マスク洗浄機｜全自動マスク洗浄装置「TWC-200A」テクノビジョン

マスクに付着した1μm以上のパーティクルとレジスト残渣を一挙に完全除去

TWC-200Aは露光工程で使用されるマスクの洗浄に特化して開発されました。
本装置の特長はマスクに付着したレジストとパーティクルを一挙同時に全自動で除去する点にあります。
特にレジスト除去に関しては大手薬品メーカーと共同で専用洗浄剤を開発し、除去効果を大幅に向上させるとともに安全性や地球環境にも配慮しました。
オペレーターはマスクを装填したカセットを乗せるだけ。
危険な薬品に曝される事も無く安全性を高め、露光プロセスの品質向上と歩留まり向上に大きく貢献いたします。

基本情報マスク洗浄機｜全自動マスク洗浄装置「TWC-200A」

■主な特長
・100,000,000円前後のマスク代を毎年削減※
・マスクに付着したレジストを簡単に除去
・マスクに付着したパーティクルを簡単に除去
・マスクは消耗品から永久使用へ
・洗浄液は環境にやさしいマイルドな水溶性薬液を開発
・熱硫酸や硫酸過水などの危険から解放
・高価なリムーバーや現像液なども不要

価格帯	お問い合わせください
納期	お問い合わせください
型番・ブランド名	TWC-200A
用途／実績例	■デザインルールL/S（Line and Space ）1μm以上のフォトマスクの洗浄に最適 FPD（フラットパネルディスプレイ）、MEMSデバイス、ファインパターンPCB/FPC/TAB、化合物半導体、薄膜電子部品など。

カタログマスク洗浄機｜全自動マスク洗浄装置「TWC-200A」

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取扱企業マスク洗浄機｜全自動マスク洗浄装置「TWC-200A」

株式会社テクノビジョン本社

■半導体製造プロセス関連の洗浄装置 ■半導体製造プロセス関連の組み立て装置 ■ＦＰＤ製造プロセス関連の洗浄装置 ■ダイサー周辺機器 ■上記製品の製造、販売、及び関連製品の開発、設計、製造と輸出、輸入業務。【洗浄装置関連】・カセット・キャリア洗浄装置・フォトマスク洗浄装置・全自動マスク洗浄装置／マスク洗浄機・簡易洗浄ユニット・紫外線オゾン洗浄装置・超純水用・エアー用加熱装置【スーパークリーンヒーター】・超純水用加熱ヒーター・クリーン加熱ヒーター・簡易タイプ温度コントローラー【後工程組立関連】・テープマウンター／ウェハーマウンター（ウエハーマウンター）・ウェハーエキスパンダー／ウェハー拡張装置・UVフィルム硬化装置／紫外線フィルム硬化装置・グリップリング／ウェハー収納ケース ※日本全国および海外（台湾、中国、欧米）にも対応。詳細は、お気軽にお問合せ下さい。