プラズマ表面処理装置の製品一覧 （2ページ目）
-
-
-
新プラズマ源ＨＣＤ（ホローカソード放電）電極搭載、各種メタルやＣｕ薄膜のエッチングに対応。大面積化も容易な新型エッチング装置.
新開発プラズマ源HCｄ（ホローカソード放電）型電極搭載。無磁場・無アンテナのシンプルなk構造で従来型電極より一桁高いプラズマを密度を実現。 独自開発高密度プラズマと独自プロセスで各種メタルだけで…
メーカー・取扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
-
-
-
-
ダメージレス・ハイスループット・多用途対応 ハイエンドデバイス・化合物半導体・ＭＥＭＳ。幅広い実績と充実のサポート。新タイプ登場
チャージアップダメージを排除したダウンフロープラズマによるダメージレスアッシングを実現。表面波プラズマ（ＳＷＰ）によるハイレートアッシングと２室装備されたアッシング室によりハイスループットを実現。 …
メーカー・取扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
-
-
-
-
３次元・大型・低温処理が可能！独自開発技術採用プラズマイオン注入成膜装置
「プラズマイオン注入成膜装置」は、独自開発技術を採用しており、３次元・大型・低温処理が可能なDLC成膜装置です。 栗田製作所独自開発装置で特許取得済み（特許第3555928号）です。 プラズマ生成…
メーカー・取扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
-
-
-
-
多機能・コンパクト・フレキシブル対応、実績と信頼の標準型ラインナップ
コンパクトな筐体に３元のカソードを組み込んだ標準バッチタイプスパッタリングシリーズ。広い膜厚分布均一範囲と自動制御機構によって各種電子デバイスや関連材料の成膜工程をの基礎開発から量産までカバーします。…
メーカー・取扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
-
-
-
-
IonPOWDERによる粉体の革新的な表面処理。 粉体へのイオン注入(Ion Implantation)で表面改質を実施。
特徴 ･多種のガスが使用可能（Ar, He, N2, O2, SiH4, 混合ガス） ･装置はレシピで動作可能 ･PVD(physical vapor deposition)機構も、増設できます…
メーカー・取扱い企業： 株式会社マツボー
-
-
-
-
非球面レンズのＤＬＣ膜の除去に実績豊富なプラズマクリーニング装置。高付加価値金型のリペアに必須のドライ除膜装置
実績豊富なプラズマクリーニング装置「ＰＯＥＭ」をＤＬＣ除膜用にグレードアップ＆カスタマイズ。 従来型より処理時のイオンのエネルギーを向上させ緻密なＤＬＣ膜の除去に対応。通常のＯ２クリーニングプロセス…
メーカー・取扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
-
-
-
-
PlasmaMAX Hollow Cathode プラズマCVD
最高品質を保ちつつ、基板幅と成膜速度を最大化することで、大量生産プロセスの最適化ができるように設計されています。
この技術により、バリア成膜品、光学多層膜製品、機能性繊維、ディスプレーの製造や、一連の関連するカスタムアプリケーションを最適化することができます。 PlasmaMAX ホローカソード は、形状をカス…
メーカー・取扱い企業： 株式会社マツボー
-
-
-
-
硫化物対応も可 薄膜固体二次電池研究用専用成膜装置 ターゲット～成膜テスト、専用装置まで一括対応。グローブボックス標準装備。
薄膜固体二次電池の研究用の専用スパッタ装置 後処理が可能。多元カソードによる負極・電解質・正極の一括形成と成膜後の大気非暴露による基板の封止が可能。 Ｌｉの専用ターゲットによる事前成膜テストも対応…
メーカー・取扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
-
-
-
-
【フッ素樹脂へのダイレクトめっきが可能！】プラズマ表面改質技術
従来、出来なかったフッ素樹脂へのダイレクト銅めっきをプラズマ処理で実現！環境配慮型のため、メーカー工場内で製造可能※技術資料進呈
