フォトファブリケーションを駆使！ファインパターンが形成可能！
今や、微細加工技術の１つとして、レーザビームを用いた加工処理は一般的となり、また、それを行う為の装置関連も飛躍的な進歩を遂げています。 いままで豊和産業株式会社では、そのような装置の部品としての光学製品を供給してまいりました。特に、反射ミラーにパターニング処理を施したレーザ用マスクは、パッケージ等へのマーキング及び微細穴あけ加工等の用途として多用されています。 フォトファブリケーションを駆使した製品ですので、ファインパターンを形成出来る事が特徴です。
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基本情報各種レーザー用マスク＆ミラー
【特徴】
○反射ミラーにパターニング処理を施したレーザ用マスク
→パッケージ等へのマーキング及び微細穴あけ加工等の用途として多用
○フォトファブリケーションを駆使した製品で、ファインパターンを形成出来る
【製品例】
○各種半導体レーザ用全反射ミラー
○ハーフミラー
○YAGレーザマーキング用ガラスマスク
○エキシマレーザ加工機用ガラスマスク等
【構成】
○基板：各種ガラス、金属等
○表面処理
→AL、Cr、Cu、Au等の各種金属膜コーティング、誘電体膜コーティング
→ガラスエッチング、サンドブラスト処理等
○パターニング法
→薄膜エッチング、リフトオフ、 ガラスエッチング、サンドブラスト等
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