RHEED
RHEED http://www.ipros.jp/public/product/image/7b9/2000115933/IPROS8645166230791891536.jpg RHEEDスクリーンの解像度が鮮明です。 二段差動排気・超高真空用も用意しています。 有限会社フリーダム 測定・分析 > 分析機器 > 蛍光X線分析装置 RHEED 1,800,000
  • RHEEDスクリーンの解像度が鮮明です。 二段差動排気・超高真空用も用意しています。
    有限会社フリーダム
    RHEEDスクリーンの解像度が鮮明です。
    二段差動排気・超高真空用も用意しています。
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    RHEED

基本情報RHEED

RHEEDスクリーンの解像度が鮮明です。
二段差動排気・超高真空用も用意しています。

価格

1,800,000

価格帯

100万円以上 500万円未満

納期

発売日

取扱い中

型番・ブランド名

RHEED

用途/実績例

多くのMBE装置、レーザーアブレーション装置に使用されています。

よく使用される業種

光学機器、試験・分析・測定、教育・研究機関

カタログRHEED

  • 【掲載内容 ※詳しくはカタログをご覧ください。】
    新規金属系材料の探索効率を1000倍と飛躍的に高めます!「コンビナトリアルアークプラズマ蒸着装置 CAP-1000」
  • 1200℃昇温レーザー加熱システムを採用した最新型パルスレーザーアブレーション
    成膜装置です。実績のある安定したNd:YAGパルスレーザーを採用しメンテナンスは容易です。高性能、コンパクト、使いやすく自由度の多い設計となっています。
    特長
    ○ レーザー加熱システムを採用し1200℃加熱を実現
    ○ 安定でメンテナンスが容易なYAGレーザーを採用
    ○ 周波数解析可能なRHEEDシステム
    ○ コンパクトながら自由度が多く高性能
    ○ 10Pa~超高真空まで広範囲な圧力範囲で成膜可能
    ○ スパッタガンおよびMBEセル等の増設も可能
    ○ ランプヒーター、SiCヒーターの1000℃加熱装置も用意

取扱会社RHEED

パルスレーザーデポジション装置(PLD)をはじめリチウム蒸着装置、有機デバイス研究用蒸着装置等、研究用の各種成膜装置を製作しています。 また、1000℃以上に短時間で加熱できるレーザー加熱、1200℃加熱できる真空用ランプ加熱、酸素雰囲気で加熱できるSiCヒータ、超高真空キャリアケース等ユニークな真空機器を提供しています。

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