株式会社魁半導体 プラズマエッチャーセミオートシリーズ【CPE-300S】

プラズマエッチャーセミオートシリーズ【CPE-300S】 http://www.ipros.jp/public/product/image/f4f/2000156782/IPROS439934784586022674.png ・仕様 型式 CPE-300S 外形寸法 680(W)×785(D)×1020(H) チャンバー寸法 Φ300mm, H30mm ※オプションで変更可能 重量 80kg 電源出力 300W(13.56MHz) ガス系統 1系統  ※オプションにて複数系統対応可能 ガス制御 マスフローコントローラー 電源 100V, 15A (50Hz/60Hz) 株式会社魁半導体 製造・加工機械 > 半導体製造装置 > エッチング装置 CPE-300S 6300000
プラズマエッチャーセミオートシリーズ【CPE-300S】 製品画像

プラズマエッチャーセミオートシリーズ【CPE-300S】 製品画像

使い勝手の良い真空プラズマ装置の廉価版!テフロン親水化や各種素材の撥水等に

使い勝手が良い卓上型の真空プラズマ装置「プラズマエッチャー」シリーズに新ラインナップ、セミオートタイプが登場!従来より更に小型化、省スペースでの設置が可能。
オート、マニュアルの両機能を備え更に使いやすくなりました。
タッチパネルでマニュアル操作や事前にレシピを設定し1ボタンの簡単操作も可能。
ステージサイズはφ100mm~φ1000mmで自由に選ぶことができます。
一般的なセラミック・金属・樹脂の親水化・接着強化の他、PTFE(テフロン)の処理や各種素材の撥水処理、エッチングや薄膜形成などにお使いいただけます。
オプションでの冷却機構やガス系統追加等のオーダーメイドも承っております。

基本情報プラズマエッチャーセミオートシリーズ【CPE-300S】

・仕様
型式 CPE-300S
外形寸法 680(W)×785(D)×1020(H)
チャンバー寸法 Φ300mm, H30mm
※オプションで変更可能
重量 80kg
電源出力 300W(13.56MHz)
ガス系統 1系統 
※オプションにて複数系統対応可能
ガス制御 マスフローコントローラー
電源 100V, 15A (50Hz/60Hz)

価格 6300000
※仕様によって価格が変動しますので、お気軽にお問い合わせください。
価格帯 500万円以上 1000万円未満
納期 お問い合わせください
※3ヶ月
発売日 取扱い中
型番・ブランド名 CPE-300S
用途/実績例 【表面改質】
・表面改質/ドライ洗浄/親水性の向上/接着効果の改善/
 印刷・塗装の前処理/有機物質の除去/濡れ性の向上/細胞培養等・・・

【エッチング】
・ドライエッチング(樹脂・金属・セラミックス)

【製膜】
・SiO2膜、炭化水素膜などの形成

【実例】
☆内容
・PTFE(テフロン)の親水化・接着前処理
・ガラスの洗浄・接着前処理
・LSIの洗浄・接着前処理
・樹脂成型品の洗浄・接着前処理
・太陽電池、燃料電池 の基板洗浄
・有機EL 、デジタルサイネージ関連ディスプレイ、液晶基板の端子洗浄
・ワイヤーボンディングの前処理
・フィルムの洗浄・接着前処理
・MEMSの洗浄等
・メッキ前洗浄
・紙への印刷前処理
・半導体プレート洗浄
・シリコンウェハーの洗浄 等・・・・
よく使用される業種 飲食料品、繊維、紙・パルプ、化学、石油・石炭製品、ゴム製品、ガラス・土石製品、木材、セラミックス、樹脂・プラスチック、鉄/非鉄金属、産業用機械、食品機械、機械要素・部品、民生用電気機器、産業用電気機器、電子部品・半導体、光学機器、自動車・輸送機器、航空・宇宙、造船・重機、試験・分析・測定、IT・情報通信、医療機器、医薬品・バイオ、印刷業、その他製造、商社・卸売り、その他

カタログプラズマエッチャーセミオートシリーズ【CPE-300S】

Si,SiO2プラズマエッチャー【CPE-300S】

Si,SiO2プラズマエッチャー【CPE-300S】 表紙画像

SiやSiO2のエッチング!
その他、半導体集積回路など微細回路を作製など様々な用途に
お使い頂けます♪
初回条件出しやデモ処理は無償対応。

取扱企業プラズマエッチャーセミオートシリーズ【CPE-300S】

イメージ画像mini.jpg

株式会社魁半導体

・液体ソースを用いた堆積装置、表面改質装置等を含むプラズマを用いた各種半導体製造装置の開発、および製造販売 ・工業用石英ガラスの販売、および加工 ・委託研究による半導体製造装置の開発および製造販売 ・堆積代行、エッチング代行 ・半導体プロセスのコンサルティング業務

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