ブルーオーシャンテクノロジー株式会社 実験用エキシマUV照射装置
- 最終更新日:2016-12-12 13:59:00.0
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【特徴】
・高照度RF放電方式による高照度、高い均一性
・照射面に電極や石英窓がない、ランプ管面直接照射
・真空環境内でもエキシマランプの点灯可
・独自のスリッドホルダにより、窒素使用量の大幅削減
・ランプ毎に照度調整が可能
・ランプ有効長:MAX G10サイズまで
【無電極照射ユニット・N2スリッドホルダー構造】
ランプ構造は照射面側に電極を持たない構造の為、光の遮りがなく、透過や反射損失もほとんどなく効率が高い。個々のランプホルダーよりランプ管壁に沿って窒素(CDA)を噴出。効率よくオゾンを生成し少量で均一に酸素濃度の制御が可能
【主な用途】
・ガラス、フィルム、ウエハの洗浄表面改質
・フィルム、ガラス、樹脂、金属等の貼り合わせ
・HDD洗浄、改質、潤滑油硬化
・レジスト除去、アッシング
・チップ、フィルム、基板接合面洗浄
【装置導入事例】
・G8サイズTFT基板成膜前洗浄装置
・ロールtoロール洗浄装置
・レジストアッシング装置
基本情報実験用エキシマUV照射装置
【特徴】
・高照度RF放電方式による高照度、高い均一性
・照射面に電極や石英窓がない、ランプ管面直接照射
・真空環境内でもエキシマランプの点灯可
・独自のスリッドホルダにより、窒素使用量の大幅削減
・ランプ毎に照度調整が可能
・ランプ有効長:MAX G10サイズまで
【無電極照射ユニット・N2スリッドホルダー構造】
ランプ構造は照射面側に電極を持たない構造の為、光の遮りがなく、透過や反射損失もほとんどなく効率が高い。個々のランプホルダーよりランプ管壁に沿って窒素(CDA)を噴出。効率よくオゾンを生成し少量で均一に酸素濃度の制御が可能
【主な用途】
・ガラス、フィルム、ウエハの洗浄表面改質
・フィルム、ガラス、樹脂、金属等の貼り合わせ
・HDD洗浄、改質、潤滑油硬化
・レジスト除去、アッシング
・チップ、フィルム、基板接合面洗浄
【装置導入事例】
・G8サイズTFT基板成膜前洗浄装置
・ロールtoロール洗浄装置
・レジストアッシング装置
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納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | 【特徴】 ・高照度RF放電方式による高照度、高い均一性 ・照射面に電極や石英窓がない、ランプ管面直接照射 ・真空環境内でもエキシマランプの点灯可 ・独自のスリッドホルダにより、窒素使用量の大幅削減 ・ランプ毎に照度調整が可能 ・ランプ有効長:MAX G10サイズまで 【無電極照射ユニット・N2スリッドホルダー構造】 ランプ構造は照射面側に電極を持たない構造の為、光の遮りがなく、透過や反射損失もほとんどなく効率が高い。個々のランプホルダーよりランプ管壁に沿って窒素(CDA)を噴出。効率よくオゾンを生成し少量で均一に酸素濃度の制御が可能 【主な用途】 ・ガラス、フィルム、ウエハの洗浄表面改質 ・フィルム、ガラス、樹脂、金属等の貼り合わせ ・HDD洗浄、改質、潤滑油硬化 ・レジスト除去、アッシング ・チップ、フィルム、基板接合面洗浄 【装置導入事例】 ・G8サイズTFT基板成膜前洗浄装置 ・ロールtoロール洗浄装置 ・レジストアッシング装置 |
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