当社は、プラズマ処理による官能基導入により、従来では出来なかったフッ素樹脂へのダイレクト銅めっきを実現しました。 ★技術開発の背景や、プラズマを用いた表面改質技術などを 詳しく解説しています…
メーカー・取扱い企業： 株式会社電子技研
-
-
-
-
ロールtoロール式 減圧プラズマ処理装置『PR Series』
ロール状フィルム基材の処理に対応。 減圧プラズマ処理により、アッシング・エッチングの他、表面改質処理（官能基付与）が可能。
『PR Series』は、減圧下でプラズマ処理が可能なロールtoロールタイプの処理装置です。 レジストアッシング、絶縁膜エッチングをはじめ、 用途に応じた様々な官能基（親水, 親油, 密着性向…
メーカー・取扱い企業： 株式会社電子技研
-
-
-
-
導電性カーボン薄膜をスパッタリングで形成。低温（４００℃以下）で不活性ガスとカーボンターゲットのシンプルプロセスで安定成膜
独自高密度スパッタ法 アーク放電型マグネトロンスパッタリング法（ＡＤＭＳ法）によりメタル成膜と同等のプロセスで導電性カーボン薄膜を形成。 従来のスパッタカーボン薄膜に比べて格段に緻密で高い密着性が特…
メーカー・取扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
-
-
-
-
シンプルな機構で高密度プラズマを実現。ウェハから１ｍ□基板まで対応。Ｓｉ系、メタル、有機膜、各種薄膜のダメージレスエッチング
従来型の容量結合型プラズマエッチング装置にくらべ一桁高い密度のプラズマを実現。高周波アンテナや磁石を使用せず、電極構造のみの工夫によって高精度エッチングが可能。従来型のエッチング装置（CCP型・ICP…
メーカー・取扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
-
-
-
-
緻密で耐摩耗性と耐酸化性に優れたＳｉＣ（シリコンカーバイド）膜をＰＶＤで形成。新型イオンプレーティング法で厚膜（７μｍ）形成
新開発アークフィラメント型イオンプレーティング法により従来に無かったＰＶＤ法による」ＳｉＣ成膜を実現。 ４００℃以下の低温で緻密で耐摩耗性・耐酸化性に優れたＳｉＣ膜を形成可能とした新成膜技術を採用。…
メーカー・取扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
-
-
-
-
R&Dやニッチプロセスへの対応に特化 量産用装置では困難な少量生産や試作・研究開発のための新型マルチチャンバスパッタリング装置
先端薄膜プロセス開発・少量生産専用の低コスト型マルチチャンバスパッタリング装置。 膜厚制御性に優れた高効率カソードと豊富なオプション機構により幅広い分野に対応 Ｓｉ半導体の電極・配線膜だけでなく、…
メーカー・取扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
-
-
-
-
ニッチプな要求に細やかに対応。ライトエッチング・アッシングを薄ウェハや両面処理に、コンパクトタイプＣｔｏＣエッチング装置
薄ウェハ（１００μｍ以下）の自動枚葉搬送を実現したプラズマエッチング装置。マルチモードプラズマとステッププロセスで幅広いプロセスに対応 自然酸化膜除去から厚膜レジストアッシング・クリーニング・ディス…
メーカー・取扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
-
-
-
-
小型電子部品（面実装タイプ）の側面電極形成をドライ化。ＰＶＤ（イオンプレーティング装置）だから可能な小型部品対応の端面電極成膜。
面実装タイプの受動電子部品（抵抗器・コンデンサ）などの側面電極をドライプロセスで形成。 廃液処理不要なクリーンプロセス。部品の端面のみに強い密着力で電極被膜を形成。Ｓｎ、Ｎｉ等の金属膜をハイスループ…
メーカー・取扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
-
-
-
-
先端薄膜デバイスの研究開発に最適。カスタマイズ容易な枚葉式超高真空インラインシステム。豊富なオプションと柔軟な対応で要求に対応
１０‐⁷ｐａの排気性能を持つ超高真空スパッタリング装置。標準構成でカセット室・搬送室・エッチング室・複数のスパッタ室を装備。全自動ＣｔｏＣ方式による完全自動運転で研究開発作業の効率化を実現いたします。…
メーカー・取扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
