株式会社マイクロフェーズ 管状炉CVD装置

長尺粉体CNTの生成、基板への垂直配向CNTの成長、粉体試料表面へのカーボン成膜をこの一台で実現できます。

オプションで、アンモニアガスや、その他のCVDガスの導入ユニット、CVD反応用の固体や液体前駆体の導入ユニットを追加することにより、窒化処理、カルコゲナイド層状物質の成膜も可能です。

基本情報管状炉CVD装置

【特徴】
○ 真空CVDモードおよび大気圧CVDモードを実施できます。
○ マスフローガス導入システム標準装備
○ ナノカーボン生成向けCVDプロセスレシピを開示

●その他機能や詳細はお問い合わせください。

価格情報 お気軽にお問い合わせください。
価格帯 500万円 ~ 1000万円
納期 お問い合わせください
※お気軽にお問い合わせください。
用途/実績例 ●詳細についてはカタログをご覧頂くか、お問い合わせ下さい。

取扱企業管状炉CVD装置

マイクロフェーズロゴマーク.jpg

株式会社マイクロフェーズ

◆ナノ成膜装置= CNT合成装置、 グラフェン成膜装置、 回転CVD炉、 ロータリキルンCVD装置、 負極材表面へのカーボンコートCVD装置、 ナノ粒子成膜装置、 真空蒸着装置など ◆ナノ材料= 垂直配向CNT、 CNT分散液、CNT樹脂複合材料、 伸び~るCNTゴムシート、 CNT黒体、 CNT熱伝導シート、 酸化チタン/炭化チタンナノチューブなど

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