弊社のGaNテンプレート（GaN薄膜、GaN厚膜）は沢山の販売実績を重ねております。転位密度やXRD値など品質面や価格パフォーマンスでも高い競争力を確保しております。1枚からの研究開発用から数千枚の量産用までご対応可能でございます。
基本情報GaNテンプレート（窒化ガリウム、ガリウムナイトライド）
サイズ：Φ2”、Φ3”、Φ4”、Φ6”
GaNエピ膜厚み：3μm、4μm、指定可能
結晶構造：GaN膜・オン・サファイア基板
転位密度≦ 5x106/ cm2
XRD：（002）≦ 250arsec、（102）≦300arsec
導電タイプ：N-type、P-type、Semi-Insulating
抵抗率：<0.05 Ω・cm、>1E6 Ω・cm、他
その他：ご相談の上
| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 納期 |
~ 1ヶ月 ※2～3週間など短納期対応も可能です。 |
| 用途／実績例 | LED分野 LD分野 パワーデバイス分野 他 |
取扱企業GaNテンプレート（窒化ガリウム、ガリウムナイトライド）
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【結晶材料】 シリコン、サファイア、SiC、GaN、GaAs、InP、CaF2、MgF2、LiF、BaF2、LiNbO3（LN）、LiTaO3（LT）、水晶、YAG、ダイヤモンド、LBO、BBO、その他特殊結晶 【Epiウェハー・MOCVD］ GaN on Sapphire、GaN on Silicon、GaN on SiC、GaN on GaN、GaN on GaAs など 【光学ガラス】 合成石英、溶融石英、テンパクス、パイレックス、イーグルXG、D263、BK7、白板、青板、FTO（導電性ガラス）、ケミカル強化ガラス（ゴリラ、ドラゴン）、他 【セラミックス】 アルミナ、ジルコニア、炭化ケイ素、窒化ケイ素、AlN、BN、PBN、B4C、他 【ウェハーケース】 種類：カセットケース、シングルケース、洗浄ケース、マスクケース、ウェハーリングBOX、他 【研磨材】 種類：ダイヤモンドパウダー、炭化ホウ素（B4C）パウダー、アルミナパウダー、他 【機械設備】 種類：マルチワイヤソー、シングルワイヤソー、レーザー加工機、他
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