「IR-FP Series」は、Max1100℃まで加熱可能な平板型の赤外線加熱炉です。
各ゾーンごとの出力調整が可能なため、色々な温度環境での加熱が可能です。
クリーンな加熱で真空対応やガスフロー、観察も可能です。シリコンウエハ、化合物半導体及び薄版鋼板加工の加熱に最適です。
樹脂やフィルム、接着剤の耐熱・変形・観察の用途に使用できます。
試料サイズにより炉サイズの対応が可能です。
詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
基本情報平板型赤外線加熱炉 IR-FP Series
【基本構成】
○加熱炉本体
○試料ホルダー(石英ホルダー、熱電対1式)
○温度コントローラ
【オプション】
○炉内部真空対応
○ガス冷却機構
○真空排気系
○灼熱板
○冷却水循環装置
○CCDカメラ及び観察系
【主要仕様】
○温度範囲:RT~1100℃※
○加熱特性:30℃/秒※
○加熱方式:赤外線反射集光加熱
○冷却方式:自然冷却
○雰囲気:大気、オーバーパージ(オプションにより真空中及びガスフロー中も可能)
○加熱可能範囲:100×100mm~100×200mm程度、3インチ~6インチ
○温度センサー:K又はR熱電対
○温度制御:デジタルプログラムPID-SCR制御
○温度プログラム:99プログラム、99セグメント
○安全対策:炉体水冷、保安措置付き
※加熱対象の熱容量によって変わります。
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カタログ平板型赤外線加熱炉 IR-FP Series
取扱企業平板型赤外線加熱炉 IR-FP Series
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【装置製作ラインナップ】 1[材料試験機] 衝撃/捩り疲労/クリープ/プーリ疲労/摩擦摩耗/静的捩り/往復摺動/万能試験機 等 2[特注試験機] 製品向け特注試験機、自動車関連部品向け特注試験機、自動検査ライン設計/製作 等 3[IRイメージ炉(高温観察炉)] 18SP-最高温度1800℃/TPS-既存の顕微鏡に取付最高温度1500℃/HP-ウエハ等の実験も可能 等 4[システム・ソフト] 手入力データの入力・計測を自動化/品質管理用ソフト製作(Access、Oracleデータベースでの実績有)/小規模集中管理システム設計・製作/上位システムとの指令・実績の送受信 等 5[ミニマルファブ] 酸化膜形成プロセス-集光加熱/レジスト除去プロセス-水プラズマ(超純水のみを利用し劇薬不要なアッシング) 等 6[AE] 非破壊検査(超音波、AE、磁気)機器 詳細は各特集ページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。 デモ動画公開中! https://www.youtube.com/channel/UC8ujtxuwlxSki4aFhCkY__A
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