リソテックジャパン株式会社 レジスト解析用EUV露光装置 EUVES-7000
- 最終更新日：2022-08-31 15:13:03.0
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EQ-10 EUV光源を搭載、極端紫外光対応解析露光装置
レジスト解析用EUV露光装置EUVES-7000は、米国Energetiq Technology社製EQ-10 EUV光源を搭載し、波長13.5nmの極端紫外光露光に対応したオープンフレーム露光が行えます。
基本情報レジスト解析用EUV露光装置 EUVES-7000
【主な特徴】
●Energetiq Technology社製EQ-10 EUV Sourceを搭載
●EUV（13.5nm）露光が可能
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取扱企業レジスト解析用EUV露光装置 EUVES-7000
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微細加工プロセス用評価機器/製造装置の開発、製造、販売、輸出入、保守サービス
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