株式会社昭和真空 インライン式周波数調整装置 「SFE-X2012」

コンパクト設計・高精度・低価格・高安定・高再現性

インライン式周波数調整装置 「SFE-X2012」は、処理室と取出室を別にし、イオンソースもH/Lを各々搭載したことで、アイドルタイムの少ない効率的な動作が可能になりました。
SFE‐B03に搭載したIGF-201型 100mmビームのイオンソースを2基搭載しています。
イオンソース1台あたり最大24個、計48個同時処理が可能です。
SFE-B03で実績のある高精度・高安定・高再現性の搬送機構を本装置にも採用しております。
今までインラインでは困難であった小型ワーク(2.0×1.6、1.6×1.2)の周波数調整も、安定して量産できます。
ユニット毎に各機器の分解が可能で、メンテナンス性を考慮した設計となっています。

【装置性能】
○タクトタイム :0.3sec/pc以下
         ※18MHz以上のワーク、1列24個以上の場合
○調整精度 :±1.5ppm以下
○処理数 :最大24列(p4.0)×32列
○生産量 :12000pcs /時間 以上

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基本情報インライン式周波数調整装置 「SFE-X2012」

【仕様】
○ワークサイズ : SMD 2016以下の小型サイズにも適応可能
○装置構成 : 3室(仕込室、処理室、取出室) インライン式
 ※オプションで LDローダー(Oオーバー.Dドライブ付属)、
  ULDとドッキングが可能
○搬送系 : SFE-B03型と同じくX軸搬送をH/Lに各々採用
○排気系 : 処理室 12インチCP 仕込室/取出室 RP+MBP
○イオンソース : 100mmビーム矩形型 ×2式
            ⇒最大48個同時処理
○計測器 : ネットワークアナライザー 4台
○PC : Windows PC ×2台、DOS PC×2台
○周調工程 : 2段階(H,LL)

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用途/実績例 水晶デバイス周波数調整

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取扱企業インライン式周波数調整装置 「SFE-X2012」

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株式会社昭和真空

【営業種目】 ○水晶デバイス用、光学薄膜用、電子デバイス用などの  総合的な真空関連装置並びに真空機器等 ○真空蒸着装置、スパッタリング装置、イオンプレーティング装置、  ドライエッチング・アッシング装置、真空冶金(溶解、熱処理、燒結、  脱ガス)装置、光学薄膜用モニター(多色式、単色式)、  IAD冷陰極イオンソース、液晶注入装置、有機EL用蒸着装置、その他

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