-
-
-
-
ハイブリッド硬質膜コーティング装置（ＤＬＣーＣＶＤ＋ＰＶＤ装置）
ＣＶＤ－ＤＬＣと硬質膜用ＰＶＤの複合型コーティング装置。スムースサーフェスのＰＶＤ膜＋ハイレートＤＬＣ。硬度＋トライボロジー薄膜
自動車用のＤＬＣ膜に実績豊富なＰＩＧ式ＤＬＣ膜コーティング装置に高密度スパッタカソードＡＤＭＳ機構（アーク放電型マグネトロンスパッタリングカソード）を多元追加。トライボロジー特性に優れたＤＬＣ膜に硬質…
メーカー・取扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
-
-
-
-
緻密な酸化膜厚膜（～１０μｍ）を高速形成。新開発イオン化機構搭載 ＣＶＤ代替高密度イオンプレーティング装置
緻密で耐プラズマ性の高いイットリア膜やＳｉＣ膜を高速形成。 高密度プラズマによる反応性プロセスによりCVDより低温で溶射法より緻密な膜質を実現。 半導体関連部品にも応用可能なクリーンな成膜プロセス…
メーカー・取扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
-
-
-
-
生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。
プラズマイオン注入・成膜装置（Plasma Based Ion Implantation & Deposition:PBII&D）とは株式会社栗田製作所と産業技術総合総合研究所関西セン…
メーカー・取扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
-
-
-
-
半導体、液晶の微細パターニング、DNAチップ製造など微細異方性加工に広く利用
チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまで貴社のご要望に適したバージョンが選択できます。プロセス再現性を重視し電極温調用チラー、ＡＰ…
メーカー・取扱い企業： 株式会社電子技研
-
-
-
-
UV照射で即硬化。ブラスト加工、酸・アルカリ、塗料などから対象箇所を保護。剥離方法も多様です。
UV照射で硬化する、液体タイプのマスキング樹脂です。 サンドブラストや高温の酸・アルカリ溶液、めっき、塗装など様々なものに耐性をもち、対象箇所を保護します。 塗布方法： シリンジ、ブラシ…
メーカー・取扱い企業： 株式会社理経
-
-
-
-
-
ALNコーティング装置（高密度プラズマスパッタADMS装置）
高密度プラズマスパッタで結晶性ＡｌＮ膜を形成、立体形状への全面コーティングに対応。全自動量産型装置ラインナップ。
独自開発の高密度プラズマスパッタ ADMS法（アーク放電型マグネトロンスパッタリング法）により従来に無い緻密なＡｌＮ膜を立体形状基板に成膜。 従来の10倍のイオン量の高密度プラズマスパッタを実現。他…
メーカー・取扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
-
-
-
-
プラズマ処理で撥水コーティング。低温処理で樹脂フィルムに対応。サンプルテストで開発サポート。コンパクトタイププラズマ表面処理装置
エッチング・クリーニングで実績豊富なプラズマ技術で撥水コーティングに対応。樹脂フィルム・ガラス・金属薄膜、多種の基板を撥水処理。 プロセス変更で親水化やクリーニングにも対応 コパクト・リーズナブル…
メーカー・取扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
-
-
-
-
ＡｌＮテンプレート作成装置（配向性ＡｌＮ膜用スパッタリング装置）
ＵＶ－ＬＥＤ用ＡｌＮテンプレートをスパッタで。高い結晶性とＣ軸配向性を持つＡｌＮ膜をスパッタで作成可能。最新型成膜装置
ＵＶ－ＬＥＤの製造の低コスト化に必要なサファイア基板へのＡｌＮテンプレートをスパッタで作成。１００arc／ｓｅｃ以下のＣ軸配向性を持つＡｌＮ膜を低温（７００℃以下）でスパッタリングで形成。 シンプル…
メーカー・取扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
-
-
-
-
高出力3スロット・リボンバーナーでラミネート前の紙の前処理を行います。
