エピタキシャル成長に最適 薄膜成長用酸化物基板は1980年代から高温超電導薄膜やGaNなどの基板としてSrTiO3やサファイア基板を提供をはじめ、科学技術の向上に貢献し続けており、エピタキシャル成長用基板は、結晶性、基板表面の平滑、平坦性とともに最表面の結晶格子歪の有無が重要です。弊社は長年の技術の蓄積により、結晶育成(一部結晶は除く)から加工まで自社内で一貫生産しており、高精度な加工技術により、加工歪層のない高品質な結晶基板表面に仕上げております。標準的な仕様は常に在庫を持っており、ご発注後一週間程度でお届け可能です。ご希望に合わせて面方位、形状、OFF角度などをオーダーメイドすることも常に行っておりますのでラインアップにない結晶材料も取り扱っておりますのでご気軽にお問い合わせください。誘電体、超伝導、化合物半導体などのエピタキシャル成長に最適な酸化物結晶基板を提供しております。
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※カタログは弊社オフィシャルHPからも 登録なしでダウンロードできます。
基本情報エピタキシャル成長に最適 薄膜成長用酸化物基板
【特徴】
○酸化物単結晶STEP基板
→高品質なエピタキシャル成長に最適な当社独自のSTEP加工
→加工変質層がなく平坦度に優れた高い加工精度
→出荷時に基板全数のAFM写真を添付
○サファイア(α-Al2O3)基板
→結晶欠陥が少ないサファイア単結晶を使用
→加工変質層がなく、エピタキシャル成長に適した表面
○SrTiO3(チタン酸ストロンチウム)基板
→高品質、高純度結晶
→エピタキシャル成長に最適
→傷や加工歪み層のない高品位な基板表面
→Nbをドープすることによる導電性の付与
→結晶成長から基板加工まで一貫生産
○TiO2(ルチル)基板
→世界最高クラスの結晶性
→STEP基板の対応も可能
→Nbをドープすることによる導電性の付与
○LaAlO3(ランタンアルミネート)基板
→STEP基板の対応も可能
→大口径;最大2インチ対応可
→結晶成長から基板加工まで一貫生産
○NdGaO3(ネオジムガレート)基板
→超伝導薄膜との格子整合性が良好
→高品質・結晶成長から基板加工まで一貫生産
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カタログエピタキシャル成長に最適 薄膜成長用酸化物基板
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