金属・金属酸化物・誘電体膜対応 薄膜コーティング
金属・金属酸化物・誘電体膜対応 薄膜コーティング http://www.ipros.jp/data/products/tmp/150347/005/img/thin layer coating.jpg フォトファブリケーションを中心的技術として、 マイクロエレクトロニクス製品や光学製品をはじめとする様々な分野での 試作・開発に貢献するフォトプレシジョン社 『薄膜コーティング』のご案内です。 ほとんどの金属・金属酸化物をコーティングすることが可能! ■□■特徴■□■ ■抵抗加熱真空蒸着、EB加熱真空蒸着、スパッタリング装置を  社内に保有 ■抵抗過熱真空蒸着  真空中で薄膜材料(ターゲット)を加熱蒸発させ、基板面に   付着させる蒸着方法 ■E.B.加熱真空蒸着   真空中でターゲットを加熱蒸発させ、基板面に付着させる蒸着方法 ■スパッタリング   ターゲットにアルゴン陽イオンで衝撃を与え、衝撃でたたき出された   原子が基板面に到着して膜を形成する成膜法 ■その他膜種、膜厚や多層膜についてもお気軽にお問い合わせ下さい。   基板種・サイズなど幅広く対応が可能です。 フォトプレシジョン株式会社 製造・加工機械 > 受託サービス > 加工受託 -
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    フォトプレシジョン株式会社
    フォトファブリケーションを中心的技術として、
    マイクロエレクトロニクス製品や光学製品をはじめとする様々な分野での
    試作・開発に貢献するフォトプレシジョン社
    『薄膜コーティング』のご案内です。

    ほとんどの金属・金属酸化物をコーティングすることが可能!

    ■□■特徴■□■

    ■抵抗加熱真空蒸着、EB加熱真空蒸着、スパッタリング装置を
     社内に保有

    ■抵抗過熱真空蒸着
     真空中で薄膜材料(ターゲット)を加熱蒸発させ、基板面に
      付着させる蒸着方法
    ■E.B.加熱真空蒸着
      真空中でターゲットを加熱蒸発させ、基板面に付着させる蒸着方法
    ■スパッタリング
      ターゲットにアルゴン陽イオンで衝撃を与え、衝撃でたたき出された
      原子が基板面に到着して膜を形成する成膜法

    ■その他膜種、膜厚や多層膜についてもお気軽にお問い合わせ下さい。
      基板種・サイズなど幅広く対応が可能です。
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基本情報金属・金属酸化物・誘電体膜対応 薄膜コーティング

フォトファブリケーションを中心的技術として、
マイクロエレクトロニクス製品や光学製品をはじめとする様々な分野での
試作・開発に貢献するフォトプレシジョン社
『薄膜コーティング』のご案内です。

ほとんどの金属・金属酸化物をコーティングすることが可能!

■□■特徴■□■

■抵抗加熱真空蒸着、EB加熱真空蒸着、スパッタリング装置を
 社内に保有

■抵抗過熱真空蒸着
 真空中で薄膜材料(ターゲット)を加熱蒸発させ、基板面に
  付着させる蒸着方法
■E.B.加熱真空蒸着
  真空中でターゲットを加熱蒸発させ、基板面に付着させる蒸着方法
■スパッタリング
  ターゲットにアルゴン陽イオンで衝撃を与え、衝撃でたたき出された
  原子が基板面に到着して膜を形成する成膜法

■その他膜種、膜厚や多層膜についてもお気軽にお問い合わせ下さい。
  基板種・サイズなど幅広く対応が可能です。

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化学、樹脂・プラスチック、鉄/非鉄金属、産業用機械、民生用電気機器、産業用電気機器、電子部品・半導体、自動車・輸送機器、試験・分析・測定、IT・情報通信、建築・土木・エンジニアリング、製造・加工受託、教育・研究機関、サービス業、その他

カタログ金属・金属酸化物・誘電体膜対応 薄膜コーティング

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    ほとんどの金属・金属酸化物をコーティングすることが可能!

    ■□■特徴■□■

    ■抵抗加熱真空蒸着、EB加熱真空蒸着、スパッタリング装置を
     社内に保有

    ■抵抗過熱真空蒸着
     真空中で薄膜材料(ターゲット)を加熱蒸発させ、基板面に
      付着させる蒸着方法
    ■E.B.加熱真空蒸着
      真空中でターゲットを加熱蒸発させ、基板面に付着させる蒸着方法
    ■スパッタリング
      ターゲットにアルゴン陽イオンで衝撃を与え、衝撃でたたき出された
      原子が基板面に到着して膜を形成する成膜法

    ■その他膜種、膜厚や多層膜についてもお気軽にお問い合わせ下さい。
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取扱会社金属・金属酸化物・誘電体膜対応 薄膜コーティング

高度な技術と豊富な経験に基づいたフォトエッチングの一貫加工。 独自の受注生産システムにより多種多様なニーズにお応え致しております。

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