専用アプリをGoogle Playから無料ダウンロード(Android4.1〜5.1) ● AndroidのNFC通信を使い、センサ部にタッチするだけで読込み・書出しをします。 ● 超小型センサ(Φ31mm x t29mm)狭い場所でも温度測定が可能。 ● 高速応答125msec、高精度±1.5% ● 電圧出力(0-5V or 0…

【PyroCouple】 (パイロカップル)赤外線温度センサー

【PyroCouple】 (パイロカップル)赤外線温度センサー 製品画像

小型計量・堅牢ボディ・高精度±1%・240msec高速応答 産業用機械制御用、生産現場の温度監視など多目的に応用できます。

【概要】 英国カレックス・エレクトロニクス社製「PyroCouple(パイロ・カップル)」は、従来に無い小型軽量、低価格、高性能な赤外線温度センサーです。 「動く」「回転する」「触れる事ができない」測定対象物表面を非接触で測定し、高速・高再現性で温度制御ができます。 【特徴】 ◎ アンプ・センサ一体型 ◎ 4-20mA出力(標準)、0-50mV、熱電対K, J, T出力(オプション)…

関連カタログ

取扱会社

テルモセラ・ジャパン株式会社

【営業品目】 1. CVD・PVD真空薄膜実験用超高温基板加熱ヒーター 2. 真空薄膜実験装置 3. 超高温実験炉 4. 赤外線放射温度計 5. 真空コンポーネント 6. カスタムメイド装置

□■□■【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃ □■□■へのお問い合わせ

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