フレームプラズマ表面処理装置。 フィルム、アルミ箔、ラミネート紙の前処理。均一で、プラズマ状態をコントロールされた火炎が高エネルギープラズマを発生。 【特徴】 ○オゾン発生なし ○ピンホー…
メーカー・取扱い企業： 株式会社マツボー
-
-
-
-
寿命向上 ＋ 機能UP！プレスや冷間鍛造な過酷な使用用途に対応！
表面に白層（化合物層）を作らない「ラジカルチッカ」と、 EV・FG・コーティング膜などの「複合表面改質」を併用することで、 金型の機能性向上を実現します。 「ラジカルチッカ」表面に白層(化合…
メーカー・取扱い企業： 松山技研株式会社
-
-
-
-
【異種接合・接着剤レス直接接合】密着性・親水性などが向上！炭素繊維を高効率プラズマで表面改質。コスト削減も
『Precise』は、炭素繊維表面・チョップドファイバー・カーボンブラック等の粒子などに処理することで、表面の親水化、密着性向上などの効果を得られる大気圧プラズマ処理です。 プラズマソースと処理…
メーカー・取扱い企業： 株式会社イー・スクエア
-
-
-
-
"大気圧プラズマ装置の処理形態"や"当社独自の装置特長"などについて解説しています
ここではコロナ処理や、アーク等を用いた装置ではなく、 完全なるバルクプラズマを発生させた大気圧プラズマ装置を主体に置き、説明しております。 特殊電極構造を用い、窒素ガス・希ガス等をベースに高周波電力…
メーカー・取扱い企業： 株式会社イー・スクエア
-
-
-
-
大気圧プラズマ装置による効率的な表面処理を実現！バグフィルターにて捕獲粒子サイズを簡単に変更可能
大気圧プラズマ装置での粒子の分散性、粒子への親水化、 金属粒子への表面還元を高効率に処理ができる方法を開発しました。 ダウンストリーム型で幅広、長尺ワークへの有利な処理方法を生かした構造を 利用し、…
メーカー・取扱い企業： 株式会社イー・スクエア
-
-
-
-
基板、樹脂、粉体、医療、半導体…。あらゆる分野で使えるプラズマ技術の応用例が満載！
当社の「プラズマ表面処理技術」をまとめた技術資料を無償配布中です。 プリント基板、フィルム、樹脂、粉体、医療、半導体後工程といった 分野を問わず活用できるプラズマ装置。 剥離、有機物除去…
メーカー・取扱い企業： 株式会社電子技研
-
-
-
-
コンパクトでアタッシュケースに格納可能！大気圧プラズマ照射装置
Heガスボンベ/AC100V電源に接続するだけで簡単に実験可能！持ち運びが容易なハンディタイプのプラズマ照射装置！
ハンディタイプ 大気圧プラズマ照射装置「HAPYシリーズ」は、コンパクトで全ての機器をアタッシュケース内へ格納可能です。 Heガスボンベ / AC100V電源に接続するだけで実験ができます。 ガス…
メーカー・取扱い企業： 株式会社電子技研
-
-
-
-
ロードロックタイプスパッタリング装置（枚葉搬送タイプ）デモ対応中
ディスクリート素子から先端デバイスまで、Ｒ＆Ｄに量産に。コンパクト、ハイクオリティ、多用途対応のＣｔｏＣタイプスパッタリング装置
基板の枚葉搬送を基本としたロードロックタイプスパッタリング装置、上位機種（マルチチャンバタイプ）のプロセスチャンバと搬送機構を共用。 高いレベルの膜質要求に対応、各種ＩＣ（ディスクリートＩＣ、カスタ…
メーカー・取扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
-
-
-
-
硝酸態窒素水溶液を植物の肥料に！液中にてコロナ放電を発生させる技術
株式会社栗田製作所の『液中プラズマ技術』は、従来の真空中・大気中ではなく、液中にてコロナ放電やグロー放電を発生させる技術です。 プラズマより発生する活性種(Hラジカル、OHラジカル)や紫外線等を…
メーカー・取扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
-
-
-
-
伝送ロスを低減するダイレクト接着技術・無電解メッキ前処理に！
大気圧プラズマ装置を利用した５G・６G向けプリント基板やFCCL製造プロセスに寄与します。 弊社の『Precise』はプラズマ発生部を処理部と分離されているため（ダウンストリーム型）、 処理方面にダ…
メーカー・取扱い企業： 株式会社イー・スクエア
-
-
-
-
防爆型リチウムイオン電池の製造工程で、時間のかかる電解液の注入含浸時間の短縮に効果が期待できる大気圧プラズマ装置！
