株式会社マイクロフェーズ 管状炉CVD装置
- 最終更新日:2020-02-13 11:10:09.0
- 印刷用ページ
長尺粉体CNTの生成、基板への垂直配向CNTの成長、粉体試料表面へのカーボン成膜をこの一台で実現できます。
オプションで、アンモニアガスや、その他のCVDガスの導入ユニット、CVD反応用の固体や液体前駆体の導入ユニットを追加することにより、窒化処理、カルコゲナイド層状物質の成膜も可能です。
基本情報管状炉CVD装置
【特徴】
○ 真空CVDモードおよび大気圧CVDモードを実施できます。
○ マスフローガス導入システム標準装備
○ ナノカーボン生成向けCVDプロセスレシピを開示
●その他機能や詳細はお問い合わせください。
価格情報 | お気軽にお問い合わせください。 |
---|---|
価格帯 | 500万円 ~ 1000万円 |
納期 |
お問い合わせください
※お気軽にお問い合わせください。 |
用途/実績例 | ●詳細についてはカタログをご覧頂くか、お問い合わせ下さい。 |
取扱企業管状炉CVD装置
管状炉CVD装置へのお問い合わせ
お問い合わせ内容をご記入ください。