株式会社IAS Inc. 分析・解析機器 薬液中金属不純物分析システム

半導体製造ラインで用いられている洗浄薬液やガス中の金属不純物を測定するシステム

洗浄薬液槽近くに設けられたサンプリングモジュールで生成した微細のエアロゾルを
アルゴンガス気流に乗せて長距離(100mまで)を移送し、
ICP-MS近くに設けられた切替えバルブにて薬液を選択し、ICP-MSにて自動分析するシステムです。

基本情報分析・解析機器 薬液中金属不純物分析システム

【特徴】
◯検量線の自動作成(相関係数および最低感度のチェック)
◯検量線の自動再校正
◯QC(品質管理)試料による検量線チェック(一定試料数毎に再チェック)
◯内標準元素による増・減感チェック
◯試料溶液中不純物濃度レベルの2段階上限値設定
◯洗浄薬液槽からの信号を受けての割り込み分析(洗浄薬液の交換前後等)

●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

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用途/実績例 半導体製造、シリコンウェーハの洗浄工程

カタログ分析・解析機器 薬液中金属不純物分析システム

取扱企業分析・解析機器 薬液中金属不純物分析システム

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株式会社IAS Inc. IAS Inc.

●半導体に関係する分析装置及び分析手法の提供。 ●元素分析(特にICP-MS)に関連する分析手法の提供。 ●ICP-OES/ICP-MSの部品・周辺機器、前処理装置の販売。 ●ICP-MS装置の取り扱い等に関するコンサルタント。 ●化学分析関連の取り扱い説明書・ソフトウエアー等の英語から日本語への翻訳。

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