ISYS社 大面積イオンビーム照射装置は、成膜せずにドーピングで物質の表面を改質します。イオンビーム装置は加速されたイオンを製品表面内に注入させることによって表面を改質する方法です。メタル・セラミック・ポリマーなどの表面特性を向上します。イオンビームエネルギーは、～300KeV、イオンビーム電流は 5～50 mA、イオンビーム照射面積は 400mm×400mmです。処理効果は、機械的な特性向上として、耐摩耗性の向上・耐疲労性の向上・摩擦力の減少があげられます。また、電気/光学的な特性の向上としては、電気伝導性・紫外線の遮断などがあります。さらに、化学的な特性の向上としては、親水/疎水性・耐酸化性・耐腐食性・非晶質化などです。
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基本情報大面積イオンビーム照射装置
【特徴】
○加速されたイオンを製品表面内に注入させることによって表面を改質する方法
○メタル・セラミック・ポリマーなどの表面特性を向上
○韓国原子力研究所より技術ライセンス
○基本仕様
→イオンビームエネルギー：～300KeV
→イオンビーム電流： 5～50 mA
→イオンビーム照射面積：400mm×400mm
○処理効果
→機械的な特性向上：耐摩耗性の向上・耐疲労性の向上・摩擦力の減少
→電気/光学的な特性の向上：電気伝導性・紫外線の遮断
→化学的な特性の向上：親水/疎水性・耐酸化性・耐腐食性・非晶質化
○適用分野
→半導体製造(ドーピング)、静電気防止、電磁波遮蔽、耐久性、耐摩耗性、
宝石発色、親水・疏水性処理など
○応用装置
→大面積イオン照射機
→イオンビームスパッタリングシステム
→ハイカレントイオンインプランター
○アプリケーション
→ヘアクリッパー・ブラックダイヤモンド・サンバイザー・ICトレイ
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