洗浄後に水染み等を確実に排除し、短時間の仕上げを実行します。
ガラス基板に付着してHFE水切り乾燥装置に持ち込まれる「水」の大半は比重分離により装置外へ取り出されます。
HFE溶剤に過飽和に溶け込んだ水分は「水分除去装置」により、装置外へ確実に取り除きます。
付着した大量の“水”はHFE液面に急速に浮上します。
【特徴】
○乾燥に必要なエネルギー消費量が大幅に削減
○洗浄スピードが向上
○HFE溶剤中に含まれる微量の水分を確実に取り除く
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基本情報洗浄と乾燥の装置 「レンズ・ガラス基板の水洗浄と乾燥システム」
【HFE溶剤による水切り・乾燥のメカニズム】
(1)洗浄されたガラス基板は水を付着したまま、HFE溶剤中に浸漬
(2)ガラス基板に付着した水は超音波の作用と純水と溶剤との密度差
により、簡単にガラス基板から剥離され、HFE液面に急浮上
(3)HFE液面に浮上した水は、HFE液面から水分離槽へ
(4)ガラス基板はHFE溶剤から引き上げられ、HFE溶剤の蒸気中で蒸気洗浄
(5)ガラス基板は乾燥層へ。ガラス基板に付着したHFE溶剤を除去
(6)乾燥完了
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