テルモセラ・ジャパン株式会社 MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃

SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応 小規模生産も可能なマルチ雰囲気ウエハーアニール装置

■Max2000℃(真空中1x10-5Torr, N2, Ar)
■3種類のヒーター材質:
・高純度グラファイト:Φ6〜Φ8inch
・SiC3(炭化珪素)コーティング:Φ4〜Φ8inch
・TiC3(チタン・カーバイド)コーティング:Φ4〜Φ8inch
■使用雰囲気:
・真空・不活性ガス(グラファイト)
・還元雰囲気(TiC3コーティング)
■試料台サイズφ4inch〜φ8inch

基本情報MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃

安全性・操作性を重視した、『ウエハー焼成』専用超高温ウエハーアニール炉。

◆主な特徴◆
・セミオート:真空・パージ(3 cycle)〜 ベントまでを自動シーケンス制御(標準)
・手動プロセス圧力制御(標準):手動ベローズバルブ調整
・有効加熱範囲:φ4-φ8inch(その他サイズ可能)
・高真空対応(ターボ分子ポンプ)
◆オプション◆
・フルオート自動プロセス運転(オプション)
・自動APC制御(オプション):
-1) Upstreamコントロール:MFC供給量をPIDループ自動制御、又は
-2) Downstreamコントロール:排気側開度自動調整
・基板回転機構
・SECS/GEM通信

価格情報 -
詳細当社までお問い合わせ下さい。
納期 お問い合わせください
※詳細当社までお問い合わせ下さい。
型番・ブランド名 MiniLab-WCF
用途/実績例 ◆主な応用アプリケーション◆
・ワイドギャップ半導体 結晶成長およびデバイス作製プロセス中での高温アニール
・窒化物半導体結晶 エピタキシャル成長プロセス中での高温アニール
・新素材開発
・その他各種先端材料基礎開発に応用

詳細情報MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃

CCコンポジットヒーターエレメント
CCコンポジットヒーターエレメントを標準採用
・Φ2inch、Φ4inch、Φ6inch、Φ8inchまで標準対応
・Single Zone、もしくはDual Zone制御式(*2inchはSingle Zoneのみ)

ウエハーホルダー 8inch用参考例(2inchウエハーx7枚設置可能)
ご要望によりご指定形状・材質のウエハーホルダーを作成いたします。

PIDデジタル温度調節計
標準採用機種
・Eurotherm社 nanodaq series

トップローディング式チャンバー

カタログMiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃

取扱企業MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃

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テルモセラ・ジャパン株式会社

【営業品目】 1. CVD・PVD真空薄膜実験用超高温基板加熱ヒーター 2. 真空薄膜実験装置 3. 超高温実験炉 4. 赤外線放射温度計 5. 真空コンポーネント 6. カスタムメイド装置

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