ズース・マイクロテック株式会社 露光装置 MA300 Gen2
- 最終更新日:2011-02-25 11:51:54.0
- 印刷用ページ
再配線の加工に最適な300mmウエハ用両面マスクアライナ
自社開発の回折光減小光学系、WECシステム採用
基本情報露光装置 MA300 Gen2
【特徴】
■最先端の3次元積層パッケージング技術で不可欠なTVSや
ウエハレベルパッケージで要求されるバンプ、再配線の加工に最適な
300mmウエハ用両面マスクアライナ
■アライメント精度0.5um@3σ
□その他詳細についてはカタログをご覧ください
価格情報 |
****** お気軽にお問い合わせください |
---|---|
納期 |
お問い合わせください
※お気軽にお問い合わせください |
用途/実績例 | 詳細はお問い合わせください |
カタログ露光装置 MA300 Gen2
取扱企業露光装置 MA300 Gen2
露光装置 MA300 Gen2へのお問い合わせ
お問い合わせ内容をご記入ください。