フォトプロセス解析露光装置　ES-3500LP リソテックジャパン

ウシオ電機社製エキシマランプを搭載。193nm対応解析露光装置。

フォトプロセス解析露光装置　ES-3500LPはVUVES-4500で用いているレーザー光源の代わりに、ウシオ電機社製エキシマランプを搭載した装置。レーザー光源のような、大がかりなガス供給システムを必要とせず、場所を選ばず設置可能。
詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

関連リンク - http://www.ltj.co.jp/SOL_html/sol_photo.html

基本情報フォトプロセス解析露光装置　ES-3500LP

【主な特徴】
○g/h/i/248mm及びブロード光対応
○露光エリア□10mm/25ショット
　　　　　　　　□5mm/100ショット
○レジスト透過率測定機能搭載
○アウトガス捕集、自動搬送

【その他の特徴】
○ウシオ電機社製エキシマランプを搭載した装置。
○レーザー光源のような、大がかりなガス供給システムを必要とせず、場所を選ばず設置可能。

●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

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