ウェーハ平面度測定機『FM200Wafer』【歩留まり改善!】
ウェーハ平面度測定機『FM200Wafer』【歩留まり改善!】 http://www.ipros.jp/public/product/image/d8c/2000201687/IPROS7774466143763346535.jpg 測定項目:Microwaviness(表面うねり)、SORI、BOW、WARP、TTV、LTV)等 測定可能面状態:アズスライス、ラップ、ポリッシュ 測定範囲:2"~8" 測定感度:1.5~8µm/fringe 最大測定データポイント:約25万点 測定分解能:0.01µm 測定精度(Accuracy):0.10µm以下 繰り返し精度(Repeatability):0.025µm(1σ)以下 測定時間:約30秒 エスオーエル株式会社 製造・加工機械 > 半導体製造装置 > 半導体検査/試験装置 FM200Wafer -
  • ウェーハの歩留まり改善に最適な装置です!平面度の測定領域を数値で確認可能!信頼のソフトウェアが人気の業界標準平面度測定機です。
    エスオーエル株式会社
    FlatMaster-Waferは、ウェーハの歩留まり改善に最適な装置です。平面度測定時には、ウェーハ中心からφ何mmまで測定ができているか確認する必要があります。
    理由は、ウェーハエッジは急激にダレているため通常片側1mmはデータが取れていないからです。
    測定領域表示がないと、間違った領域の平面度を評価し、NG品もOK品となってしまいます。
    FlatMaster-Waferでは、測定できている領域を数値で確認可能です。
    きちんと測定領域が確認できれば、歩留まり改善のための対策が立てられます。
    化合物半導体業界標準機としてご利用いただいています。

    <特長>
    ・測定領域の表示が可能。
    ・平面度と表面うねりを1台で測定可能。
    ・表面うねりの解析等、ソフトウェアの機能が充実。
  • ウェーハ平面度測定機『FM200-Wafer』【歩留まり改善!】
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基本情報ウェーハ平面度測定機『FM200Wafer』【歩留まり改善!】

測定項目:Microwaviness(表面うねり)、SORI、BOW、WARP、TTV、LTV)等
測定可能面状態:アズスライス、ラップ、ポリッシュ
測定範囲:2"~8"
測定感度:1.5~8µm/fringe
最大測定データポイント:約25万点
測定分解能:0.01µm
測定精度(Accuracy):0.10µm以下
繰り返し精度(Repeatability):0.025µm(1σ)以下
測定時間:約30秒

価格

-
※お気軽にお問い合わせ下さい。

価格帯

1000万円以上 5000万円未満

納期


※4ヶ月

発売日

取扱い中

型番・ブランド名

FM200Wafer

用途/実績例

《装置導入実績》
  ・化合物ウエハ業界
  (GaAs、GaN、SiC等)
  ・酸化物ウエハ(Lt、Ln、ZnO等)
  ・HDD用アルチック基盤
    ※上記では業界標準機として使用されています

よく使用される業種

電子部品・半導体、教育・研究機関

詳細情報ウェーハ平面度測定機『FM200Wafer』【歩留まり改善!】

ウェーハ測定画像

TTV、厚み測定データです。

LTV測定

サイト解析が可能です。

TTV測定

測定領域を表示することが可能です。

大きなSORI測定

SORIの大きなウェーハも測定することが可能です。

表面うねり測定データ

表面うねり(Microwaviness)の測定データです。

カタログウェーハ平面度測定機『FM200Wafer』【歩留まり改善!】

取扱会社ウェーハ平面度測定機『FM200Wafer』【歩留まり改善!】

エスオーエル株式会社

平面度測定機、三次元測定機、X線CT寸法測定機の販売,輸出入,アプリケーション開発,技術サポート,および保守サービス業務

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