マック産業機器株式会社フォトリソグラフィー装置　ME-2500

最終更新日：2013-05-28 18:35:16.0
印刷用ページ

有機EL等の基板製造装置に最適！

基板を受取りスピンコートに手動で搬入され、レジストのスピンコート、EBR装置による洗浄、ベークユニット装置によるプリベーク・ポストベーク及びクリーニングを行い、現像装置により現像を行い、手動で基板の取り出しを行う装置です。

基本情報フォトリソグラフィー装置　ME-2500

スピンコート装置・EBR装置・ベークユニット装置・現像装置で構成されます。
【装置寸法】
●スピンコート装置：W2000×D1300×H2150mm
●EBR装置：W760×D1100×H1100mm
●ベークユニット装置：W1510×D1700×H1700mm
●現像装置：W900×D1400×H1400mm

【ワーク寸法】最大300×300mm

価格帯	お問い合わせください
納期	お問い合わせください
型番・ブランド名	ME-2500　フォトリソグラフィー装置
用途／実績例	有機EL等の基板製造装置として最適

カタログフォトリソグラフィー装置　ME-2500

フォトリソグラフィー装置　ME-2500

PDFダウンロード

取扱企業フォトリソグラフィー装置　ME-2500

マック産業機器株式会社テクノロジーセンター

１．産業用ロボットの製造・販売。２．半導体試験装置、半導体検査及び半導体搬　　送装置を含む半導体製造装置の製造販売３．液晶用搬送装置の製造、販売４．枚葉式スピン洗浄装置、スピンエッチング　　装置の製造、販売５．太陽電池用シリコンウエハセパレーター　　薄膜シリコンガラスエッチング　　CIGS用ガラス基板洗浄装置　　　等の製造、販売。