テルモセラ・ジャパン株式会社 ◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆
- 最終更新日:2023-08-26 17:02:43.0
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ローコスト 必要最小構成(手動制御)管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用可能
小片試料〜3inch waferまでの小基板用 サセプタ手動昇降式縦型実験炉
大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型炉
【用途】
◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理
◉ 基礎実験:縦型管状炉・酸化拡散炉・LPCVD等の簡易熱処理実験
基本情報◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆
【主な仕様】
・炉内温度Max1200℃, 試料最大温度Max950℃
・小片試料:数ミリサイズ〜3inchウエハーサイズまで対応
・基板枚数:1〜3枚程度
・石英サセプタ手動昇降式:停止位置目盛、クランパ付き
・炉芯管:Φ100 x Φ95 x 470L mm
・昇降:手動回転ハンドル
・温度調節:PIDプログラム温度調節計
・熱電対:2対式K熱電対x1(制御用、過昇温用)、Kタイプ素線(炉芯測温用)
価格情報 | お問合せ下さい |
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納期 | お問い合わせください |
型番・ブランド名 | TVF-110 |
用途/実績例 | ◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理 ◉ 基礎実験:縦型管状炉・酸化拡散炉・LPCVD等の簡易熱処理実験 |
カタログ◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆
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