弊社の大気圧プラズマ装置『Precise』は、 プラズマ処理により正・負電極部やセパレータへの表面を活性化することで、 リチウムイオン電池への電解液の注入含浸時間の短縮が可能。 また、同処理はプラズ…
メーカー・取扱い企業： 株式会社イー・スクエア
-
-
-
-
大気圧プラズマ装置を用いたダイレクト接着接合時のラミ前ドライ処理
ダウンストリーム型大気圧プラズマ装置による分子結合接着・接合（ダイレクト接着）の基本的概念
弊社ダウンストリーム型プラズマ装置は処理時に生ずる種々のダメージ等を排除し、 クリーン処理、かつ、スムース表面での接着が可能で、５G,６G向けFCCL製造関連等や、 2次電池市場でのカーボンフィル…
メーカー・取扱い企業： 株式会社イー・スクエア
-
-
-
-
硬質膜用スパッタリング装置ＳＴＬ５５２１型（精密レンズ金型用）
最大５元カソードによる多元・多層成膜。耐摩耗性・耐熱性・平滑薄膜。ロードロックタイプぷで高温成膜でもハイスループット。
精密レンズ金型のコーティングに必要な耐熱性の高い耐摩耗膜のに形成に最適。レンズ金型のコーティングに適したＰｔやＲｕなどの貴金属合金を多元同時スパッタで小径カソードで効率的に形成。またナノ多層構造の積層…
メーカー・取扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
-
-
-
-
【大気圧プラズマ装置 課題解決例】テフロン表面への超親水化処理
大気圧プラズマ装置によるテフロン（PTFE・PFA）への超親水化、5度近傍（純水での接触角）に成功。
大気圧プラズマ装置による課題解決事例をご紹介いたします。 この度、フッ素樹脂（PTFE、PFA）への表面改質を 5 度近傍（純水での接触角）に成功しました。 従来 50 度近傍が最大値でしたが、…
メーカー・取扱い企業： 株式会社イー・スクエア
-
-
-
-
プラズマ装置の製造実績をいかし、御社のご希望に合わせてプラズマ処理を承ります！小ロット・短納期に対応！
様々な材質を用途に合わせプラズマ処理いたします。 小ロット・短納期で対応可能です。 【用途例】 『洗浄』『表面改質』『接着効果のUP』など、御社のニーズに合わせて処理いたします。 試作用や…
メーカー・取扱い企業： 株式会社エスクラフト
-
-
-
-
グローバルメーカーの標準となった非粘着・離形（離型）コーティング技術！現在使用している部品に様々な表面特性を付与可能
『プラズマコーティング』は、米国プラズマコーティング社が開発した 離型性コーティング技術です。 当技術は、離型剤の種類だけでも10種以上ありますが、その離型剤と 組み合わせる硬質層の表面粗さ…
メーカー・取扱い企業： カンメタエンジニアリング株式会社
-
-
-
-
等方性プラズマを利用 微細なパターンやチューブ形状内面の洗浄、改質に最適！
バレルタイププラズマ処理装置「ＰＢシリーズ」は、等方性真空プラズマを利用して有機物の除去（Ashing）や油分の除去（Cleaning）、珪素化合物（ＳｉＯ2，ＳｉＮ）のEtching、濡れ性改善等の…
メーカー・取扱い企業： 株式会社電子技研
-
-
-
-
大気圧プラズマ装置「AP Plasma Precise II」
ダメージフリー・パーティクルフリーの大気圧プラズマ装置
大気圧プラズマ装置「AP Plasma Precise II」は、窒素ガスをベースとし、誘電体バリア放電を利用しワーク自体を電磁界エリアから隔離し、リアクター内で励起されたラジカル等のみを使用した装置…
メーカー・取扱い企業： 株式会社イー・スクエア
-
-
-
-
大気圧プラズマ装置によるCFRP・長尺繊維束向けの高効率表面改質
CFRP、グラスファイバー、長尺繊維への表面処理
大気圧プラズマ装置Preciseシリーズは、窒素ガスをベースとし、誘電体バリア放電を利用しワーク自体を電磁界エリアから隔離し、リアクター内で励起されたラジカル等のみを使用した装置です。 これによりワー…
メーカー・取扱い企業： 株式会社イー・スクエア
-
-
-
-
大気圧プラズマ装置Cu/フッ素樹脂等へのダイレクト接着と超親水化
フッ素樹脂（PTFE・PFA）に粗面化不要のダイレクト接着が可能な大気圧プラズマ装置！
５G・６Gを支える基板の材料として注目されているフッ素樹脂（PTFE・PFA）やLCPフィルムへの Cuメッキや直接接着が出来ます。 弊社の大気圧プラズマ表面処理装置『Precise』は、 プラズマ…
メーカー・取扱い企業： 株式会社イー・スクエア
-
