株式会社清和光学製作所 ナノインプリント装置
- 最終更新日：2012-03-01 10:52:32.0
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繰り返し精度＝20nm!!!
UV式／熱硬化式
300ｍｍウエハー対応の装置です。
金型の平行出し、加圧、ＵＶ照射、離型し、高精度繰り返し位置決め精度にて
ステップ＆リピートし、リソグラフィーの代替パターニングとして
（テラバイト光ディスク、ＬＥＤ、マイクロレンズ、拡散フィルム、高密度パッケージ等）に最適です。
研究開発用、量産に対応いたします。
超高精度 繰り返し精度＝20nm
基本情報ナノインプリント装置
<構成>
1.XY軸エアースライド
2.リニアモータ
3.リニアゲージ
4.Z軸エアースライダ
5.平行出し機構
6.マイクロディスペンサ
7.オートフォーカスポート
8.基板ホルダ
9.金型ホルダ
10.UV照射ユニット
11.空調システム
| 価格情報 | お気軽にお問い合わせください。 |
|---|---|
| 納期 |
お問い合わせください
※お気軽にお問い合わせください。 |
| 型番・ブランド名 | コレクト |
| 用途／実績例 | テラバイト光ディスク、ＬＥＤ、マイクロレンズ、拡散フィルム、高密度パッケージ等 |
取扱企業ナノインプリント装置
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光学機器の設計、製造、販売 1.顕微鏡 2.マシンビジョン及び周辺機器 （光学機器・照明機器・映像機器・FA実装及び半導体関連装置) 3.FPD及び半導体用製造装置 / 検査装置 （露光装置、検査装置、レーザ機器) 4.機器のサービス＆メンテナンス 5.新市場向新開発製品
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