1枚からの成膜が可能 成膜加工(CVD)
1枚からの成膜が可能 成膜加工(CVD) http://www.ipros.jp/public/product/image/5b4/2000122928/IPROS594115120609163542.JPG 【特長】 ○1枚からの成膜が可能です。 ○低温CVDは、100℃以下での成膜が可能です。 ○異形サイズの基板への成膜も対応可能です。 ○樹脂、フィルムなどの材質への成膜も可能です。 ○パターニング後の基板も投入可能です。 ○温度条件を変えての成膜対応可能です。 ○薄膜成膜にて、±4%以下での成膜加工も可能です。 ●その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問い合わせ下さい。 大村技研株式会社 製造・加工機械 > 半導体製造装置 > ウエハ加工/研磨装置 -
  • 低温CVDは、100℃以下での成膜や、異形サイズの基板へも、樹脂、フィルムなどの材質へも成膜可能。
    大村技研株式会社
    PE=CVDのSiO2、SiNを中心に成膜の受託加工を行っております。
    厚膜の熱酸化膜への対応、小数枚の熱酸化膜へのご要求にも
    在庫品で対応できる場合がありますので、お気軽にお問い合わせください。

    その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問い合わせ下さい。
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基本情報1枚からの成膜が可能 成膜加工(CVD)

【特長】
○1枚からの成膜が可能です。
○低温CVDは、100℃以下での成膜が可能です。
○異形サイズの基板への成膜も対応可能です。
○樹脂、フィルムなどの材質への成膜も可能です。
○パターニング後の基板も投入可能です。
○温度条件を変えての成膜対応可能です。
○薄膜成膜にて、±4%以下での成膜加工も可能です。

●その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問い合わせ下さい。

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よく使用される業種

産業用機械、機械要素・部品、民生用電気機器、産業用電気機器、電子部品・半導体、光学機器、IT・情報通信、製造・加工受託、その他製造

カタログ1枚からの成膜が可能 成膜加工(CVD)

  • 大村技研株式会社はガス関連事業と半導体関連事業が密接に結びついている企業です。各種生産工場(半導体・液晶・食料品・機械)、研究所等が当社の得意なフィールドです。大村技研の技術は、半導体業界、液晶、燃料電池、エコ関連、食品工場、各種製造プラント、薬品研究所、 研究機関等、精密性・緻密性・安全性を厳格に求められる多くの業界で採用されています。
    当社は半導体のフィールドで培った豊富な経験と、信頼のネットワークを生かし、お客様の仕様に応じて受託加工を行っています。当社の受託加工サービスは、装置開発・評価、各種材料開発・評価、装置のパーツ、お客様の試作・研究開発などで多数のお客様にご利用いただいております。
    ウェーハファウンドリーサービスとして
    ○SOIウエーハ
    ○シリコンウェーハ販売
    ○成膜加工(CVD)
    ○成膜加工(PVD)
    ○パターニング
    ○ナノパターン
    ○その他加工サービス
    をおこなっております。いつでもお気軽のお問い合わせください。

    詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

取扱会社1枚からの成膜が可能 成膜加工(CVD)

【事業内容】 ○装置設計作成 ○リファブ、フィールドサービス ○ガス供給ユニット・配管製作 ○装置部品・ユニット修理 ○ウエーハ ファウンドリーサービス ○計装、付帯工事 ○中古半導体製造装置売買 ○機械切削加工 ○技術者派遣 ○ガス配管工事 ○製品販売 ○太陽光発電システム販売・施工

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