DUV 超短パルスレーザー Xiton Photonics 日本レーザー

加工用途に最適な高繰返し超短パルスLD励起レーザー

〇加工用途に好適なレーザー光
超短パルス幅　7ns @ 213nm 、9ns @ 224nm を実現。
高パルス出力を備え、TEM00, M2 < 1.6と優れたビームプロファイル

〇低メンテナンス
密閉したハウジングに収納した設計、プラグインのLDモジュールを採用。

※製造業界ならびに科学分野に貢献する革新的レーザー光源を製造販売を通し
お客様へソリューションを提供致します。

■IMPRESS 213
波長: 213 nm
平均出力: 150 mW
パルス幅:< 7 ns
パルスエネルギー: > 15 μJ

■IMPRESS 224　
波長:224 nm　
平均出力:300 mW　
パルス幅:< 9 ns　
パルスエネルギー: > 30 μJ

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基本情報DUV 超短パルスレーザー Xiton Photonics

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型番・ブランド名	IMPRESS 213 & IMPRESS 224
用途／実績例	【主な用途】・ファイバ・ブラッグ・グレーティング・アルゴンイオンレーザーの置き換え・1μm未満の微細加工・ラマン分光・波長センシティブな加工・ステレオ・リソグラフィ・ディスプレイ・リペア・半導体検査・フォトルミネセンス測定

詳細情報DUV 超短パルスレーザー Xiton Photonics

: IMPRESSシリーズの出力と波長
出力：150mW／300mW
波長：213nm／224nm
パルス幅：7nsec～

カタログDUV 超短パルスレーザー Xiton Photonics

DUV超短パルスレーザーXiton_Photonics_213nm 150mW.pdf

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取扱企業DUV 超短パルスレーザー Xiton Photonics

株式会社日本レーザー

【取扱製品】 ■レーザー海外より多くの種類のレーザー製品輸入し、あらゆる業種・用途でのお客様の要望に適応できるよう多彩な製品をラインナップしております。 ■ レーザー周辺機器・アクセサリーオプトメカニクス、オプトエレクトロニクス、除振台、光学部品・変調素子、ビームプロファイラー、パワーメーター、ガルバノスキャナ、保護メガネ等。 ■計測応用装置レーザー光を中心に、光を活用した工業計測・解析装置、粒子径分布測定、流体のベクトル測定、非接触測定による各種の最先端機器をご用意。赤外カメラを始めとした画像処理関連の機器・装置 ■加工応用装置描画装置、切断、穴開け、抵抗体のトリミングから、溶接、半田付け、一般加工から半導体製造向けまで